JPH04363898A - プラズマ生成装置 - Google Patents

プラズマ生成装置

Info

Publication number
JPH04363898A
JPH04363898A JP3139255A JP13925591A JPH04363898A JP H04363898 A JPH04363898 A JP H04363898A JP 3139255 A JP3139255 A JP 3139255A JP 13925591 A JP13925591 A JP 13925591A JP H04363898 A JPH04363898 A JP H04363898A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
hollow pipe
cathode
shield cylinder
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3139255A
Other languages
English (en)
Inventor
Natsuki Takahashi
夏木 高橋
Hideyuki Hiraiwa
秀行 平岩
Osamu Okubo
治 大久保
Yoshio Sunaga
芳雄 砂賀
Masao Iguchi
征夫 井口
Kazuhiro Suzuki
一弘 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Kawasaki Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc, Kawasaki Steel Corp filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP3139255A priority Critical patent/JPH04363898A/ja
Publication of JPH04363898A publication Critical patent/JPH04363898A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ電子銃、イオ
ン源等のプラズマ生成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種プラズマ生成装置として、
図1に示すような、真空中に設けたシールドa内にコイ
ル状のフィラメントbから成る陰極を設けたもの、或い
は図2に示すような、シールドa内に中空パイプcから
成る陰極を設けたものが知られている。これらのシール
ドaには、ガス導入口dとプラズマの出口eとが設けら
れ、該出口eの周囲にソレノイドコイルfを配置し、該
出口eの前方に陽極gが設けられる。hは放電電源であ
る。図1に示す方式のものは、フィラメントbを通電加
熱し、該フィラメントbから放出される熱電子をガス導
入口dから導入したガスに衝突させてシールドa内でプ
ラズマiを発生させ、出口eのソレノイドコイルfによ
りプラズマiを適度に集束させて陽極gによりプラズマ
電子ビームjとして取り出される。また、図2に示す方
式のものは、中空パイプ(中空陰極)cと陽極gとの間
の放電によりシールドa内にプラズマiを発生させる点
が図1の場合と異なり、他は図1の場合と同様である。
【0003】上記の方式以外に、高周波やマイクロ波を
用いてプラズマを生成する方式もあるが、これらの方式
では装置の構造が複雑で高価になる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図1や図2に示したプ
ラズマ生成装置は比較的構造が簡単で安価に製作できる
利点があるが、比較的小容量のものにしか利用できず、
得られるプラズマ電子ビームの最大電流は300A程度
である。これ以上の出力を得ようとすると、陰極からの
電子放出が場所により不均一になるため、陰極上に図4
に示すようなアークスポットが発生し、陰極が溶損して
しまう事故が生じる。更に、小容量であっても、長時間
連続運転を行うと、陰極の消耗に伴ない電子放出が不安
定になり、安定したプラズマ電子ビームが得られなくな
る欠点がある。
【0005】本発明は、こうした事故や欠点がなく、長
時間連続で安定して大容量のプラズマを生成させること
の可能なプラズマ生成装置を提供することを目的とする
ものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、プラズマ生
成のための陰極が中空パイプ状に構成され、その内部へ
ガス導入口が接続され、該中空パイプの外周にこれと同
心で先端にプラズマの出口を形成したシールド円筒を備
え、該シールド円筒の外部の該出口と対向した位置に該
中空パイプと放電電源を介して接続された陽極を設けた
ものに於いて、該シールド円筒の外周に該陰極から安定
して大容量の電子を均一に放出させる磁場を形成制御す
るためのソレノイドコイルを配置することにより、上記
の目的を達成するようにした。
【0007】
【作用】上記ソレノイドコイルに通電し、中空パイプ状
の陰極の周囲にその中心軸と平行な磁場を形成しておき
、放電電源を作動させて中空パイプに中空陰極放電を発
生させる。これにより該中空パイプの近傍にプラズマが
発生するが、プラズマ中の電子は該中空パイプの中心軸
に平行な磁場に拘束され、その結果、該中空パイプの内
外面に高密度のプラズマが発生する。該ソレノイドコイ
ルに流す電流を制御することにより、必要な電子放出面
に均一に上記磁場を形成させることが出来ると共に必要
な電子放出量を得ることが出来、長時間連続して安定な
大容量のプラズマを中空パイプの近傍に生成させること
が可能になる。発生したプラズマは、従来の場合と同様
に、シールド円筒の出口から陽極に向けて引き出される
【0008】
【実施例】本発明の実施例を別紙図面に基づき説明する
と、図3に於いて符号1は真空室の室壁を示し、該室壁
1に固定された真空シール2を挿通して周囲に冷却水路
3を有する水冷陰極ホルダー4が設けられる。該水冷陰
極ホルダー4にはガス導入口5が貫通して設けられ、そ
の先端に例えばTa,W,LaB6 のうちのいずれか
1つまたはこれらを複合した材料から成る中空パイプ6
が内部をガス導入口5に連通させて取り付けられる。該
中空パイプ6は陰極を構成し、その外周には、該パイプ
6と略同心にシールド円筒7が設けられ、該シールド円
筒7はその基部を絶縁物8を介して水冷陰極ホルダー4
に固定される。9はシールド円筒7の先端に開口形成し
たプラズマの出口、10は該出口9と対向する位置に設
けた陽極で、該陽極10は必要ならば環状に形成され、
これと中空パイプ6は放電電源11を介して互いに接続
される。
【0009】以上の構成は、従来の中空陰極形のプラズ
マ発生装置も備えるところであるが、本発明に於いては
、該シールド円筒7の外周に、中空パイプ6の陰極から
安定して大容量の電子を均一に放出させる磁場を形成す
るためのソレノイドコイル12を設けたもので、これに
より、アークスポットを発生することなく長時間に亘り
大容量のプラズマ電子ビームを得ることが出来る。該ソ
レノイドコイル12は環状に形成されてシールド円筒7
を囲むように設けられ、図示の例では一定の間隔を存し
て3個(12a,12b,12c)を配置するようにし
た。
【0010】その作動を説明すると、真空室内を10−
5〜10−2Torrに排気し、放電電源11から高周
波を重畳させた直流電圧を中空パイプ6と陽極10に印
加する。そして極くわずかのArガス等のプラズマソー
スガスをガス導入口5から中空パイプ6内へ流入させる
と、そのガス分子は高周波電場によりイオン化されてプ
ラズマが発生する。該プラズマは、図4のように、電子
、正イオン、中性ガス分子が混在した高温の低圧ガスプ
ラズマで、その正イオンは中空パイプ6の内部をボンバ
ードして該パイプ6の温度を2000〜2100℃に上
昇させ、その結果該パイプ6自体が熱電子を放出するよ
うになり、プラズマ自身の増殖作用で急速に該パイプ6
付近の電子密度が増大する。電子は電子勾配により加速
され、プラズマを通過して陽極10に到達する。
【0011】こうした場合、ソレノイドコイル12a,
12b,12cに適当な電流を流して中空パイプ6の中
心軸に平行な磁場を該パイプ6の周囲に形成すると、該
パイプ6付近の電子は図5に示したサイクロイド運動を
行ない、該パイプ6付近の電子密度はさらに増加する。 該パイプ6の中心軸上の磁場の強度を、図6に示すよう
に、O点からA点の間で均一になるようにし、A点より
以降の反陽極部分では徐々に磁場が弱くなるようにする
と、該パイプ6の面上のO点からA点の間に均一な主電
子放出面が形成され、A点以降の反陽極部分からは殆ど
電子は放出されない。
【0012】また、放出された電子のうち、反陽極方向
の初速度をもつものは、磁場に沿って該パイプ6の中心
軸に対して徐々に外側に発散するので、図3に示したガ
ス導入口5、水冷陰極ホルダー4、絶縁物8、真空シー
ル2等が電子、及び正イオン等の影響を受けて損傷する
危険がなくなる。尚、シールド円筒7から外れた位置に
存するソレノイドコイル12aは、出口9から陽極10
へと流れる電子ビームの集束性を制御する。本発明の構
成に基づき、更に大容量のプラズマを生成する場合には
、該パイプ6の直径を大きくするか、該パイプ6の長さ
を長くするか、或いは該パイプ6の内部に平板を入れる
等の手段で該パイプ6の面積を増やせばよく、コンパク
トな構造で容易に対応が可能である。
【0013】生成したプラズマを電子ビームとして利用
する場合は、ビームの集束も考慮に入れ、100Aのビ
ームに対しては10〜100Gauss、また1500
Aのビームに対しては200〜700Gaussの磁場
を形成する。本発明の装置の電子ビームの出力時に於け
るビームの安定性を評価するため、アークスポット発生
時に起こるビーム電流、及び電圧の瞬間的な変動の回数
をオシロスコープ及び記録計により計測した結果を表1
に示す。
【0014】
【表1】
【0015】この表からわかる通り、本発明の装置によ
れば、従来実用不可能であった300Aの電子ビーム出
力に於いて48時間以上の安定運転が可能になり、更に
1500Aの電子ビーム出力でも48時間以上の安定運
転が実現できた。上記の実施例では、電子銃としての利
用について説明したが、陽極10を環状の中間電極とし
、さらにその外側即ちシールド円筒7とは反対側にイオ
ン引出し用陰極を設ければ、大容量のイオン銃として利
用することができる。
【0016】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、シー
ルド円筒に囲まれた中空パイプ状の陰極を備えたプラズ
マ発生装置に於いて、該シールド円筒の周面に均一な磁
場を形成して大容量の電子を均一に放出させるためのソ
レノイドコイルを設けたので、大電流でアークスポット
を発生させずに安定した大容量のプラズマが長時間に亘
って得られ、その構成も簡単で安価に製作できる等の効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のコイル状フィラメント形のプラズマ発生
装置の説明図
【図2】従来の中空パイプ状陰極形のプラズマ発生装置
の説明図
【図3】本発明の実施例の截断側面図
【図4】中空パイプ状陰極の原理の説明図
【図5】本発
明の実施例の電子の運動の説明図
【図6】本発明の実施
例に於ける中空パイプの周囲の磁場状態の説明図
【符号の説明】
5  ガス導入口 6  中空パイプ 7  シールド円筒 9  出口 10  陽極 11  放電電極

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  プラズマ生成のための陰極が中空パイ
    プ状に構成され、その内部へガス導入口が接続され、該
    中空パイプの外周にこれと略同心で先端にプラズマの出
    口を形成したシールド円筒を備え、該シールド円筒の外
    部の該出口と対向した位置に該中空パイプと放電電源を
    介して接続された陽極を設けたものに於いて、該シール
    ド円筒の外周に該陰極から安定して大容量の電子を均一
    に放出させる磁場を形成制御するためのソレノイドコイ
    ルを配置したことを特徴とするプラズマ生成装置。
  2. 【請求項2】  上記ソレノイドコイルは中空パイプの
    中心軸に平行に磁場を形成する環状のコイルで構成した
    ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ生成装置。
  3. 【請求項3】  上記中空パイプは、Ta,W,LaB
    6 のうちのいずれか1つまたはこれらを複合した材料
    で形成されることを特徴とする請求項1に記載のプラズ
    マ生成装置。
JP3139255A 1991-06-11 1991-06-11 プラズマ生成装置 Pending JPH04363898A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3139255A JPH04363898A (ja) 1991-06-11 1991-06-11 プラズマ生成装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3139255A JPH04363898A (ja) 1991-06-11 1991-06-11 プラズマ生成装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04363898A true JPH04363898A (ja) 1992-12-16

Family

ID=15241046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3139255A Pending JPH04363898A (ja) 1991-06-11 1991-06-11 プラズマ生成装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04363898A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6137231A (en) * 1996-09-10 2000-10-24 The Regents Of The University Of California Constricted glow discharge plasma source

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6137231A (en) * 1996-09-10 2000-10-24 The Regents Of The University Of California Constricted glow discharge plasma source

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4714860A (en) Ion beam generating apparatus
Oks Plasma cathode electron sources: physics, technology, applications
Oks et al. Development of plasma cathode electron guns
US4716491A (en) High frequency plasma generation apparatus
US4785220A (en) Multi-cathode metal vapor arc ion source
US4452686A (en) Arc plasma generator and a plasma arc apparatus for treating the surfaces of work-pieces, incorporating the same arc plasma generator
TWI584331B (zh) 用於產生帶電粒子束之電漿源裝置及方法
Courteille et al. Investigation of a large volume negative hydrogen ion source
JP2002117780A (ja) イオン注入装置用のイオン源およびそのためのリペラ
US4122347A (en) Ion source
JPH058547B2 (ja)
EP0261198B1 (en) Plasma-anode electron gun
JPH04264346A (ja) イオン注入用のプラズマソース装置
IL24630A (en) Annular hollow cathode discharge apparatus
JPH06176725A (ja) イオン源
JPH04235276A (ja) 基板をコーティングするための装置
KR101983294B1 (ko) Bnct 가속기용 대전류 듀오플라즈마트론 이온원의 전극 구성과 그 장치
US4218633A (en) Hydrogen hollow cathode ion source
Kiziridi et al. High-current electron gun with a planar magnetron integrated with an explosive-emission cathode
JPH04363898A (ja) プラズマ生成装置
JP3717655B2 (ja) プラズマ発生装置及び薄膜形成装置
JPH08190995A (ja) 高速原子線源
JP3454389B2 (ja) イオンビーム発生装置のプラズマ加熱方法
JPH0752635B2 (ja) イオン源装置
JPS5740845A (en) Ion beam generator

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010508