JPH04355354A - 欠陥検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、検査対象を走査して得
られる画像信号を用いて欠陥の有無を検査する欠陥検査
装置に関するものである。

【０００２】

【発明の技術的背景】鋼板やプラスチックフィルムや紙
などの表面を光学的に走査して、その表面のキズあるい
は内部の欠陥等を検出する欠陥検査装置が公知である。 ここに従来は検査対象を走査して得た画像信号を予め設
定されたしきい値と比較し、画像信号がこのしきい値を
超えるか又はしきい値より小さいときに欠陥であると判
断していた。

【０００３】しかし一般にこの画像信号は、その出力レ
ベルに大きな変動が伴う場合がある。例えばＣＣＤライ
ンセンサやＣＣＤエリヤセンサで画像を読取る場合には
、これらセンサの各画素の特性の不均一性のためや照明
のむらなどにより、出力レベルが大きく変動する。また
走査ビームの検査対象表面への入射角の変化や光学系へ
の入射角の変化により出力レベルに大きな変動が生じる
。さらに検査対象においても、例えば圧延鋼板などにお
いては欠陥までは至らない圧延時のむらなどの地合の変
化が生じることがあり、このような製造過程で生じる広
い範囲に亘る地合によっても出力レベルの変動が生じる
。

【０００４】このように出力レベルに大きい変動が含ま
れる場合には、しきい値と比較する際にこの大きい変動
の中に欠陥を示す信号が埋もれてしまったり、逆に背景
部分に含まれた単なるノイズを欠陥と判断してしまうこ
とが起る。このため欠陥検出の精度が低下するという問
題があった。

【０００５】そこで微分フィルタを用いて空間フィルタ
リング処理を行い、濃度レベルの大きい変動すなわち低
周波成分を除去することが考えられる。この微分処理を
すると欠陥検出感度が向上するが、逆に検査対象に表れ
る地合により誤検出し易くなるという問題が生じる。そ
こでこの地合には検査対象ごとに特徴的な方向性がある
ことを利用し、この地合の方向と微分フィルタの微分方
向とを揃えることにより誤検出を減らすことが行われて
いる。しかしこの地合の方向を人間の目で検出するのは
面倒である。また、正しい微分方向を決めるのが困難で
あり、この方向が不揃いだとかえって単なる地合をノイ
ズと誤検出し易くなり、検出精度が下がるという問題が
生じる。

【０００６】

【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、微分フィルタによる空間フィルタリング処
理を行う場合に、地合の種類に適する微分方向をもった
微分フィルタを設定可能として、欠陥を高精度に検出す
ることができる欠陥検査装置を提供することを目的とす
るものである。

【０００７】

【発明の構成】本発明によればこの目的は、検査対象を
走査して得た画像信号を用いて検査対象の欠陥を検出す
る欠陥検査装置において、走査により得たアナログ画像
信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段と、この
デジタル化された濃度信号を微分フィルタにより空間フ
ィルタリング処理する空間フィルタリング手段と、所定
領域の主走査方向における画素間の濃度の差分と副走査
方向における画素間の濃度の差分とを求める差分演算手
段と、これら差分のヒストグラムを求めるヒストグラム
手段と、主・副走査方向に対するヒストグラムから地合
の特徴を判別する地合特徴判別手段と、この微分処理し
た信号を所定のしきい値と比較して欠陥を検出する欠陥
検出手段とを備え、判別した前記地合の特徴に基づいて
前記空間フィルタリング手段で用いる微分フィルタを設
定可能としたことを特徴とする欠陥検査装置、により達
成される。

【０００８】ここに用いる微分フィルタの選定は、地合
特徴判別手段の出力結果に基づいて手動で行ってもよい
のは勿論であるが、この選定を自動で行うのが望ましい
。例えば微分方向が異なる複数の微分フィルタをメモリ
しておき、地合特徴判別手段での判別結果に基づいて地
合の方向に適合した微分フィルタを自動で選定するよう
に構成することができる。またヒストグラムは、例えば
主・副走査方向の隣接する画素間あるいは所定数おきの
画素間の濃度の差分を用いたり、平均濃度との差分を用
いて求めたヒストグラムにより判別することが可能であ
る。ここに差分の絶対値や、差分の２乗を用いることが
できる。

【０００９】

【作用】画像濃度信号はデジタル化されて微分フィルタ
により微分されるから、信号に含まれる出力レベルの大
きい変動、すなわち低周波成分が除去される。このため
背景部分に対応する領域の出力レベルがほぼ一定に保た
れる。この微分後の信号をしきい値と比較することによ
り欠陥を高精度に検出することができる。

【００１０】ここに地合特徴判別手段は画素濃度の差分
を用いたヒストグラムから地合の特徴を判別し、これに
応じて用いる微分フィルタを選定可能としたから、この
微分フィルタを検査対象の地合の特徴に適合させること
により検査精度は向上する。

【００１１】

【実施例】図１は本発明の第１の実施例のブロック図、
図２は画像信号等の出力波形図、図３は空間フィルタリ
ング処理の説明図、図４は微分フィルタの一例を示す図
、図５は濃度変換テーブルの一例を示す図、図６は地合
を判別する領域を示す図、図７は地合特徴判別モードの
動作流れを示す図、図８は地合特徴判別モードの動作流
れ図、図９と図１０はヒストグラムのパターン例を示す
図である。

【００１２】図１において、符号５０は鋼板、紙、プラ
スチックフィルムなどの検査対象であり、この検査対象
５０は供給ロール５２から巻取りロール５４に送られる
。この巻取りロール５４は巻取りモータ５６により駆動
される。この検査対象５０の送り中にフライングスポッ
ト方式による画像検出手段５８によって表面の画像が読
取られる。この画像検出手段５８は、レーザー光源６０
から射出されるレーザ光からなる走査ビームＬを、モー
タ６２により回転される回転ミラー（ポリゴナルミラー
）６４によって検査対象５０の幅方向に一定の角速度で
走査（主走査）する一方、検査対象５０の表面による反
射光を受光ロッド６６によって一対の受光器６８（６８
ａ、６８ｂ）に導いて受光するものである。

【００１３】すなわち受光ロッド６６は走査ビームＬの
主走査ライン７０に近接してこれに平行に配設され、反
射光を受光すると受光ロッド６６の内面で全反射させて
その両端に導き、フォトマルチプライヤ（光電子増倍管
）などの受光器６８により受光量が検出される。各受光
器６８が出力する画像信号はプリアンプ、メインアンプ
で増幅され、また波形整形されて図２に示すアナログ画
像信号ａ１　、ａ２　となる。各信号ａ１　、ａ２　に
は、異なる主走査ライン７０に対応する連続信号が、時
間軸方向に一定時間毎に現れている。この図２でｄ１１
、ｄ１２、ｄ２１、ｄ２２は検査対象５０の表面の欠陥
に対応する。

【００１４】各信号ａ１　、ａ２　は走査ビームＬの主
走査ライン７０上の走査位置から遠くなるとレベルが低
下し、反対に走査位置に近くなるとレベルが上昇するよ
うに変化する。そこでこの実施例では、両信号ａ１　、
ａ２　は加算手段７２で加算され、主走査ライン７０上
の走査位置の変化による影響が除去されて信号ａ３　と
なる。この信号ａ３　は、走査ビームＬの検査対象５０
の表面への入射角度の変化、検査対象５０表面の地合い
ムラ、導光ロッド６６内での減衰などのために、図２に
示すようにその出力レベルが大きく湾曲していることが
ある。

【００１５】この加算された信号ａ３　はＡ／Ｄ変換手
段７４においてデジタル信号ａ４　に変換される。例え
ば２５６階調の濃度信号ａ４　に変換される。そしてラ
インメモリ７６にメモリされる。

【００１６】このラインメモリ７６は主走査ラインの画
素数Ｎと後記する空間フィルタよりも大きい行数Ｍとの
積（Ｎ×Ｍ）に等しい記憶容量を持ち、検査幅ゲート信
号に同期して一主走査毎にデジタル画像信号ａ４　を記
憶する。すなわちラインメモリ７６の記憶領域が一杯に
なると最も古いデータの上に順次上書きしてゆくリング
バッファ構造を持つ。ここに検査幅ゲート信号は回転ミ
ラー６４の回転に同期して一主走査内の検査幅を示すも
のである。また、このラインメモリの代りに、１ライン
づつｎライン分信号ａ３　をディレイさせるディレイ回
路で代用させることもできる。

【００１７】次にこのラインメモリ７６の信号ａ５　に
は、空間フィルタリング手段７８において微分フィルタ
による空間フィルタリング処理が施される。この微分処
理は例えば図３に示すように処理対象画像の各画素毎に
この画素を中心とした例えば３ｘ３領域に空間フィルタ
Ｆを重ね合せ、対応する画素同志の積を求め、それらの
総和を出力値とする。この操作を左上の画素から右下の
画素までラスタ走査順に行うものである。

【００１８】このフィルタリング処理に用いる空間フィ
ルタとしては、例えば図４に示すような重み係数を持っ
たフィルタの１つまたは２つを選定して採用することが
できる。ここに用いるフィルタは、行方向微分用のフィ
ルタΔｘｆと列方向微分用のフィルタΔｙｆとこれらの
和からなるフィルタや、マスクサイズが異なるフィルタ
など種々のものから選定でき、これらの微分フィルタは
、予め微分フィルタメモリ１０２に種々のものがメモリ
され、後記する地合特徴判別手段１００により地合に最
適なフィルタが選定される。

【００１９】このようなフィルタリング処理の結果、画
像のχおよびｙ方向の輪郭が強調され、その後の欠陥検
出精度が向上する。ここにＡ／Ｄ変換した信号を所定の
濃度変換テーブルを用いて濃度変換する濃度変換手段８
２を設け、この濃度変換後の信号をラインメモリ７６を
介して空間フィルタリング手段７８に入力し空間フィル
タリング処理するようにしてもよい。

【００２０】この場合Ａ／Ｄ変換された後の信号ａ４　
は濃度変換手段８２で濃度変換される。そして濃度変換
された信号はフレームメモリ８４に移されてからテレビ
モニタ８６に表示される。ここで濃度変換手段８２に用
いる変換テーブルは例えば図５に示す特性のものが用い
られる。この図５において横軸はＡ／Ｄ変換手段７４か
ら出力されこの濃度変換手段８２に入力される濃度信号
ｘの濃度を示し、縦軸は出力される濃度変換後の濃度信
号Ｘを示す。これら濃度信号ｘ、Ｘは例えば２５６階調
とされる。またこのテーブルは、背景濃度ｃを挟む両側
に一定濃度幅ａ内で一定濃度（例えば中間の濃度１２７
）とし、この幅ａの外では傾きｂをもって最大（２５５
）および最小濃度（０）に変換するものである。

【００２１】この実施例では手動設定手段８８によって
このテーブルの設定値ａ、ｂ、ｃが変更可能となってい
る。すなわち操作者はテレビモニタ８６の画像を見なが
ら背景領域のノイズが消えるようにこの設定手段８８を
操作する。

【００２２】一方空間フィルタリング手段７８で処理を
した信号ｙは、信号Ｘもしくはａ４にあった低周波成分
が除去されて欠陥の部分が強調されている。欠陥検出手
段９０はこの信号ｙをしきい値ｖ１　、ｖ２　と比較し
、ｙ＞ｖ１　またはｙ＜ｖ２　（図５参照）の時に欠陥
と判断する。この濃度のしきい値ｖ１　、ｖ２　による
欠陥判断に代え、処理対象画素を中心とする一定のサイ
ズ（個数しきい値マスクサイズ）にある各画素に対して
、この濃度しきい値ｖ１　を超えたまたはｖ２　以下と
なった画素の数（画素数しきい値）がある一定数（例え
ば４）以上あれば、この処理対象となった画素の値を１
に、そうでなければ０として欠陥を判別するようにする
ことも可能である。

【００２３】この欠陥を示す信号ｚはアドレス判別手段
９２に送られ、この欠陥のアドレスＡｄが求められる。 このアドレスＡｄは速度検出器（パルスジェネレータ）
５７、モータ６２の回転角から求めるが、信号処理の間
の時間遅れがあるのでその時間を考慮して求める必要が
ある。例えばラインメモリ７６やフレームメモリ８４に
は信号ａ４　、Ｘと共に信号の座標を同時にメモリして
おき、欠陥の座標をこれらメモリ７６、８４から求める
ようにしてもよい。この結果はプリンタなどの記録手段
９４に記録される。

【００２４】次に空間フィルタリング手段７８で用いる
微分フィルタを選定する過程を図６〜１０に基づいて説
明する。このフィルタの選定は地合の方向を判別するこ
とにより行われ、この地合の検査は、図６に示すように
検査対象５０の送り方向の先頭側中央付近に設定したｎ
×ｍ画素からなる所定領域Ａを用いて行われる。この領
域Ａの主走査方向（ｘ方向）の画素数ｎは例えば２５６
に設定され、また副走査方向（ｙ方向）の画素数ｍすな
わちライン数ｍは例えば３２とされる。前記ラインメモ
リ７６の記憶可能なライン数Ｍはこのライン数ｍより大
きいか等しい。なおこの領域Ａ内の画素（ｐ、ｑ）の濃
度はＦｐ、ｑ　とする。

【００２５】この地合判別のモードでは（図８、ステッ
プ２００）、差分演算手段９６（図１）において領域Ａ
内にある画素の濃度Ｆｐ、ｑ　がラインメモリ７６から
読出され、その主走査方向および副走査方向の隣接する
画素の濃度差すなわち濃度の差分Δの絶対値｜Δ｜が求
められる（ステップ２０２）。図７はその主走査方向の
演算過程の概念を示すものである。

【００２６】まず最初のライン０（ｉ＝０）に対する各
画素０〜２５５の濃度ＦはＦ０、０　〜Ｆ０、２５５　
で表され、隣同志の画素の濃度の差分Δｊ　の絶対値｜
Δｊ　｜が求められる。｜Δｊ｜＝｜Ｆ０、ｊ−１　−
Ｆ０、ｊ　｜この演算を各画素ｊ＝１〜２５５および各
ラインｉ＝０〜３１に対して繰り返す。この時求めた差
分の数は、（Ｌｘ　−１）×Ｌｙ　＝ｐｘ　である。こ
こにＬｘ　、Ｌｙ　はそれぞれ主・副走査方向の画素数
である。次にヒストグラム手段９８は、このｐｘ　個の
絶対値｜Δｊ　｜によりヒストグラムＸ（図９、１０）
を求める（ステップ２０４）。

【００２７】同様に差分演算手段９６で副走査方向の差
分Δｉ　の絶対値｜Δｉ　｜が求められる（ステップ２
０２）。その数はｐｙ　＝（Ｌｙ　−１）Ｌｘ　である
。そしてこの結果を用いてヒストグラム手段９８はヒス
トグラムＹ（図９、１０）を求める（ステップ２０４）
。

【００２８】これらのヒストグラムＸ、Ｙを比較するこ
とにより地合特徴判別手段１００は地合の方向などの特
徴を判別する。例えば図９に示すようにＸ方向（主走査
方向）に長く輪郭が明確な地合に対しては、ヒストグラ
ムＸ、Ｙは差分Δが０の位置の第１の山Ｐ１　と、地合
の輪郭におけるコントラストに相当する位置（｜Δ｜＝
α０　）の第２の山Ｐ２　とを持つ。なおこの図で縦軸
Ｐは頻度を示す。そしてＹ方向の差分｜Δｉ　｜の方が
地合の輪郭を横断する回数がないから、ヒストグラムＹ
の第２の山Ｐ２　はヒストグラムＸの第２の山Ｐ２　よ
りも高くなる。このことから、第２の山Ｐ２　の高さを
比較することにより地合の方向を判別できる。なお実線
で示した第１の山Ｐ０　は地合が無い場合である。

【００２９】図８のステップ２０６、２０８はこの第２
の山Ｐ２　が有ることを判別し、ステップ２１０はこの
山Ｐ２　がヒストグラムＹの方が大きい場合に（Ｘ＜Ｙ
）Ｘ方向の地合と判断し（ステップ２１２）、Ｘ方向の
微分フィルタΔｘ　ｆを選定することを示す（ステップ
２１４）。

【００３０】また反対に山Ｐ２　はヒストグラムＸがＹ
より大きければＹ方向の地合であるとして（ステップ２
１６）Ｙ方向の微分フィルタΔｙｆを選定する（ステッ
プ２１８）。第２の山Ｐ２　にはＹの山だけがありＸの
山が無ければ（ステップ２０６、２２０）、Ｘ方向の地
合であり（ステップ２１２）、反対にＸの山だけがある
場合には（ステップ２０６、２０８）Ｙ方向の地合であ
る（ステップ２１６）。

【００３１】Ｘ、Ｙ共に第１の山Ｐ１　のみを有する場
合には（ステップ２２２）、地合は二次元に均等に広が
っているものとして（ステップ２２４）、ＸＹの両方向
の微分を行うフィルタ（Δｘ　ｆ＋Δｙ　ｆ）を選定す
る（ステップ２２６）。なおこの図９の例のように山Ｐ
１　、Ｐ２　が明確に表れる場合には、両山Ｐ１　、Ｐ
２　の間にしきい値βを求め、これを平均濃度に加算ま
たは減算することにより、前記欠陥検出手段９０で用い
る濃度しきい値ｖ１　、ｖ２　とすることができる。

【００３２】図１０に示すように地合のコントラスト変
化が小さくかつ輪郭が不明瞭でＹ方向に長い場合には、
ヒストグラムＸ、Ｙの第１の山Ｐ１　は幅が広がる。こ
の幅はＸの方が広くなるから、両者Ｘ、Ｙの幅α１　、
α２　を比較することにより地合の方向を判別できる。

【００３３】以上の実施例はＸ、Ｙ方向の隣接する画素
濃度の差分の絶対値を用いているが、本発明はこれに限
定されない。例えば１つおきあるいは２以上おきに選ん
だ画素間の差分の絶対値を用いて前記と同様にＸ方向お
よびＹ方向のヒストグラムＸ、Ｙを求めてもよい。この
場合には、地合の濃度が数画素に亘って緩やかに変化す
る場合に差分およびその絶対値を大きくし、地合の特徴
を強調して判別することが可能である。

【００３４】また隣接する画素間の差分、あるいは所定
数おきの画素間の差分の２乗を用いてヒストグラムＸ、
Ｙを求め、これらＸ、Ｙを用いて比較することも可能で
あり、この場合には不明瞭な地合や薄い地合を一層強調
して判別することができる。さらに所定範囲の平均濃度
と各画素濃度との差分を求め、この差分の絶対値や２乗
によってヒストグラムＸ，Ｙを求め地合を判別すること
もできる。以上の実施例はヒストグラムとの山の数、第
２の山の高さ、第１の山の広がりを用いているが、本発
明はこれに限られない。すなわちヒストグラムの山の位
置、山の面積など他の条件を用いて地合の特徴を判別す
るものであってもよい。

【００３５】また前記のように画素間の差分や平均濃度
との差分を用いて求めたヒストグラムＸ、Ｙのパタ−ン
の広がり度合いは、地合の明瞭さや大きさを示す指標と
もなるものである。従ってこのことを利用してマスクサ
イズが異なる微分フィルタを選定するようにしてもよい
。例えばヒストグラムＸ、Ｙの第１の山Ｐ１　の広がり
が大きく第２の山Ｐ２　が不明瞭な時は、地合が不明瞭
であったり大きい模様の地合と考えられるから、欠陥判
別手段９０で用いるしきい値ｖ１　、ｖ２　を小さくし
たり、しきい値マスクサイズを５×５、７×７などと大
きくしたり、画素数しきい値を増減することなどが考え
得る。

【００３６】このようにして地合の特徴が求められると
、この特徴に適する微分フィルタが微分フィルタメモリ
１０２から選定され、以後空間フィルタリング手段７８
はこの選定された微分フィルタを用いて通常の欠陥判別
処理（図８、ステップ２２８）を行う。

【００３７】以上の実施例はレーザ光で検査対象表面を
走査するフライングスポット方式のものであるが、検査
対象をその幅方向に配置した棒状光源で照射し、その反
射光を回転ミラーを介して受光器で読取るフライングイ
メージ方式のもの、あるいはラインセンサやエリヤセン
サにより画像を読取る方式のもの等であってもよい。

【００３８】以上の各実施例では検査対象の表面に表れ
た欠陥を検出するものとして説明しているが、本発明は
表面を走査することにより内部の欠陥を検出するものも
包含する。例えば鋼板の内部欠陥を磁気光学効果を用い
て検出するものであってもよい。これは、被検査材を交
流磁界で磁化した時の欠陥からの漏れ磁界を反射光の偏
光の変化として検出するものである。

【００３９】

【発明の効果】本発明は以上のように、画像濃度信号を
微分フィルタにより空間フィルタリング処理し、この微
分処理した信号を所定のしきい値と比較することにより
欠陥を検出する場合に、画素の濃度の差分を用いて主・
副走査方向にヒストグラムを別々に求め、このヒストグ
ラムのパタ−ンから地合の特徴を判別し、用いる微分フ
ィルタを選定するものであるから、地合に応じた最適な
微分フィルタを用いて欠陥を高精度に判別することがで
きる（請求項１）。この場合判別した地合方向に対応し
て、微分方向が異なる複数の微分フィルタからいずれか
を手動あるいは自動で選定するように構成することがで
きる（請求項２）。

【００４０】ここに地合の判別は、画素濃度の主・副走
査方向のそれぞれの差分の絶対値によるヒストグラムを
比較することにより行うことができる（請求項３）。ま
た適宜領域の平均濃度と各画素濃度との差分の絶対値や
、差分の２乗のヒストグラムを求めて判別してもよい（
請求項４、５）。なお地合の判別は、ヒストグラムの山
の数、山の位置、山の高さ、山の面積、山の幅などのい
ずれかを用いて行うことができる（請求項６）。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例のブロック図

【図２】画
像信号等の出力波形図

【図３】空間フィルタリング処理の説明図

【図４】微分
フィルタの一例を示す図

【図５】濃度変換テーブルの一例を示す図

【図６】地合
判別領域を示す図

【図７】地合判別の一例を示す概念図

【図８】地合特徴判別モードの動作流れ図

【図９】ヒス
トグラムのパタ−ン例を示す図

【図１０】ヒストグラム
の他のパタ−ン例を示す図

【符号の説明】

１０　　検査対象 ７４　　Ａ／Ｄ変換手段 ７８　　空間フィルタリング手段 ９６　　差分演算手段 ９８　　ヒストグラム手段 １００　　地合特徴判別手段 １０２　　微分フィルタメモリ手段

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　検査対象を走査して得た画像信号を用
   いて検査対象の欠陥を検出する欠陥検査装置において、
   走査により得たアナログ画像信号をデジタル信号に変換
   するＡ／Ｄ変換手段と、このデジタル化された濃度信号
   を微分フィルタにより空間フィルタリング処理する空間
   フィルタリング手段と、所定領域の主走査方向における
   画素間の濃度の差分と副走査方向における画素間の濃度
   の差分とを求める差分演算手段と、これら差分のヒスト
   グラムを求めるヒストグラム手段と、主・副走査方向に
   対するヒストグラムから地合の特徴を判別する地合特徴
   判別手段と、この微分処理した信号を所定のしきい値と
   比較して欠陥を検出する欠陥検出手段とを備え、判別し
   た前記地合の特徴に基づいて前記空間フィルタリング手
   段で用いる微分フィルタを設定可能としたことを特徴と
   する欠陥検査装置。
2. 【請求項２】　　微分方向性が異なる複数の微分フィル
   タをメモリする微分フィルタメモリ手段を備え、前記地
   合特徴判別手段は地合の方向に対応する１つの微分フィ
   ルタを選定し、前記空間フィルタリング手段はこの選定
   された微分フィルタを用いて処理する請求項１の欠陥検
   査装置。
3. 【請求項３】　　差分演算手段は、隣接あるいは所定数
   おきの画素間の差分の絶対値を求め、ヒストグラム手段
   はこの絶対値のヒストグラムを求める請求項１の欠陥検
   査装置。
4. 【請求項４】　　差分演算手段は、平均濃度と各画素濃
   度との差分の絶対値を求め、ヒストグラム手段はこの絶
   対値のヒストグラムを求める請求項１の欠陥検査装置。
5. 【請求項５】　　差分演算手段は、差分の絶対値に代え
   て差分の２乗によりヒストグラムを求める請求項３また
   は４の欠陥検査装置。
6. 【請求項６】　　地合特徴判別手段は、主・副走査方向
   に対する各ヒストグラムの山の数、山の位置、山の高さ
   、山の面積、山の幅の少くともいずれか１つを用いて判
   別する請求項１〜６のいずれかの欠陥検査装置。