JPH04349149A - 光学素子の製造法及び製造装置 - Google Patents
光学素子の製造法及び製造装置Info
- Publication number
- JPH04349149A JPH04349149A JP12085391A JP12085391A JPH04349149A JP H04349149 A JPH04349149 A JP H04349149A JP 12085391 A JP12085391 A JP 12085391A JP 12085391 A JP12085391 A JP 12085391A JP H04349149 A JPH04349149 A JP H04349149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- optical
- ion beam
- manufacturing
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カメラ、ＯＡ機器、ビ
デオカメラ、光学測定機器等の光学系に使用されるレン
ズなどの光学素子を製造するに好適な方法及びかかる製
造方法を実施するに好適な製造装置に関する。
デオカメラ、光学測定機器等の光学系に使用されるレン
ズなどの光学素子を製造するに好適な方法及びかかる製
造方法を実施するに好適な製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、各種の光学系における光学素子は
、その仕様が高度化しまた光学性能の向上が求められて
いるばかりでなく、光学系の小型化、軽量化、コストダ
ウンの要求によって、非球面レンズが多く用いられるよ
うになってきている。こうした非球面レンズを工業的に
量産するに当たっては、軽量なプラスチックを用いてモ
ールド成形を行なう方法があり、また球面の硝子レンズ
の表面に非球面形状のプラスチック層を形成して複合レ
ンズを製造する方法がある。しかしこれらの方法では大
量生産が可能ではあるものの、プラスチックは硬度が低
くまた環境の変化によって劣化し易いという問題がある
。
、その仕様が高度化しまた光学性能の向上が求められて
いるばかりでなく、光学系の小型化、軽量化、コストダ
ウンの要求によって、非球面レンズが多く用いられるよ
うになってきている。こうした非球面レンズを工業的に
量産するに当たっては、軽量なプラスチックを用いてモ
ールド成形を行なう方法があり、また球面の硝子レンズ
の表面に非球面形状のプラスチック層を形成して複合レ
ンズを製造する方法がある。しかしこれらの方法では大
量生産が可能ではあるものの、プラスチックは硬度が低
くまた環境の変化によって劣化し易いという問題がある
。
【０００３】一方硝子材料はプラスチック材料のような
欠点はないが、直接に精密研削及び研磨加工を行なって
製作する方法では、加工設備や加工技術に高度なものが
要求されてコスト高となるばかりでなく量産性も良くな
いから、少量の特殊な製品を製造するような場合にしか
利用しにくい。従って、硝子材料をモールド内に圧入し
て非球面形状を持つ光学素子を製造する方法が採用され
ることが多くなっている。
欠点はないが、直接に精密研削及び研磨加工を行なって
製作する方法では、加工設備や加工技術に高度なものが
要求されてコスト高となるばかりでなく量産性も良くな
いから、少量の特殊な製品を製造するような場合にしか
利用しにくい。従って、硝子材料をモールド内に圧入し
て非球面形状を持つ光学素子を製造する方法が採用され
ることが多くなっている。
【０００４】かかる硝子モールド法によって特に精密な
非球面レンズを得ようとすると、硝子材料を予め切断、
研削又は研磨加工するなどの前加工を行なうことにより
、所定の寸法とした成形用素材を用いなければならない
。そして若し成形用素材の表面に粗面などの欠陥が残っ
ていると成型後にも欠陥が残るので、一般には成形用素
材を更に精密研磨加工してＲｍａｘ ０．０３μｍ以下
とする必要がある。しかし研磨加工した面には、研磨材
が付着して残っていたり加工変質層が残ることがあるか
ら、更にこれらを取り除くためには弗酸系や燐酸系のエ
ッチング液で化学的エッチング処理するか、又は超音波
洗浄する等の方法で、成形用素材の表面を清浄化するこ
とが行なわれている。
非球面レンズを得ようとすると、硝子材料を予め切断、
研削又は研磨加工するなどの前加工を行なうことにより
、所定の寸法とした成形用素材を用いなければならない
。そして若し成形用素材の表面に粗面などの欠陥が残っ
ていると成型後にも欠陥が残るので、一般には成形用素
材を更に精密研磨加工してＲｍａｘ ０．０３μｍ以下
とする必要がある。しかし研磨加工した面には、研磨材
が付着して残っていたり加工変質層が残ることがあるか
ら、更にこれらを取り除くためには弗酸系や燐酸系のエ
ッチング液で化学的エッチング処理するか、又は超音波
洗浄する等の方法で、成形用素材の表面を清浄化するこ
とが行なわれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところがかかる清浄化
方法を化学的に弱い硝子や硬度の低い硝子に対して適用
すると、曇りが発生したり潛傷が生じたりするという問
題があり、更には光学的機能膜を設けたときに付着力が
低下する原因などにもなっていた。
方法を化学的に弱い硝子や硬度の低い硝子に対して適用
すると、曇りが発生したり潛傷が生じたりするという問
題があり、更には光学的機能膜を設けたときに付着力が
低下する原因などにもなっていた。
【０００６】本発明は上述の事情に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところは使用する光学硝子材
料がどのようなものであっても曇りや潛傷を発生させず
、また光学的機能膜の付着力を低下させることのない光
学素子の製造法を提供することにあり、更にはかかる方
法を実施するに適した装置を提供することにある。
であって、その目的とするところは使用する光学硝子材
料がどのようなものであっても曇りや潛傷を発生させず
、また光学的機能膜の付着力を低下させることのない光
学素子の製造法を提供することにあり、更にはかかる方
法を実施するに適した装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
硝子モールド法によって成形された光学素子の表面を、
清浄化するに充分な条件下にイオンビームに暴露するこ
とを特徴とする光学素子の製造法によって達成すること
ができる。
硝子モールド法によって成形された光学素子の表面を、
清浄化するに充分な条件下にイオンビームに暴露するこ
とを特徴とする光学素子の製造法によって達成すること
ができる。
【０００８】そして、このような光学素子の清浄化を行
なうに適した装置として、密閉可能な真空槽中にイオン
ビーム発生装置と電子放射装置とを光学素子固定装置に
対向するよう設けたことを特徴とする光学素子の製造装
置が提供される。
なうに適した装置として、密閉可能な真空槽中にイオン
ビーム発生装置と電子放射装置とを光学素子固定装置に
対向するよう設けたことを特徴とする光学素子の製造装
置が提供される。
【０００９】本発明の方法によれば、先ず硝子材料に予
め通常の方法によって切断、研削又は研磨加工を施し、
得た成形用素材を清浄化処理することなく硝子モールド
法によってプレス成型して光学素子成形体を得る。次い
で図１に示すような清浄化装置のチャンバ内の光学素子
固定装置２にこの光学素子成形体１を取り付け、真空に
排気したのちイオンビーム発生装置３にアルゴンを導入
して光学素子成形体１にアルゴンイオンビームを照射す
ると同時に、電子放射装置４から電子シャワーを放射し
て蓄積する電荷を中和する。このようなイオンビーム照
射は、光学素子成形体１の表面の清浄化が達成されるに
充分な条件下で行なうが、かかる条件は適用する光学素
子成形体の表面状態等に応じて予め予備試験を行なった
うえで、決定しておくことが望ましい。
め通常の方法によって切断、研削又は研磨加工を施し、
得た成形用素材を清浄化処理することなく硝子モールド
法によってプレス成型して光学素子成形体を得る。次い
で図１に示すような清浄化装置のチャンバ内の光学素子
固定装置２にこの光学素子成形体１を取り付け、真空に
排気したのちイオンビーム発生装置３にアルゴンを導入
して光学素子成形体１にアルゴンイオンビームを照射す
ると同時に、電子放射装置４から電子シャワーを放射し
て蓄積する電荷を中和する。このようなイオンビーム照
射は、光学素子成形体１の表面の清浄化が達成されるに
充分な条件下で行なうが、かかる条件は適用する光学素
子成形体の表面状態等に応じて予め予備試験を行なった
うえで、決定しておくことが望ましい。
【００１０】イオンビーム照射後の清浄化された光学素
子成形体１は、必要に応じて引き続いて光学的機能膜を
表面上に形成することができる。これにはチャンバ内に
設けられた成膜材料５を電子ビーム発生装置６などによ
って加熱し、成膜材料５を光学素子成形体１の表面上に
堆積させる方法を利用するのが適当である。
子成形体１は、必要に応じて引き続いて光学的機能膜を
表面上に形成することができる。これにはチャンバ内に
設けられた成膜材料５を電子ビーム発生装置６などによ
って加熱し、成膜材料５を光学素子成形体１の表面上に
堆積させる方法を利用するのが適当である。
【００１１】
【作用】本発明の光学素子の製造法によれば、光学素子
成形体の表面に残る研磨材や加工変質層が除去されて、
表面部分に欠陥がなく清浄な面を持った光学素子が得ら
れ、更に高い付着力を有する光学的機能膜を形成するこ
とができる。
成形体の表面に残る研磨材や加工変質層が除去されて、
表面部分に欠陥がなく清浄な面を持った光学素子が得ら
れ、更に高い付着力を有する光学的機能膜を形成するこ
とができる。
【００１２】
【実施例】光学硝子（ＳＦＳ９、屈折率：１．８４６６
６、分散：２３．８３）を凸メニスカス形状に粗研削と
精密研削及び研磨加工によって前加工し、次いでこれを
硝子モールド法によって外径１８ｍｍ、曲率１５．６及
び４２．７ｍｍのレンズ形状に成型して光学素子成形体
１を得た。
６、分散：２３．８３）を凸メニスカス形状に粗研削と
精密研削及び研磨加工によって前加工し、次いでこれを
硝子モールド法によって外径１８ｍｍ、曲率１５．６及
び４２．７ｍｍのレンズ形状に成型して光学素子成形体
１を得た。
【００１３】この光学素子成形体１を清浄化装置の光学
素子固定装置２に取り付け、１×１０−５Ｔｏｒｒまで
排気し、アルゴンガスを導入して３×１０−５Ｔｏｒｒ
とし、加速電圧１０００Ｖ、イオン電流密度７０〜１０
０μｍ／ｃｍ２ の照射条件でのイオンビーム清浄化と
電子シャワー照射を１０分間行なった。更に続いてこの
光学素子成形体１を約２８０℃に加熱してその表面に厚
さ１３０ｎｍのフッ化マグネシウム層を成膜し、光学素
子Ａを得た。
素子固定装置２に取り付け、１×１０−５Ｔｏｒｒまで
排気し、アルゴンガスを導入して３×１０−５Ｔｏｒｒ
とし、加速電圧１０００Ｖ、イオン電流密度７０〜１０
０μｍ／ｃｍ２ の照射条件でのイオンビーム清浄化と
電子シャワー照射を１０分間行なった。更に続いてこの
光学素子成形体１を約２８０℃に加熱してその表面に厚
さ１３０ｎｍのフッ化マグネシウム層を成膜し、光学素
子Ａを得た。
【００１４】一方、前記と同様にして成型した光学素子
成形体を超音波洗浄し、充分乾燥したのち前記と同様に
厚さ１３０ｎｍのフッ化マグネシウム層を成膜して、光
学素子Ｂを得た。
成形体を超音波洗浄し、充分乾燥したのち前記と同様に
厚さ１３０ｎｍのフッ化マグネシウム層を成膜して、光
学素子Ｂを得た。
【００１５】これらの光学素子Ａ及びＢについて表面を
顕微鏡で観察したところ、本発明の光学素子Ａでは何等
の異常も認められなかったのに対し、対照例の光学素子
Ｂでは潛傷と曇りとが発生していた。また、５重量％の
食塩水に室温で２時間浸漬し、水洗乾燥したのち表面を
顕微鏡で観察したところ、本発明の光学素子Ａでは何等
の異常も認められなかったのに対し、対照例の光学素子
Ｂでは一部に剥離が発生していた。
顕微鏡で観察したところ、本発明の光学素子Ａでは何等
の異常も認められなかったのに対し、対照例の光学素子
Ｂでは潛傷と曇りとが発生していた。また、５重量％の
食塩水に室温で２時間浸漬し、水洗乾燥したのち表面を
顕微鏡で観察したところ、本発明の光学素子Ａでは何等
の異常も認められなかったのに対し、対照例の光学素子
Ｂでは一部に剥離が発生していた。
【００１６】
【発明の効果】本発明の光学素子の製造法によれば、光
学素子を成形したのちにその表面をイオンビームによっ
て清浄化するとともに光学的機能膜の成膜準備作業も完
了するので、従来の清浄化方法に較べて格段に作業が簡
素化されるばかりでなく、欠陥のない高品質の光学素子
を生産することができる効果がある。
学素子を成形したのちにその表面をイオンビームによっ
て清浄化するとともに光学的機能膜の成膜準備作業も完
了するので、従来の清浄化方法に較べて格段に作業が簡
素化されるばかりでなく、欠陥のない高品質の光学素子
を生産することができる効果がある。
【図１】本発明の光学素子の製造装置の構成を示す概略
図である。
図である。
１ 光学素子成形体
２ 光学素子固定装置
３ イオンビーム発生装置
４ 電子放射装置
５ 成膜材料
６ 電子ビーム発生装置
Claims (3)
- 【請求項１】 硝子モールド法によって成形された光
学素子の表面を、清浄化するに充分な条件下にイオンビ
ームに暴露することを特徴とする光学素子の製造法。 - 【請求項２】 清浄化された光学素子の表面に光学機
能性薄膜を形成することを特徴とする請求項１記載の光
学素子の製造法。 - 【請求項３】 密閉可能な真空槽中にイオンビーム発
生装置と電子放射装置とを光学素子固定装置に対向する
よう設けたことを特徴とする光学素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12085391A JPH04349149A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 光学素子の製造法及び製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12085391A JPH04349149A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 光学素子の製造法及び製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04349149A true JPH04349149A (ja) | 1992-12-03 |
Family
ID=14796569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12085391A Withdrawn JPH04349149A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 光学素子の製造法及び製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04349149A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008133142A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Olympus Corp | 光学素子の製造方法、光学素子 |
-
1991
- 1991-05-27 JP JP12085391A patent/JPH04349149A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008133142A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Olympus Corp | 光学素子の製造方法、光学素子 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4495463B2 (ja) | 眼用レンズの処理方法 | |
| KR100966118B1 (ko) | 다듬질하기 쉬운 렌즈 처리 방법 | |
| CN100394216C (zh) | 带有保护膜的光学透镜基材及光学透镜基材的生产方法 | |
| WO2005118502A1 (ja) | 光学素子製造法 | |
| US6984334B2 (en) | Method of manufacturing optical element | |
| US20070048454A1 (en) | Method for manufacturing a mold core | |
| CN114798589A (zh) | 一种硫化锌镜片表面处理工艺 | |
| US20160185055A1 (en) | Method for manufacturing polarised lenses for spectacles and lenses produced using that method | |
| JPH04349149A (ja) | 光学素子の製造法及び製造装置 | |
| KR102059165B1 (ko) | 코팅방식 고대비렌즈 및 이의 제조방법 | |
| JPS58216222A (ja) | 透明性及び親水性に優れたコンタクトレンズの製造法 | |
| Schaffer | Problems and solutions for coating plastic optics | |
| JP4345123B2 (ja) | 樹脂接合型光学素子とその製造方法 | |
| KR100693656B1 (ko) | 방오성 안경 렌즈 및 그 제조방법 | |
| JPH06347620A (ja) | レプリカミラーの製造方法および製造用型 | |
| JPH0643259B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0237301A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH0543649B2 (ja) | ||
| JP3769039B2 (ja) | 反射防止膜付き偏光板およびその製法 | |
| JPH0643260B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0653578B2 (ja) | 光学ガラス素子の成形方法 | |
| JPH0238337A (ja) | 成形用ガラス素材およびその製造方法 | |
| JPH1112375A (ja) | 防汚性薄膜の形成方法 | |
| JPS5950402A (ja) | 合成樹脂製光学部品への薄膜形成方法 | |
| JP2000162402A (ja) | 接合光学物品およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |