JPH04332128A - 被洗浄体の洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

被洗浄体の洗浄方法及び洗浄装置

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JPH04332128A
JPH04332128A JP13199191A JP13199191A JPH04332128A JP H04332128 A JPH04332128 A JP H04332128A JP 13199191 A JP13199191 A JP 13199191A JP 13199191 A JP13199191 A JP 13199191A JP H04332128 A JPH04332128 A JP H04332128A
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carrier
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穴井 徳行
Takazo Sato
尊三 佐藤
Hirobumi Shiraishi
博文 白石
Koji Harada
浩二 原田
Takayuki Tomoe
友枝 隆之
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば搬送用容器内の
半導体ウエハを洗浄用容器に移し替えて洗浄するための
洗浄方法及び移し替えシステムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハを処理して多層構造の回路
パターンなどを得る場合、ある膜を生成した後その処理
時の残渣が残った状態で次の膜を積層すると、所要の特
性が得られないことがあるため、一般にウエハを洗浄す
ることが行われている。ここでウエハを洗浄するための
容器としては洗浄液に対する耐蝕性が要求されるので、
コストの面から搬送用容器と洗浄用容器とを区別して用
いている。
【0003】従来ウエハを洗浄するためには、例えば2
5枚のウエハを収納した搬送用容器(以下「搬送用キャ
リア」という)を移し替えステーションにセットして、
その下方から突き上げ手段によりキャリア内のウエハを
突き上げ、これを把持機構により一括把持して洗浄用容
器(以下「洗浄用キャリア」という。)に移し替えると
共に、ウエハの洗浄後は同様にして洗浄用キャリアから
搬送用キャリアに移し替えるようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで半導体デバイ
スの高集積化に伴い、ウエハへの不純物混入の許容範囲
は非常に狭いものとなっており、ウエハを洗浄するため
の一連の処理においても不純物混入に対してより一層注
意を払わなければならない。一方半導体テバイス構造の
複雑化に伴いウエハの処理工程が多くなっているため、
例えば単結晶シリコンウエハからデバイスとして完成品
に至るまでの時間を短くするためには、各処理工程及び
各処理ステーション間の搬送工程等についてできるだけ
高いスループットを得ることが強く要請されてきている
【0005】このようなことから、ウエハ洗浄するシス
テムにおいても、スループットの向上という点について
着眼する必要がある。本発明はこのような事情のもとに
なされたものであり、その目的は、被洗浄体を洗浄する
にあたって、搬送用容器と洗浄用容器との間の移し替え
を必要とする場合に、被洗浄物への不純物の付着を防止
することのできる洗浄方法、及び高スループットを図る
ことのできる洗浄システムを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、搬送
用容器内の被洗浄体を移し替えステーションにて洗浄用
容器に移し替え、洗浄用容器内の被洗浄体を洗浄した後
、前記移し替えステーションにて搬送様容器に移し替え
る洗浄方法において、被洗浄体が取り出されて空になっ
た搬送用容器を洗浄し、洗浄された当該空の搬送用容器
内に洗浄用容器内の洗浄済みの被洗浄体を移し替えるこ
とを特徴とする。
【0007】請求項2の発明は、搬送用容器内の被処理
体を移し替えステーションにて処理用容器に移し替え、
処理用容器内の被処理体を受け渡し部を介して被処理体
処理部に送り、ここで処理した後、前記移し替えステー
ションにて搬送用容器に移し替えるシステムにおいて、
搬送用容器を外部との間で搬出入するための搬出入ステ
ーションと、複数の搬送用容器及び複数の処理用容器を
夫々収納する第1の容器収納部及び第2の容器収納部と
、前記搬出入ステーション、第1の容器収納及び、移し
替えステーションの間で搬送用容器を移載する第1の移
載手段と、前記受け渡し部、第2の容器収納部及び移し
替えステーションの間で処理用容器を移載する第2の移
載手段とを設けてなることを特徴とする。
【0008】
【作用】例えば請求項1の方法を請求項2のシステムに
組み込んだとすると、被洗浄体を収納した搬送用容器は
搬出入ステーションを通じて例えば移し替えステーショ
ンに搬送され、ここで搬送用容器内の被洗浄体は洗浄用
容器に移し替えられる。次いで搬送用容器と被洗浄体が
別々に洗浄され、その後移し替えステーションにて被洗
浄体が洗浄用容器から搬送用容器に移し替えられて、搬
出入ステーションに戻される。そして搬送用容器専用の
収納部と洗浄用容器専用の収納部とが設けられているた
め、これら容器収納部がいわば2段のバッファとして機
能し、外部からの搬送用容器の受け取りの遅れや、搬送
用容器と被洗浄体の洗浄のタイミングのずれ等があって
も円滑な作業ができる。
【0009】
【実施例】以下本発明を洗浄システムに適用した実施例
について説明するが、各部を詳述する前に、図1を参照
しながらこの洗浄システムの全体の流れについて簡単に
説明する。
【0010】ウエハWを収納した搬送用キャリアCは、
2個を1組として先ず搬入ステージ100に運ばれ、そ
の後入出力部101を介して搬送用キャリアエレベータ
103に受け渡され、図示しないストッカに一旦保管さ
れるかまたは主搬送路の下流側に搬送される。なお主搬
送路とは、受け渡し部101から後述のウエハ洗浄部へ
の受け渡し部108に至るまでの搬送路をいうものとす
る。次いで移載ロボット104により移し替えステーシ
ョン105に移載され、ここで搬送用キャリアC内のウ
エハは、ウエハ把持部106及び下方の図示しないウエ
ハ突き上げ手段の協働作用により、洗浄用キャリアDに
移し替えられる。しかる後この洗浄用キャリアDは、洗
浄用キャリアエレベータ107により図示しないストッ
カに一旦保管されるかあるいはウエハ洗浄部への受け渡
し部に搬送され、洗浄後は逆の流れで移し替えステーシ
ョン105に戻される。
【0011】一方搬送用キャリアCは、2つの空キャリ
ア搬送路L1、L2の一方の搬送路L1を通ってキャリ
ア洗浄部へ送られ、洗浄後は他方の搬送路L2を通って
戻され、移し替えステーション105に移載される。移
し替えステーション105と空キャリア搬送路L1、L
2との間の空キャリアCの移載は、移載ロボット104
によって行われる。そして移し替えステーション105
にて洗浄用キャリアD内のウエハは搬送用キャリアCに
移し替えられ、上述とは逆の流れで入出力部101に戻
された後、搬出ステージ102に運ばれ、次の工程に送
られることになる。なお搬入ステージ101、入出力部
101及び搬出ステージ102は、搬出入ステーション
IOSを構成している。
【0012】次に図1の洗浄システムの各部について詳
述する。はじめに搬送用キャリアCを保管するための第
1のキャリアストッカS1と洗浄用キャリアDを保管す
るための第2のキャリアストッカS2とについて図2、
図3を参照しながら説明すると、各ストッカS1、S2
はキャリアの主搬送路の上方に設置されており、この例
ではキャリア収納ユニット2が夫々3段及び2段積み重
ねられた構造となっている。
【0013】前記収納ユニット2は、2個を1組とした
キャリアの組を3組あるいは4組収納できる保管室21
と、この保管室21の床部及び天井部に夫々配置された
通気室22、23と、これら通気室22、23に連通し
て、保管室21の側部に沿って配置されたリターンダク
ト24とから構成されており、保管室21と通気室22
、23との間には多数の通気孔が形成されている。天井
部の通気室23には、ULPAフィルタ25が設けられ
ると共に、この上に送風ファン26が配置され、この送
風ファン26の作動により、天井部→保管室21→床面
部→リターンダクト24→天井部の経路で空気が循環す
る。従って保管室21にて例えばキャリアの出し入れに
より発生したパーティクルは床部に吸い込まれて、フィ
ルタ25により除去される。
【0014】前記保管室21に流れる空気の流量を調整
するためには、図3に示すように、リターンダクト24
における保管室21と対向する側壁に、外部から空気を
取り入れる空気穴24aを備えると共に当該空気穴24
aの開口量を規制して空気の取り込み量を調整できる風
量調整手段24bを設けるようにしてもよいし、あるい
はまた保管室21の底面に、図4に示すように当該底面
27の通気孔27aと同一の大きさ、配列で形成された
通気孔28aをもつシャッタ板28をスライドできるよ
うに組み合わせ、このシャッタ板28を前記底面27に
対してスライドさせて通気孔27aの開口量を規制し、
これにより風量を調整するようにしてもよく、更にまた
送風ファン26の回転数を、例えば操作パネルのコント
ローラを操作することにより制御するようにしてもよい
【0015】この例のようにストッカS1、S2の各棚
を、収納ユニット2としてユニット化し、収納ユニット
2を着脱自在の構造として任意の数だけ積み重ねるよう
にすると共に、各収納ユニット2に毎に独立した空気循
環機構を組み込んでおけば、システムアップに容易に対
応できるし、メンテナンスも容易であるという利点があ
る。
【0016】また最上段の収納ユニット2のキャリアの
搬入出口(図3の左端に位置する面)の上方にフィルタ
を備えた送気手段29を配置し、この送気手段29から
洗浄空気を下降させて各収納ユニット2の搬入出口に臨
む領域にエアーカーテンを形成すると共に、例えば保管
室21内の気圧をエアーカーテンの気圧よりも高くして
おけば、外部からの保管室21内へのパーティクルの巻
き込みを抑えることができる。
【0017】またこの実施例では、各ストッカS1、S
2のみならず、キャリアの主搬送路の周囲についてもパ
ーティクルの除去対策が講じられており、主搬送路の上
方に、例えばULPA及び吸い込みファンを備えた送気
手段3A〜3Dが当該主搬送路に沿って配置されると共
に、主搬送路の下方に排気ファン31が例えば3ヶ所に
配置され、これらによって下向きの清浄な空気層流を形
成するようにしている。  次に洗浄システムの搬送系
に関して説明すると、搬入ステージ100及び搬出ステ
ージ102は、各々2個の載置台よりなり、入出力部1
01は、図2に示ように後述のインターフェイスロボッ
トIFの受け渡し位置と前記エレベータ103の作業領
域との間で例えば図2に示すようにエアシリンダARの
動作で移動する移動ステージMSにより構成される。
【0018】搬入ステージ100と搬出ステージ102
を結ぶラインの下方側には、このラインに沿って移動す
るインターフェイスロボットIFが設置されており、こ
のロボットIFは、更に上下動、鉛直軸まわりの回動機
能を備えていて、各ステージ100、102、MS間の
ウエハの受け渡しを行う。この受け渡しについては、各
ステージ100、102、MSにロボットIFのウエハ
支持部が上下に抜けられるように切り欠きを形成してお
くと共に、ロボットIF側においてはキャリアを片持ち
支持の構造としておくことによって、前記ウエハ支持部
が各ステージ100、102、MS間を自在に通り抜け
ることができ、これによりキャリアの受け渡しが行われ
る。
【0019】前記主搬送路における入出力部101の下
流側には、当該主搬送路を挟んで搬送用キャリアエレベ
ータ103及び移載ロボット104が対向して設置され
ており、この実施例では、これらエレベータ103及び
移載ロボット104は、搬出入ステーションIOS、第
1のストッカS1及び移し替えステーション105の間
でキャリアを搬送するための第1の移載手段を構成して
いる。
【0020】前記エレベータ103は図5に示すように
、キャリアを把持して水平面にて主搬送路の伸びる方向
(X方向)及びこれに直交する方向(Y方向)に搬送す
るクランプユニット5を備え、このクランプユニット5
は、上下方向に伸びるボールネジ51が左右両側にて支
持されており、このボールネジ51が図示しない駆動機
構により駆動されることにより当該ボールネジ51と共
に主搬送路とストッカS1の最上段との間を昇降する。 前記ボールネジ51の周囲には、駆動動作により発生し
たパーティクルが主搬送路側あるいはストッカS1の搬
入出口側に飛ばないように、L字状の飛散防止カバー5
2(上方部分は図示していない)がボールネジ51に沿
って配設されている。
【0021】前記クランプユニット5は開閉自在でかつ
ガイド部54に沿ってエアシリンダ等によりY方向に案
内される一対の把持アーム53a、53bを備えており
、これらアーム53a、53bの内面には、Y方向に並
ぶ2個のキャリアを把持するように例えばフッ素樹脂よ
りなる把持部55が設けられると共に、例えば一方のア
ーム53aの先端上面には、上方の送気装置等の損傷を
防止するために、障害物に衝突したときに上昇動作を停
止するための例えばリミットスイッチよりなる上限検出
センサ56が取り付けられている。
【0022】また前記ガイド部54は、クランプユニッ
ト5にX方向に伸びるように設けられたボールネジ57
により、入出力部101の受け渡し領域と移載ロボット
104の搬送領域との間を移動できるようになっている
【0023】更に前記クランプユニット5の両側には、
ワイヤ58及び滑車58a、58bを介してバランスウ
エイト59が取り付けられており、前記滑車58a、5
8bはエレベータ103の基枠50の一部に固定されて
いる。前記バランスウエイト59は、例えばキャリアの
重量に応じて重量が調整できるよう複数に分割されてお
り、前記基枠50の図示しないレールに沿って上下方向
に案内されるようになっている。このようにバランスウ
エイト59を設ければボールネジ51を駆動するモータ
の負荷を小さくでき、この結果モーターの小型化を図れ
るという利点がある。
【0024】前記移載ロボット104は、搬送用キャリ
アエレベータ103との間で、主搬送路の中間ステージ
61(図1参照)を介して搬送用キャリアCを受け渡す
と共に、中間ステージ61のキャリアCと後述する移動
ステージ7aとの間、及び移動ステージ7aと空キャリ
ア搬送路L1、L2との間でキャリアCを移載する役割
を有するものであり、その構成については、例えば前記
エレベータ103にて説明したように一対の把持用アー
ムを備え、このアームが昇降しかつ主搬送路に沿って移
動できる構造のものであればよく、この場合にもアーム
を昇降させるためのモータの負荷を小さくするために、
アームを保持してこれと共に昇降するユニットに、前記
エレベータ103と同様にバランスウエイトを組み合わ
せることが望ましい。
【0025】前記移し替えステーション105は、図1
に示すように主搬送路の下流側に位置し、図6に示すよ
うに、例えばボールネジ等の駆動機構により主搬送路に
沿って各々互に独立して移動可能な移動ステージ7a、
7bと主搬送路の上方側にて左右に(主搬送路の伸びる
方向に沿って)並んで配置された一対のアームよりなる
第1の把持部71及び第2の把持部72(図1ではこれ
らを106として示している。)と、主搬送路の下方側
にて前記把持部71、72に夫々対向するように設置さ
れた第1の突き上げ手段73及び第2の突き上げ手段7
4とを備えている。前記移動ステージ7a、7bには、
2個のキャリアC(D)をY方向(主搬送路と直交する
方向)に並べて載置できる載置領域が形成されると共に
、夫々突き上げ手段73、74が通過できるように切欠
部70が形成されている。また前記把持部71、72は
夫々移動ステージ7a、7b上の2個のキャリアC(D
)を同時に把持できる構造となっており、突き上げ手段
73、74についても前記2個のキャリアC(D)内の
ウエハを突き上げることができるように構成されている
。  そしてこの例では、不純物のコンタミネーション
を避けるため、第1の移動ステージ7a及び第2の移動
ステージ7bは夫々搬送用キャリア及び洗浄用キャリア
専用のものとし、また第1の把持部71と第1の突き上
げ手段73の組、及び第2の把持部72と第2の突き上
げ手段74の組についても、夫々洗浄前のウエハ及び洗
浄後のウエハを専用に取り扱うようにしている。
【0026】前記第1の突き上げ手段73の上流側には
、これに隣接して、例えば一対のローラを回動させてウ
エハのオリフラを所定の向きに揃えるためのウエハのオ
リフラ合わせ機構75(図2参照)が昇降自在に設置さ
れており、第1の移動ステージ7aは、このオリフラ合
わせ機構75と第2の突き上げ手段74との間を移動す
ると共に、第2の移動ステージ7bは、第1の突き上げ
手段73と第2の突き上げ手段74の下流側位置との間
を移動するように設定されている。
【0027】ここで移し替えステーション105におけ
るウエハの移し替えについて説明すると、先ず第1の移
動ステージ7aをオリフラ合わせ機構75の上に位置さ
せておき、移載ロボット104により洗浄すべきウエハ
を収納した搬送用キャリアCを当該第1の移動ステージ
7a上にて載置してオリフラ合わせを行い、次いでこの
移動ステージ7aを第1の突き上げ手段73上に移動す
る。その後第1の突き上げ手段73により搬送用キャリ
アC内のウエハを突き上げて、第1の把持部71に把持
させ、続いて第1の移動ステージ7aを待避させると共
に、洗浄用キャリアDを載せた第2の移動ステージ7b
を第1の把持部71の下に位置させ、上述の把持と逆の
動作で第1の把持部71に把持されていたウエハを洗浄
用キャリアD内に収納する。
【0028】これとは逆に洗浄用キャリアD内の洗浄済
みウエハを搬送用キャリアC内に移し替える場合には、
第2の把持部72の下方に第2の移動ステージ7b、第
1の移動ステージ7aを順次に位置させて同様の操作を
行えばよい。
【0029】前記主搬送路の下流端部と対向する領域に
は、搬送用キャリアエレベータ103と同様の構成の洗
浄用キャリアエレベータ107が設置されており、この
エレベータ107は、洗浄用キャリアをウエハ洗浄部(
図示せず)に対する受け渡し部108と移し替えステー
ション105と第2のストッカS2(図2参照)との間
で移載する第2の移載手段をなすものである。なお受け
渡し部108とはここからウエハ洗浄部が離れている場
合に、搬送ロボットに受け渡す出力ポート、あるいはウ
エハ洗浄部が隣接していてその移載機構に受け渡すため
の中間ステージなどに相当する。
【0030】更に図1に示すように前記主搬送路の中間
部付近から当該主搬送路と直角方向に2つの空キャリア
搬送路L1、L2が伸びており、一方の空キャリア搬送
路L1、は、移載ロボット104の作業領域からキャリ
ア洗浄部(図示せず)あるいはキャリア洗浄部への受け
渡し部(図示せず)に未洗浄の空の搬送用キャリアCを
搬送するためのものであり、他方の空キャリア搬送路L
2は洗浄済みの空のキャリアCを逆の経路で搬送するた
めのものである。
【0031】これら空キャリア搬送路L1、L2におけ
る搬送方法としては、例えば切欠部を備えた載置ステー
ジを並べておいて、下から搬送ロボットによりキャリア
を持ち上げ、1個づつ前送りする方法、あるいは搬送ベ
ルト等によって連続して搬送する方法等種々の方法を採
用することができる。
【0032】次に上述の洗浄システムの作用について説
明する。先ず例えばCVD処理されたウエハWを収納し
た搬送用キャリアCが搬出入ステーションIOSの搬入
ステージ100に2個づつ把手側を手前にして運ばれる
。次いでインターフェイスロボットIFにより搬入ステ
ージ100上の2個のキャリアCを、把手側が互に反対
に向くように入出力部101に移載し、入出力部101
の移動ステージMSを搬送用キャリアエレベータ103
の作業領域まで引き込む。
【0033】続いて前記エレベータ103がこれらキャ
リアCを一括して把持し、例えば中間ステージ61に載
置するか、あるいは移し替えステーション105が塞が
っているときには第1のストッカS1に一旦保管する。 しかる後移載ロボット104が中間ステージ61上の2
個のキャリアCを一括して把持すると共に、第1の移動
ステージ71をオリフラ合わせ機構75の上方に位置さ
せておいて、この移動ステージ7a上に移載し、ここで
オリフラ合わせを行う。
【0034】その後既に詳述したようにして移し替えス
テーション105にて搬送用キャリアC内のウエハを洗
浄用キャリアD内に移し替え、この洗浄用キャリアDを
洗浄用キャリアエレベータ107により、ウエハ洗浄部
に対する受け渡し部108に直接搬送するか、あるいは
この受け渡し部108に洗浄用キャリアDが滞留してい
る場合には、第2のストッカS2に一旦保管する。
【0035】一方移し替えステーション105にて空に
なった搬送用キャリアCは、移載ロボット104により
空キャリア搬送路L1の上流端に移載され、この搬送路
L1を介してキャリア洗浄部(図示せず)に搬送される
。そして空キャリアはキャリア洗浄部にて洗浄された後
搬送路L2により移載ロボット104の作業領域まで搬
送される。
【0036】次いで洗浄済みの、空の搬送用キャリアC
は移載ロボット104によって、また洗浄済みのウエハ
を収納した洗浄用キャリアDは前記エレベータ107に
よって、夫々移し替えステーション105に運ばれ、こ
こで先述したようにしてウエハの移し替えが行われる。
【0037】このように洗浄済みのウエハを収納した洗
浄済みの搬送用キャリアDは、上述とは逆の流れで移載
ロボット104、前記エレベータ103を介して入出力
部101に戻され、インターフェイスロボットIFによ
り搬出ステージ102に移載されて外部に搬出されるこ
とになる。ここで洗浄用キャリアDを移し替えステーシ
ョン105に戻す場合、及び搬送用キャリアCを入出力
部101に戻す場合にもキャリアの滞留によって適宜ス
トッカS1、S2への保管、取り出しが行われる。
【0038】以上において本発明では、上述の実施例の
システムに限らず種々の変更が可能であり、例えば主搬
送路や空キャリア搬送路のレイアウトによっては、搬出
入ステーションIOS、第1のストッカS1及び移し替
えステーション105の間のキャリアの搬送を1個の搬
送機構で行ってもよいし、あるいは搬送個数単位も1個
または3個以上であってもよい。
【0039】更に移し替えステーション105において
は、ウエハの把持部及びウエハの突き上げ手段の組を、
洗浄用キャリア及び搬送用キャリア専用のものとして2
組用いる代りに、1組のみ用意し、把持爪及び突き上げ
用の櫛歯部分を交換することにより、クロスコンタミネ
ーションを避けるようにしてもよい。
【0040】更にまた被洗浄体としては半導体ウエハに
限らずLCD基板等の洗浄にも適用することができる。
【0041】なお本発明は、ウエハを洗浄する場合に限
らず、ウエハなどの被処理体を処理専用の処理用容器(
実施例の洗浄用キャリアに相当する)に移し替えて所定
の処理例えば熱拡散処理をし、処理後に搬送用容器に移
し替えるシステムにも適用することができる。
【0042】
【発明の効果】請求項1の発明では、例えば半導体ウエ
ハのように不純物の付着を極力押えなければならない被
洗浄体について、被洗浄体自体の洗浄や容器の移し替え
といった点に加えて搬送用容器にも着目し、これを別途
洗浄するようにしているため、洗浄前の被洗浄体に付着
していた不純物が搬送用容器を介して洗浄後の被洗浄体
に再付着するといったコンタミネーションを回避するこ
とができる。従って被洗浄体を洗浄するにあたっての所
期の目的を確実に達成することができるから、例えば今
後不純物の付着についてより一層の注意を払わなければ
ならない半導体ウエハを洗浄する場合に有効な方法であ
る。
【0043】請求項2の発明によれば、搬送用容器及び
処理用容器を夫々専用に収納する第1及び第2の容器収
納部を設置し、搬出入ステーション、第1の容器収納部
及び被処理体の移し替えステーション間で搬送用容器の
移載を行うと共に、被処理体処理部への受け渡し部、第
2の容器収納部及び前記移し替えステーション間で処理
用容器の移載を行うようにしている。このため第1の容
器収納部内の搬送用容器は、未処理の被処理体を収納し
た搬送用容器を外部から処理システム内に取り込む場合
に、バッファとして機能すると共に、第2の容器収納部
内の処理用容器は、未処理の被処理体を移し替えステー
ションから処理部へ受け渡す場合、及び処理済みの被処
理体を移し替えステーションに戻す場合のいずれのフロ
ーにおいてもバッファとして機能する。従って搬出入ス
テーションから被処理体の処理部に至るまでに2段のバ
ッファが存在するので、外部から処理システム内への搬
送用容器の取り込みや、処理部からの処理済み被処理体
の送り出し等が中断してもその影響を小さく抑えること
ができる。
【0044】そして請求項1の発明を被洗浄体と搬送用
容器とを夫々別個に洗浄する請求項1の発明に適用すれ
ば、被洗浄体及び搬送容器の洗浄処理のタイミングが狂
った場合にも円滑な作業できるから、非常に高いスルー
プットを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の全体の概観を示す概観図であ
る。
【図2】本発明の実施例のシステムにおけるストッカの
詳細構造を示す一部切欠側面図である。
【図3】本発明の実施例のシステムにおけるストッカの
詳細構造を示す一部切欠正面図である。
【図4】ストッカの風量を調整する手段の一例を示す平
面図である。
【図5】本発明の実施例に用いた搬送用キャリアエレベ
ータの一例を示す斜視図である。
【図6】移し替えステーションの一例を示す説明図であ
る。
【符号の説明】
IOS  搬出入ステーション 103  搬送用キャリアエレベータ 104  移載ロボット 105  移し替えステーション 107  洗浄用キャリアエレベータ 108  受け渡し部 L1、L2  空キャリア搬送路 S1  第1のストッカ S2  第2のストッカ 2  収納ユニット C  洗浄用キャリア D  搬送用キャリア

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  搬送用容器内の被洗浄体を移し替えス
    テーションにて洗浄用容器に移し替え、洗浄用容器内の
    被洗浄体を洗浄した後、前記移し替えステーションにて
    搬送用容器に移し替える洗浄方法において、被洗浄体が
    取り出されて空になった搬送用容器を洗浄し、洗浄され
    た当該空の搬送用容器内に洗浄用容器内の洗浄済みの被
    洗浄体を移し替えることを特徴とする被洗浄体の洗浄方
    法。
  2. 【請求項2】  搬送用容器内の被処理体を移し替えス
    テーションにて処理用容器に移し替え、処理用容器内の
    被処理体を受け渡し部を介して被処理体処理部に送り、
    ここで処理した後、前記移し替えステーションにて搬送
    用容器に移し替えるシステムにおいて、搬送用容器を外
    部との間で搬出入するための搬出入ステーションと、複
    数の搬送用容器及び複数の処理用容器を夫々収納する第
    1の容器収納部及び第2の容器収納部と、前記搬出入ス
    テーション、第1の容器収納部及び、移し替えステーシ
    ョンの間で搬送用容器を移載する第1の移載手段と、前
    記受け渡し部、第2の容器収納部及び移し替えステーシ
    ョンの間で処理用容器を移載する第2の移載手段とを設
    けてなることを特徴とする被処理体の移し替えシステム
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5915396A (en) * 1996-06-28 1999-06-29 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Substrate processing apparatus
US7080652B2 (en) * 1994-04-28 2006-07-25 Semitool, Inc. Automated semiconductor processing systems

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