JPH04321215A - コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置 - Google Patents

コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置

Info

Publication number
JPH04321215A
JPH04321215A JP3090145A JP9014591A JPH04321215A JP H04321215 A JPH04321215 A JP H04321215A JP 3090145 A JP3090145 A JP 3090145A JP 9014591 A JP9014591 A JP 9014591A JP H04321215 A JPH04321215 A JP H04321215A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
condenser lens
light
illuminance
fly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3090145A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsunobu Hama
浜 勝信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP3090145A priority Critical patent/JPH04321215A/ja
Publication of JPH04321215A publication Critical patent/JPH04321215A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば縮小投影露光装
置など種々の露光照明光学系などに好適なコンデンサレ
ンズの設計法及び自動補正装置に関する。
【0002】
【従来の技術】縮小投影露光装置等に使用される露光照
明光学系は、光源から出射される光線を、多数のロッド
レンズの集合体よりなるフライアイレンズ及びコンデン
サレンズを通して被照射物(例えばレティクル)に照射
させている。
【0003】このような光学系を設計する場合には、被
照射面の照度分布が均一となるようにコンデンサレンズ
のパラメータを最適化することが要求される。最近では
、コンピュータに光源に関するデータを入力し、計算ア
ルゴリズムにより光源からレティクルまでの多数の光線
を追跡し被照射面の照度分布を算出している。そして、
この照度分布データを用いてコンデンサレンズの最適パ
ラメータを求める工程をカット&トライで繰り返して光
学設計を行っていた。
【0004】図10に従来のコンデンサレンズ設計に際
し行われる照度分布の求め方を示す。この例は光源,楕
円面鏡,フライアイレンズ(ロッドレンズ集合群),コ
ンデンサレンズ,レティクルなどを備えた露光光学系に
関する。
【0005】すなわち従来は、光源に関する所定のデー
タを入力すると、コンピュータが計算アルゴリズムによ
り、まず光源を図10の(a),(b)に示すように多
数の点光源(例えば数万個)に離散化して各点光源iの
輝度W(i)を求め(iは番数である)、さらに被被照
射面(ここではレティクル面)を縦l,横mの微小サイ
ズに分割する。
【0006】そして、各点光源iから多数の方向に出射
される光線の方向余弦指定を行って、それらの多数の光
線につき計算アルゴリズムを用いて逐次、点光源からレ
ティクルまでの光線追跡を行い、そのレティクルの各々
の分割領域(l,m)への光通過量を光線追跡ごとに加
算し〔式で表せばPi(l,m)=Pi−1(l,m)
+W(i)となる〕て各分割領域の照度Pi(l,m)
の分布を求めていた。
【0007】なお、露光装置などの照明光学系に関する
従来技術としては、特開昭60−41224号,特開昭
61−169815号,特開昭62−123423号,
特開平1−23216号,特開平1−114035号公
報などに開示されたものがある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来のコンデ
ンサレンズ設計法によれば、照度分布算出を行う過程で
厳密計算アルゴリズムによって光源からレティクル(被
照射面)まで非常に多くの光線追跡を必要とするため、
コンデンサレンズ・パラメータの最適化に多大な時間を
要し、高精度の設計を短期間で終了させることが不可能
であった。
【0009】また、非常に多数の光線追跡を必要とする
ため、照度分布が自動設計の評価関数となり得ず、コン
デンサレンズを自動的に最適化することは困難であった
【0010】さらに、この種のコンデンサ・レンズ系を
設計した後の問題としては、光源の輝度やレンズエレメ
ント間隔が経時的に変化することもあり得る。このよう
な事態に対処するには照明系内部の光学エレメントの間
隔を変更して照度分布を補正する必要がある。しかし従
来は、どのエレメントをどの位動かせばよいかリアルタ
イムに知ることができなかった。
【0011】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
、その第1の目的は、この種コンデンサレンズのパラメ
ータ設計の大幅な時間短縮,高精度化,自動化を図り、
第2の目的は、設計後のコンデンサレンズエレメント間
隔の自動補正を可能にすることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために基本的には次のような課題解決手段を提案す
る。
【0013】第1の課題解決手段は、上記第1の目的達
成のために次のようなコンデンサレンズの設計法を提案
する。
【0014】すなわち、光源,フライアイレンズ,コン
デンサレンズなどを備えた光学系のコンデンサレンズパ
ラメータを最適化する場合に、■光源からフライアイレ
ンズ(ロッドレンズ集合体)の射出面に至るまでの多数
の光線経路を追跡し(ここで光線追跡とは計算アルゴリ
ズムによって行われる追跡を意味する)、その中からフ
ライアイレンズの射出面全面から所定の方向(θi,φ
i)に出る光量I(θi,φi)を求める工程と(iは
番数である)、■コンデンサレンズの光線追跡により、
被照射面の各点での照度Piを求める計算式を光量I(
θi,φi)とsinθi/(ri・dri/dθi)
との積により成立させ〔ここで、riは前記フライアイ
レンズの中心から所定方向(θi,φi)に向けて発す
る光線が被照射面を通過した点Q(xi,yi)から光
軸までの距離ri、(dri/dθi)はri/θiの
微分である〕、この照度計算式を照度分布の予想に必要
な数だけの被測定点について所定方向(θi,φi)の
角度を変えながら行う工程とを含み、前記照度計算式で
求める各被測定点の照度Piの偏差が所定値以下となる
ような自動設計アルゴリズムを用いてコンデンサレンズ
パラメータを最適化する。
【0015】第2の課題解決手段は、第2の目的達成の
ための自動補正装置に係り、光源から出射される光線を
、フライアイレンズ(ロッドレンズ集合体)及びコンデ
ンサレンズを通して被照射物に照射させる光学系におい
て、前記フライアイレンズのロッドレンズ射出面全面か
ら出る光量を、光線の射出方向(θi,φi)ごとの光
量I(θi,φi)に分けて検出する光モニタ手段と、
前記コンデンサレンズのエレメント間隔を電気信号に基
づき微動調整するレンズ駆動手段と、被照射面上の各被
測定点での照度PiをI(θi,φi)とsinθi/
(ri・dri/dθi)の積でとらえて、この積の差
が最小となるようなコンデンサレンズのエレメント間隔
を計算アルゴリズムにより算出して、そのレンズエレメ
ント間隔調整の制御信号を前記レンズ駆動手段に送る制
御手段とを備える。
【0016】
【作用】第1の課題解決手段の作用…まず■の工程によ
る計算式、すなわち光量I(θi,φi)とsinθi
/(ri・dri/dθi)との積により各被測定点O
(xi,yi)の照度Piが求まる理由を図1から図3
を用いて説明する。
【0017】まず、フライアイレンズから出射される光
線の方向θ,φについて定義すると、図3に示すように
θは光軸(z軸)とのなす角度、φは光軸と垂直の面(
x,y面)においてとらえた角度である。
【0018】図2の(a)はフライアイレンズの各ロッ
ドレンズから出射される光の一部として所定方向(θi
,φi)の平行光束のみを取り出した図である。図2(
b)は(θi,φi)のうち接近しあう二つの異なる所
定角度(θ1,φ1),(θ2,φ2)の各平行光束が
コンデンサレンズを経て被照射面(例えばレティクル)
上の通過点で形成する微小照射領域△1,△2及びその
照度(光強度)を模式的に示した図である。△1の中の
Q(x1,y1)はフライアイレンズの中心A〔図2(
a)に示す〕から(θ1,φ1)の角度で出射された光
線がレティクル面を通過する点で、△2の中のQ(x2
,y2)が同様に中心Aから(θ2,φ2)の角度で出
射された光線がレティクル面を通過する点を示す。
【0019】また、被測定点O(xi,yi)が△1の
中で上記Q(x1,Y1)に対し所定距離の位置関係に
あるものとする。このような位置関係を想定したとき、
被測定点O(xi,yi)は(θ1,φ1)の平行光束
が作る微小照射領域△1のほかに、(θ2,φ2)の平
行光束がつくる微小照射領域△2の一部が重なり合って
その影響を受ける(図では部分的に重なる微小照射領域
を△1,△2の2つにしてあるが、実際はそれ以上のも
のが重なり合い、この数をnとする)。
【0020】この場合の被測定点O(xi,yi)の照
度Piは、図2(b)に示すように重なりあう位置の各
領域△1,△2…△nの照度ψ(xi,yi)総和であ
り、式で表せば、
【0021】
【数1】   Pi=ψ(x1,y1)+ψ(x2,y2)…+ψ
(xn,yn)となる。以上のことは、被照射面のいず
れの位置おいても成立する。
【0022】そして、上記数1式の近似式として、上記
課題解決手段の■の工程の計算式(数2式)が成立する
【0023】
【数2】
【0024】本課題解決手段では、この数2式を用いて
予め設定した各被測定点Oi(xi,yi)の照度を計
算するため、その前に■の工程を行う。
【0025】■の工程の光量I(θi,φi)は、光源
からフライアイレンズ(ロッドレンズ)射出面までの多
数の光線追跡により予め求められるが、コンデンサレン
ズのパラメータとは無関係なので、1度行えば、コンデ
ンサパラメータを変更して照度分布を計算する場合でも
そのまま用いることができる。
【0026】その後の■の工程に用いる照度計算式は、
一つの被測定点につき2本の光線追跡のみ〔すなわち図
1の(a)に示すように(θi)及びこれより微小にず
らした(dθi)の角度の光線追跡〕を行えばよく、極
めて少数の光線追跡で足りる。
【0027】上記■■の計算アルゴリズムは図1(b)
のフローにおけるS1〜S3となる。
【0028】そして、以上のような一連の工程を所定の
方向(θi,φi)の角度を変えながら行うことで、各
被測定点O(θi,φi)の照度Piが求まりこれらの
Piを比較することで被照射面の照度分布が予想される
【0029】このような計算式は、コンデンサの光線追
跡が極めて少ないので短時間で照度分布予想が可能とな
る。その結果、この照度計算式で求める各被測定点O(
θi,φi)のPiから自動設計の評価関数を導くこと
ができる。従って、コンデンサレンズ系の自動設計アル
ゴリズムから、照度分布がほゞ均一となるようなコンデ
ンサレンズの最適パラメータが求まる。図1(b)のス
テップS4は評価関数の一例を示し、これについては実
施例で述べる。
【0030】第2の課題解決手段の作用…上記第1の課
題解決手段は、コンデンサパラメータを設計する際に用
いられるが、その設計後に光源やエレメント間隔の経時
的な変化により照度分布に変化をきたす場合があり得る
【0031】このような場合には、既に設計済(構成済
)のコンデンサエレメントの一部パラメータ(エレメン
ト間隔)を調整することで、照度分布の均一性を保ち得
る。
【0032】そのため本課題解決手段では、例えば定期
的に、露光照明に際して光モニタ手段により実際の光線
の所定の射出方向(θi,φi)ごとの光量I(θi,
φi)を検出する。そして、この検出値よりレンズ駆動
制御手段が前記の数2式を利用して各被測定点のPiを
とらえ、各Pi差が最小(予め設定した許容値内)とな
るような計算アルゴリズムにより最適なコンデンサレン
ズのエレメント間隔を算出する。この算出値はレンズ駆
動信号に変換されてレンズ駆動手段に送られ、コンデン
サレンズのエレメント間隔が自動調整(補正)される。
【0033】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づき説明する。
【0034】始めに請求項1,2に係るコンデンサレン
ズ設計法の実施例(第1実施例とする)を図4〜図6及
び図1により説明する。
【0035】図4は第1実施例として縮小投影露光装置
の露光照明系を示す。
【0036】図4において、光源1は水銀ランプを用い
、水銀ランプ1から出射された光は、楕円面鏡2により
集光され、フライアイレンズ(ロッドレンズ集合群)3
に入射する。フライアイレンズ3から出射された光はコ
ンデンサレンズのエレメント4〜8を通過し、レティク
ル9を透過照明すると同時に縮小レンズの入射瞳位置1
0にフライアイレンズ3の射出面を結象する。
【0037】コンデンサレンズのパラメータが図4のA
欄に示すようであれば、レティクル9上の照度分布が図
5のAのようになり、中央部に比して周辺部は約13%
程照度が低下しているものとする。一方、図4のB欄に
示すようであれば、図5のBのようにほゞ均一な照度分
布が得られるものとする。
【0038】このB欄に示すコンデンサパラメータは、
以下の設計法により自動的に最適化したものである。こ
れを図1のフローチャート(ステップS1〜S4)を参
照しつつ説明する。
【0039】まず、フライアイレンズ3の各ロッドレン
ズの射出面から所定方向(θi,φi)に出る光の光量
I(θi,φi)を、照度分布予想に必要な被測定点の
数だけ(θi,φi)を少しずつ変えながら光源(輝点
)1からフライアイレンズ3の各ロッドレンズの射出面
までの多数の光線追跡を行うことにより予め求めておく
(ステップS1)。この結果を図6に示す。ここでは、
光線の所定の射出方向(θi,φi)を約1°ずつ変化
させてある。
【0040】次に、各(θi,φi)のうちフライアイ
レンズ3の中心A(図1参照)から射出した光線をコン
デンサレンズ4〜8を経てレティクル9上に至るまで追
跡して、各被測定点O(xi,yi)の照度Piの計算
式を成立させる(S2,S3)。
【0041】この照度計算式は、発明の作用の項でも述
べた数2式、すなわち光量I(θi,φi)とsinθ
i/(ri・dri/dθi)との積により成立する。 riは、図1(a)に示すようにフライアイレンズ3の
中心Aから所定方向(θi,φi)に向けて発する光線
が被照射面を通過した点Q(xi,yi)から光軸まで
の距離ri、(dri/dθi)はri/θiの微分で
ある。
【0042】そして、上記照度計算式により求められる
各被測定点における照度Piの偏差が所定値以下(ほゞ
均一値)を保つようなコンデンサパラメータを求める自
動設計アルゴリズムを用いてコンデンサレンズの最適化
の設計を行う。
【0043】上記のコンデンサレンズ系の自動設計を行
うには、まず、上記各Pi値を比較することで照度分布
の評価関数Phnを得る。
【0044】照度分布の評価関数としては、例えば数3
式により求めている(ステップS4)。
【0045】
【数3】
【0046】すなわち、各被測定点の照度Piのトータ
ルの平均照度PAVとPiの最大差のものを照度分布の
評価関数とする。
【0047】ここで用いた自動設計の計算アルゴリズム
は多数考えられ、実施例では鈴木−米澤の方法を例示す
る。すなわち、少数の光線追跡によって得られる任意の
量E(評価関数)について、上限をα,下限をβとする
と、
【0048】
【数4】α≦E≦β なる不等式(一般に連立不等式)を解き、条件を満足す
るレンズパラメータ(レンズデータ)を求める。
【0049】本実施例における自動設計の条件としては
、■    0≦Phn≦1.5  (すなわち照度分
布1.5%以下) ■    フライアイレンズ3の射出面の像が入射瞳1
0から±1mm以内にできることとした。
【0050】その結果、コンデンサレンズ4〜8のレン
ズパラメータを図4(b)のB欄に示すものが得られ、
照度分布を図5のBのように1.2%にすることができ
た。
【0051】なお、照度分布の評価は、従来から用いた
スポットダイアグラム方式のプログラムを使用した。こ
のプログラムの計算は実験とよく一致している。
【0052】次に請求項3で述べたコンデンサレンズ自
動補正装置の実施例(第2の実施例とする)を図7〜図
9により説明する。
【0053】図7は露光照明光学系に自動補正装置を組
み込んだ状態を示し、図4に用いた符号と同一のものは
同一部分を示す。
【0054】本実施例の自動補正装置は、既にコンデン
サレンズのパラメータを設計した後、既に配置したコン
デンサレンズのエレメント間隔を調整して照度分布の経
時的補正を行うためのものである。
【0055】ハーフミラー(全反射ミラーでもよい)1
0,集光レンズ11,二次元CCDセンサ12,コンデ
ンサレンズ駆動部制御装置13,コンデンサレンズ駆動
部14などで構成される。
【0056】ハーフミラー10は、例えば定期的な診断
時に限ってエレメント4,5間に配置される。
【0057】水銀ランプ1から発した光は、楕円面鏡2
により集光されフライアイレンズ3に入射する。フライ
アイレンズ3の出射された光の一部がハーフミラー10
により取り出され、集光レンズ11により集光され、焦
点距離fだけ距離をおいた2次元CCDセンサ12上に
集光される。
【0058】この時の各々の光線の所定方向(θi,φ
i)の平行光束により形成される光量I(θi,φi)
は、図8に示すようにCCDセンサ12上で光軸との交
点Oとftanθだけ離れた点aの強度から知ることが
できる。
【0059】このCCDセンサ12上の出力から、制御
部13が各I(θi,φi)を計算してその経時的変化
をモニタリングし、I(θi,φi)より再び第1実施
例同様の計算アルゴリズムを用いて、レティクル9面の
各被測定点の照度がほゞ均一となるようなコンデンサレ
ンズのエレメント間隔を算出し、レンズ移動量を計算す
る。
【0060】例えば、I(θi,φi)が図6に示すよ
うな値であるときで、エレメント5〜8の厚さ,曲率が
図4のB欄の値、間隔が図9のAである場合には、照度
分布の評価は±2.5%となるが、このうちエレメント
の7と8の間隔を40mmから5mmにすれば±1.1
%にすることが可能で、このような値を制御部13が算
出し、これを実現するための制御信号(レンズ移動量信
号)がコンデンサレンズ駆動部(駆動機構)14に出力
されて所定のレンズエレメントが移動する。
【0061】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、第1の課
題解決手段たるコンデンサレンズ設計法では、コンデン
サレンズ系の光線追跡を少なくした照度分布計算式を成
立させるので、その計算時間ひいてはコンデンサレンズ
設計時間の大幅な短縮を図り、しかも照度分布に必要な
計算式をコンデンサレンズ系の自動設計アルゴリズムの
中に組み込んで照度分布を均一化させるためのコンデン
サレンズパラメータを自動設計を可能にする。
【0062】具体的には、光線追跡により照度分布を計
算してレンズパラメータをカット&トライの繰り返しで
光学設計を行う方式において、従来は照度分布の計算に
大型電子計算機で約2時間かかっていたものが、瞬時(
1秒足らず)のうちに計算することができ設計に要する
時間の大幅な短縮を図る。そして、その分、従来より多
数回のカット&トライができるので、高精度の照明光学
系を実現させる。
【0063】また、第2の課題解決手段に係る自動補正
装置によれば、コンデンサレンズ系の設計後に光源の経
時的な変化やエレメント間隔の変化があっても、これを
簡便な補正手段により自動調整して照明光学系の高精度
照度分布を経時的に保持できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のコンデンサレンズの設計に適用する照
度分布計算式の原理図及びフローチャート。
【図2】コンデンサレンズを通して被照射面に照射され
る平行光束による照度の一例を示す説明図。
【図3】フライアイレンズの出射面から出る光の方向性
を定義した説明図。
【図4】本発明の第1実施例たるコンデンサレンズ設計
法の適用対象となる露光照明光学装置の構成図及びその
レンズパラメータを示す説明図。
【図5】図4に用いたレンズパラメータを用いた時の照
度分布を示す説明図。
【図6】フライアイレンズの出射面から所定方向(θi
)の角度を逐次変えたときのその方向における光量I(
θi)を示す説明図。
【図7】本発明の第2実施例に係るコンデンサレンズ自
動補正装置の構成図。
【図8】第2実施例に用いる2次元CCDセンサにおけ
る光検出の一例を示す説明図。
【図9】コンデンサレンズのエレメント間隔を2通り示
した説明図。
【図10】従来のコンデンサ設計に用いる照度分布の原
理及びその厳密計算アルゴリズムを示す説明図。
【符号の説明】
1…水銀ランプ(光源)、2…楕円面鏡、3…フライア
イレンズ、4〜8…コンデンサレンズ、9…レティクル
(被照射物)、10,11,12…光量モニタ手段(ハ
ーフミラー,集光レンズ,2次元CCDセンサ)、13
…レンズ駆動制御手段、14…レンズ駆動手段。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  光源,フライアイレンズ,コンデンサ
    レンズなどを備えた光学系のコンデンサレンズパラメー
    タを最適化する場合に、光源からフライアイレンズ(ロ
    ッドレンズ集合体)の射出面に至るまでの多数の光線経
    路を追跡し(ここで光線追跡とは計算アルゴリズムによ
    って行われる追跡を意味する)、その中からフライアイ
    レンズの射出面全面から所定の方向(θi,φi)に出
    る光量I(θi,φi)を求める工程と(iは番数であ
    る)、コンデンサレンズの光線追跡により、被照射面の
    各点での照度Piを求める計算式を光量I(θi,φi
    )とsinθi/(ri・dri/dθi)の積により
    成立させ〔ここで、riは前記フライアイレンズの中心
    から所定方向(θi,φi)に向けて発する光線が被照
    射面を通過した点Q(xi,yi)から光軸までの距離
    ri、(dri/dθi)はri/θiの微分である〕
    、この照度計算式を照度分布の予想に必要な数だけの被
    測定点について所定方向(θi,φi)の角度を変えな
    がら行う工程とを含み、前記照度計算式で求める各被測
    定点の照度Piの偏差が所定値以下となるような自動設
    計アルゴリズムを用いてコンデンサレンズパラメータを
    求めることを特徴とするコンデンサレンズの設計法。
  2. 【請求項2】  請求項1において、前記照度計算式に
    より求める各被測定点の照度Piより照度分布の評価関
    数を導き、この評価関数をコンデンサレンズの自動設計
    アルゴリズムに組み入れて、照度Piの偏差が所定値以
    下になるようにコンデンサレンズパラメータを最適化す
    ることを特徴とするコンデンサレンズの設計法。
  3. 【請求項3】  光源から出射される光線を、フライア
    イレンズ(ロッドレンズ集合体)及びコンデンサレンズ
    を通して被照射物に照射させる光学系において、前記フ
    ライアイレンズのロッドレンズ射出面全面から出る光量
    を、光線の射出方向(θi,φi)ごとの光量I(θi
    ,φi)として検出する光モニタ手段と、前記コンデン
    サレンズのエレメント間隔を電気信号に基づき微動調整
    するレンズ駆動手段と、被照射面上の各被測定点での照
    度PiをI(θi,φi)とsinθi/(ri・dr
    i/dθi)の積でとらえて〔ここで、riはフライア
    イレンズの中心から所定方向(θi,φi)に向けて発
    する光線が被照射面を通過した点Q(xi,yi)から
    光軸までの距離である〕、この積の差が最小となるよう
    なコンデンサレンズのエレメント間隔を計算アルゴリズ
    ムにより算出して、そのレンズエレメント間隔調整の制
    御信号を前記レンズ駆動手段に送る制御手段とを備えた
    ことを特徴とするコンデンサレンズの自動補正装置。
JP3090145A 1991-04-22 1991-04-22 コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置 Pending JPH04321215A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3090145A JPH04321215A (ja) 1991-04-22 1991-04-22 コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3090145A JPH04321215A (ja) 1991-04-22 1991-04-22 コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04321215A true JPH04321215A (ja) 1992-11-11

Family

ID=13990337

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3090145A Pending JPH04321215A (ja) 1991-04-22 1991-04-22 コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04321215A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5663789A (en) * 1995-03-16 1997-09-02 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Ray tracing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5663789A (en) * 1995-03-16 1997-09-02 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Ray tracing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5193120A (en) Machine vision three dimensional profiling system
US6827442B2 (en) Ophthalmic wavefront measuring devices
JP3181050B2 (ja) 投影露光方法およびその装置
AU2002313824A1 (en) Ophthalmic wavefront measuring devices
EP3876017B1 (en) Patterned light irradiation apparatus and method
CN106334872B (zh) 激光端面织构机的自动对焦暨实时微调方法
JPH0883753A (ja) 焦点検出方法
JP2003031490A (ja) 投影露光装置、ならびに、特にミクロリソグラフィのための投影露光装置の投影光学系で発生する結像誤差を補正する方法
JPH01216306A (ja) 撮像手段を有した焦点検出装置
JP6588766B2 (ja) 評価方法、露光方法、露光装置、プログラム、および物品の製造方法
JP2001027723A (ja) 光学部品の接着固定方法
JPH06204113A (ja) 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法
CN207540510U (zh) 一种用于检测透镜中心偏离的装置
US7095904B2 (en) Method and apparatus for determining best focus using dark-field imaging
JP2007192685A (ja) 面位置検出装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2001281101A (ja) 空間分解能により屈折力を決定するための装置および方法
JPH04321215A (ja) コンデンサレンズの設計法及び自動補正装置
KR102118824B1 (ko) 기판 검사 장치, 기판 처리 장치 및 기판 검사 방법
SU878530A1 (ru) Способ формообразовани оптических поверхностей
KR100499697B1 (ko) 3차원형상 측정장치 및 방법
US5247153A (en) Method and apparatus for in-situ deformation of a surface, especially a non-planar optical surface
JP2886957B2 (ja) 自動焦点合せ装置
JP7001612B2 (ja) 対象物の少なくとも1つの既定点の3d座標を決定する方法および装置
JPS63306626A (ja) 投影露光装置
JP2608297B2 (ja) 焦点検出装置