JPH04319653A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置Info
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- JPH04319653A JPH04319653A JP8815291A JP8815291A JPH04319653A JP H04319653 A JPH04319653 A JP H04319653A JP 8815291 A JP8815291 A JP 8815291A JP 8815291 A JP8815291 A JP 8815291A JP H04319653 A JPH04319653 A JP H04319653A
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Links
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Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[発明の目的]
【0001】
【産業上の利用分野】鉄,アルミ,紙,フィルム等の連
続シート状の表面の欠陥を検査する表面検査装置に関す
る。
続シート状の表面の欠陥を検査する表面検査装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の表面検査装置を図面に示して説明
する。図4,図5において、レーザビームを互いに平行
に走査するレザースキャナ1からの走査ビームを検査対
象2の表面に移動方向(矢印)と直角の方向(検査対象
2の幅方向)に照射し、検査対象2からの反射回折光を
複数設けられたレシーバ3a,3bによって受光する。 図には、光学的な要素のみしか示していないが、表面検
査装置としては、このレシーバ3a,3bより得られた
光量の増減を電気信号に変換し適切な信号処理を行なっ
ている。
する。図4,図5において、レーザビームを互いに平行
に走査するレザースキャナ1からの走査ビームを検査対
象2の表面に移動方向(矢印)と直角の方向(検査対象
2の幅方向)に照射し、検査対象2からの反射回折光を
複数設けられたレシーバ3a,3bによって受光する。 図には、光学的な要素のみしか示していないが、表面検
査装置としては、このレシーバ3a,3bより得られた
光量の増減を電気信号に変換し適切な信号処理を行なっ
ている。
【0003】上記の様な構成において、移動する検査対
象2の表面上に欠陥等が存在した場合、ちようどその上
を走査ビームが横切った際にレシーバ3a,3bに入射
される反射回折光は通常とは異なり、この結果光量の増
減が生じる。したがって、この現象を電気信号に変換す
ると、欠陥の部分が電気的なパルスとして現われ、所定
の電気的な処理を行なうことで、欠陥の検出が可能とな
る。
象2の表面上に欠陥等が存在した場合、ちようどその上
を走査ビームが横切った際にレシーバ3a,3bに入射
される反射回折光は通常とは異なり、この結果光量の増
減が生じる。したがって、この現象を電気信号に変換す
ると、欠陥の部分が電気的なパルスとして現われ、所定
の電気的な処理を行なうことで、欠陥の検出が可能とな
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】検査対象2から反射さ
れる回折光を受光するレシーバ3a,3bの受光面は一
般にレンズやライトガイドのような光学部品を用いてい
る。ところが、これらの部品は光が入射しようとする厳
密には表面で入射光の一部が反射し、再び検査対象2の
検査面に向かってしまう。通常はこの表面反射は極少な
いので無視できる場合が多いが、図5に示すように反射
回折光の最もパワーの集中するレシーバ3aの入射面で
の反射光は、もともとパワーの微弱な反射回折光を受光
するレシーバ3cにとっては、無視できないものとなる
。従って、図6に示すような正常な場合のレシーバ3c
の入射光によるパルス波形(a)に対して、レシーバ3
aからの表面反射光による外乱が多くなるために、レシ
バー3cの入射光によるパルス波形(b)が乱れて欠陥
による光量変化を的確にとらえられなくなる問題点があ
る。本発明の目的は、レシーバに入射する外乱光を除去
する表面検査装置を提供するものである。 [発明の構成]
れる回折光を受光するレシーバ3a,3bの受光面は一
般にレンズやライトガイドのような光学部品を用いてい
る。ところが、これらの部品は光が入射しようとする厳
密には表面で入射光の一部が反射し、再び検査対象2の
検査面に向かってしまう。通常はこの表面反射は極少な
いので無視できる場合が多いが、図5に示すように反射
回折光の最もパワーの集中するレシーバ3aの入射面で
の反射光は、もともとパワーの微弱な反射回折光を受光
するレシーバ3cにとっては、無視できないものとなる
。従って、図6に示すような正常な場合のレシーバ3c
の入射光によるパルス波形(a)に対して、レシーバ3
aからの表面反射光による外乱が多くなるために、レシ
バー3cの入射光によるパルス波形(b)が乱れて欠陥
による光量変化を的確にとらえられなくなる問題点があ
る。本発明の目的は、レシーバに入射する外乱光を除去
する表面検査装置を提供するものである。 [発明の構成]
【0005】
【課題を解決するための手段】検査面にレーザビームを
走査させるスキャナと、検査面からの反射回折光を受光
する複数のレシーバとを有し、検査面からの反射回折光
の変化から検査面の欠陥を検査する表面検査装置におい
て、前記レシーバの受光面前方に、レシーバに入射する
反射回折光の進行方向に対して、傾きをもつフィルタを
配置したことを特徴とするものである。
走査させるスキャナと、検査面からの反射回折光を受光
する複数のレシーバとを有し、検査面からの反射回折光
の変化から検査面の欠陥を検査する表面検査装置におい
て、前記レシーバの受光面前方に、レシーバに入射する
反射回折光の進行方向に対して、傾きをもつフィルタを
配置したことを特徴とするものである。
【0006】
【作用】スキャナにより、検査面にレーザビームを走査
する。このレーザビームにより、検査面から反射される
回折光を複数のレシーバで受光する。この際にレシーバ
の受光面前方に設けたフィルタにより、回折光の一部は
反射され、残りの回折光をレシーバは受光する。入射さ
れた一部の回折光の一部は、レシーバの受光面で反射さ
れて、フィルタへ進む。フィルタでは、この反射光の一
部がフィルタを透過して検査面へ進む。こうして、検査
面へ再び向かう反射光を減少する。
する。このレーザビームにより、検査面から反射される
回折光を複数のレシーバで受光する。この際にレシーバ
の受光面前方に設けたフィルタにより、回折光の一部は
反射され、残りの回折光をレシーバは受光する。入射さ
れた一部の回折光の一部は、レシーバの受光面で反射さ
れて、フィルタへ進む。フィルタでは、この反射光の一
部がフィルタを透過して検査面へ進む。こうして、検査
面へ再び向かう反射光を減少する。
【0007】
【実施例】本発明の実施例を図面によって説明する。図
1において、1はレザースキャナであり、ライン状のレ
ザービムを検査対象2に照射する。3a,3bはライン
センサーであるレシーバであり、検査対象からの反射回
折光を受光する。4は減光フィルタであり、レシーバ3
aの手前に配置される。配置の仕方は、検査対象2から
くる反射回折光の一部は本来の光路を通りレシーバ3a
に入射するように、またこの減光フィルタ4の表面での
反射光は再び検査対象2へ向かわず、レシーバ3bの入
射面にも到達しないような位置と角度に設置する。
1において、1はレザースキャナであり、ライン状のレ
ザービムを検査対象2に照射する。3a,3bはライン
センサーであるレシーバであり、検査対象からの反射回
折光を受光する。4は減光フィルタであり、レシーバ3
aの手前に配置される。配置の仕方は、検査対象2から
くる反射回折光の一部は本来の光路を通りレシーバ3a
に入射するように、またこの減光フィルタ4の表面での
反射光は再び検査対象2へ向かわず、レシーバ3bの入
射面にも到達しないような位置と角度に設置する。
【0008】レーザスキャナ1からの走査ビームは検査
対象2に照射され、この反射回折光の中で最もパワーの
集中した部分である反射回折光5aは減光フィルタ4に
ぶつかり、そのまま減光されて直進する光7と表面反射
する光6とに分かれる。光7の一部はレシーバ3aの表
面で反射され再び減光フィルタ4を通って検査対象2に
照射される。
対象2に照射され、この反射回折光の中で最もパワーの
集中した部分である反射回折光5aは減光フィルタ4に
ぶつかり、そのまま減光されて直進する光7と表面反射
する光6とに分かれる。光7の一部はレシーバ3aの表
面で反射され再び減光フィルタ4を通って検査対象2に
照射される。
【0009】従って、検査対象2から反射した光が再び
検査対象2に戻ってくるときの光の量を図6に示す従来
の場合と比較すると、減光フィルタ4を2回通過した分
の差が生じ、レシーバ3bに外乱として入射する光の量
は格段に減ることになる。
検査対象2に戻ってくるときの光の量を図6に示す従来
の場合と比較すると、減光フィルタ4を2回通過した分
の差が生じ、レシーバ3bに外乱として入射する光の量
は格段に減ることになる。
【0010】尚、この減光フィルタ4を設けることでレ
シーバ3aに到達する光量は減光フィルタ4の減光分だ
け減ることになるが、レシーバ3aは検査対象2からの
反射回折光パワー分布の最も領域をターゲットとしてい
るため、レシーバ3aのゲインを多少上げている。
シーバ3aに到達する光量は減光フィルタ4の減光分だ
け減ることになるが、レシーバ3aは検査対象2からの
反射回折光パワー分布の最も領域をターゲットとしてい
るため、レシーバ3aのゲインを多少上げている。
【0011】本実施例の作用を図2により説明する。こ
こでは、レザースキャナ1から照射される光の光量を1
00 とし、検査対象2はレシーバ3a方向には80%
、レシーバ3b方向には20%の反射特性の素地を持つ
ものとし、さらにレジーバ3 aの表面反射率を10%
、減光フィルタ4の透過率を50%として説明する。
こでは、レザースキャナ1から照射される光の光量を1
00 とし、検査対象2はレシーバ3a方向には80%
、レシーバ3b方向には20%の反射特性の素地を持つ
ものとし、さらにレジーバ3 aの表面反射率を10%
、減光フィルタ4の透過率を50%として説明する。
【0012】まず図2の(a)は従来の場合であるが、
レシーバ3bには直接の反射光である20の光量と、レ
シーバ3aに向かう80の光量がレシーバ3aの表面で
反射して光量8になり、さらに検査対象2で反射して6
.4の光量が外乱として到達する。ところが、図2の(
b)は減光フィルタ4を挿入したことにより、レシーバ
3bに到達する外乱光の光量は、1.6となる。従って
、前者と後者では、正常入射光量20に対して外乱光量
が6.4と1.6となり明らかに悪影響が減ることがわ
かる。 図3に示すように、減光フィルタの角度設定を変えても
よい。
レシーバ3bには直接の反射光である20の光量と、レ
シーバ3aに向かう80の光量がレシーバ3aの表面で
反射して光量8になり、さらに検査対象2で反射して6
.4の光量が外乱として到達する。ところが、図2の(
b)は減光フィルタ4を挿入したことにより、レシーバ
3bに到達する外乱光の光量は、1.6となる。従って
、前者と後者では、正常入射光量20に対して外乱光量
が6.4と1.6となり明らかに悪影響が減ることがわ
かる。 図3に示すように、減光フィルタの角度設定を変えても
よい。
【0013】
【発明の効果】本発明によれば、レシーバに入射される
外乱光を除去することができるので、レシーバは欠陥に
よる光量変化を的確にとらえることができる。そのため
、信頼性の高い、高精度の表面検査装置を提供すること
ができる。
外乱光を除去することができるので、レシーバは欠陥に
よる光量変化を的確にとらえることができる。そのため
、信頼性の高い、高精度の表面検査装置を提供すること
ができる。
【図1】本発明による実施例の表面検査装置の構成図で
ある。
ある。
【図2】本発明による実施例と従来の表面検査装置の作
用説明図である。
用説明図である。
【図3】本発明による他の実施例の表面検査装置の構成
図である。
図である。
【図4】従来の表面検査装置の構成図である。
【図5】従来の表面検査装置の作用説明図である。
【図6】従来の表面検査装置のレシーバの出力するパル
ス波形図である。
ス波形図である。
1…レザースキャナ
2…検査対象3a,3b…レシーバ
4…減光フィルタ 5a,5b,6,7…光路
2…検査対象3a,3b…レシーバ
4…減光フィルタ 5a,5b,6,7…光路
Claims (1)
- 【請求項1】 検査面にレーザビームを走査させるス
キャナと、検査面からの反射回折光を受光する複数のレ
シーバと、を有し、検査面からの反射回折光の変化から
検査面の欠陥を検査する表面検査装置において、前記レ
シーバの受光面前方に配置された、レシーバに入射する
反射回折光の進行方向に対して傾きをもつフィルタとを
有し、このフィルタ−によりレシーバの受光面から再び
検査面に向かって反射する光を減少することを特徴とす
る表面検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8815291A JPH04319653A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8815291A JPH04319653A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | 表面検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04319653A true JPH04319653A (ja) | 1992-11-10 |
Family
ID=13934961
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8815291A Pending JPH04319653A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04319653A (ja) |
-
1991
- 1991-04-19 JP JP8815291A patent/JPH04319653A/ja active Pending
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