JPH04318903A - Laminated varistor - Google Patents

Laminated varistor

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JPH04318903A
JPH04318903A JP3113990A JP11399091A JPH04318903A JP H04318903 A JPH04318903 A JP H04318903A JP 3113990 A JP3113990 A JP 3113990A JP 11399091 A JP11399091 A JP 11399091A JP H04318903 A JPH04318903 A JP H04318903A
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JP
Japan
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voltage
glass layer
varistor
glass
internal electrodes
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3113990A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Ueno
靖司 上野
Akiyoshi Nakayama
晃慶 中山
Kazuyoshi Nakamura
和敬 中村
Yasunobu Yoneda
康信 米田
Yukio Sakabe
行雄 坂部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a laminated varistor which can reduce leak currents while lowering voltage. CONSTITUTION:A laminated varistor 1, which gets voltage nonlinear property at the interfaces between semiconductor ceramic layers 2 and inner electrodes 3 by piling the semiconductor ceramic layers 2 and inner electrodes 3 alternately to make a sintered body, is constituted. And glass layers 7 are interposed between the above ceramic layers 2 and the inner electrodes 3. Moreover, these glass layers 7 contain B, Si, and at least two kinds out of Pb, Bi, and Zn, and the thickness of the above glass layer is 0.3mum or below.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、電圧非直線抵抗体とし
て機能する積層型バリスタに関し、特に内部電極と半導
体セラミックス層との界面で電圧非直線抵抗特性を得る
ようにした場合の、低電圧化を図りながら漏れ電流を低
減できるようにした構造に関する。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a multilayer varistor that functions as a voltage nonlinear resistor, and particularly to a multilayer varistor that functions as a voltage nonlinear resistor, and in particular, when a voltage nonlinear resistance characteristic is obtained at the interface between an internal electrode and a semiconductor ceramic layer, a low voltage varistor is used. This invention relates to a structure that can reduce leakage current while achieving a high level of performance.

【0002】0002

【従来の技術】一般に、印加電圧に応じて抵抗値が非直
線的に変化する電圧非直線抵抗体(以下、バリスタと称
す)は、サージ吸収素子,電圧安定化素子として広く採
用されている。このようなバリスタの電気的特性は、I
/i=(V/Vi )a で表される。 上記Iは素子に流れる電流,Vは印加電圧,Vi は素
子にiAの電流が流れたときの端子間電圧で、通常1m
Aの値をとりバリスタ電圧V1mAと称されている。ま
た、上記aは電圧非直線係数であり、バリスタを電気回
路に組み込んだ際に電圧がいかに制御されるかを示すも
ので、このa値が大きいほど電圧制御に優れている。ま
た、低電流領域においては高い抵抗値を示すほど性能は
良好である。この漏れ電流値が大きいと消費電力が増大
し、かつ熱暴走の原因となる。また、近年の通信機等に
採用される電子機器の分野においては、小型化,及び駆
動電圧の低電圧化が急速に進んでおり、これに伴ってバ
リスタにおいても実装密度の向上を図るための超小型化
,及び低電圧化の要求が強くなっている。このような要
求に対応するものとして、従来、積層型バリスタが提案
されている(例えば、特公昭58−23921号公報参
照) 。 この積層型バリスタは、半導体セラミックス層と内部電
極とを交互に重ねて積層体を形成するとともに、該積層
体の両端面に上記各内部電極の一端面が接続される外部
電極を形成した構造である。ところで、上記積層型バリ
スタにおけるバリスタ電圧は、内部電極間のセラミック
ス層の厚さ方向における結晶粒界の数に依存することか
ら、バリスタ電圧を低くするには、内部電極間の距離を
短くしたり,セラミックス粒子の粒径を大きくしたりし
て粒界数を少なくするようにしている。
2. Description of the Related Art Generally, voltage nonlinear resistors (hereinafter referred to as varistors) whose resistance value changes nonlinearly in accordance with applied voltage are widely used as surge absorbing elements and voltage stabilizing elements. The electrical characteristics of such a varistor are I
/i=(V/Vi)a. Above, I is the current flowing through the element, V is the applied voltage, and Vi is the voltage between the terminals when a current of iA flows through the element, usually 1 m
It takes the value of A and is called the varistor voltage V1mA. Further, the above a is a voltage nonlinear coefficient, which indicates how the voltage is controlled when the varistor is incorporated into an electric circuit, and the larger the a value, the better the voltage control. Furthermore, in a low current region, the higher the resistance value, the better the performance. If this leakage current value is large, power consumption increases and causes thermal runaway. In addition, in the field of electronic devices used in communication equipment and other devices in recent years, miniaturization and lower drive voltages are rapidly progressing, and with this, varistors are also undergoing efforts to improve packaging density. There is a growing demand for ultra-miniaturization and lower voltage. In order to meet such requirements, a multilayer varistor has been proposed (see, for example, Japanese Patent Publication No. 58-23921). This multilayer varistor has a structure in which semiconductor ceramic layers and internal electrodes are alternately stacked to form a laminate, and external electrodes are formed on both end surfaces of the laminate to which one end surface of each of the internal electrodes is connected. be. By the way, the varistor voltage in the multilayer varistor described above depends on the number of grain boundaries in the thickness direction of the ceramic layer between the internal electrodes, so in order to lower the varistor voltage, it is necessary to shorten the distance between the internal electrodes. , the number of grain boundaries is reduced by increasing the grain size of the ceramic particles.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の積層型バリスタでは、低電圧化を図るためにセラミ
ックス粒界数を少なくすると、内部電極と半導体セラミ
ックス層との界面にポアが生じ易く、その結果内部電極
間で放電が生じたり,セラミックス結晶粒界の表面に電
流が流れたりすることから、漏れ電流が増大するという
問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional multilayer varistor described above, when the number of ceramic grain boundaries is reduced in order to lower the voltage, pores are likely to occur at the interface between the internal electrode and the semiconductor ceramic layer. As a result, discharge occurs between the internal electrodes and current flows on the surface of the ceramic grain boundaries, resulting in an increase in leakage current.

【0004】本発明は、上記従来の状況に鑑みてなされ
たもので、低電圧化を図りながら漏れ電流を低減できる
積層型バリスタを提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional situation, and an object of the present invention is to provide a multilayer varistor that can reduce leakage current while lowering the voltage.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本件発明者らは、上記漏
れ電流を改善するために検討したところ、内部電極とセ
ラミックス層の界面に生じるポアを絶縁物で埋めること
により、内部電極間の放電やセラミックス結晶粒界に流
れる電流を回避できることを見出し、このような絶縁物
としてガラスが最適であることに想到し、本発明を成し
たものである。そこで請求項1の発明は、半導体セラミ
ックス層と内部電極とを交互に重ねて積層体を形成し、
上記半導体セラミックス層と内部電極との界面で電圧非
直線特性を得るようにした積層型バリスタにおいて、上
記半導体セラミックス層と内部電極との界面にガラス層
を介在させたことを特徴としている。また、請求項2の
発明は、上記ガラス層にB,Si,及びPb,Bi,Z
nのうち少なくとも2種類以上添加し、かつ上記ガラス
層の厚さを0.3 μm 以下としたことを特徴として
いる。 ここで、上記ガラス層の厚さを0.3 μm 以下とし
たのは、これを越えると制限電圧が上昇するとともにサ
ージ耐量が劣化し、かえって特性が悪化するからである
[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have studied to improve the above leakage current, and found that by filling the pores that occur at the interface between the internal electrodes and the ceramic layer with an insulating material, the discharge between the internal electrodes can be improved. The inventors discovered that it is possible to avoid current flowing through ceramic grain boundaries and ceramic grain boundaries, and came to the conclusion that glass is most suitable as such an insulator, leading to the present invention. Therefore, the invention of claim 1 forms a laminate by alternately stacking semiconductor ceramic layers and internal electrodes,
The multilayer varistor is characterized in that a nonlinear voltage characteristic is obtained at the interface between the semiconductor ceramic layer and the internal electrode, in which a glass layer is interposed at the interface between the semiconductor ceramic layer and the internal electrode. Further, the invention of claim 2 provides that the glass layer contains B, Si, and Pb, Bi, Z.
The glass layer is characterized in that at least two types of n are added, and the thickness of the glass layer is 0.3 μm or less. Here, the reason why the thickness of the glass layer is set to 0.3 μm or less is because if the thickness exceeds this, the limiting voltage increases and the surge resistance deteriorates, and the characteristics deteriorate on the contrary.

【0006】[0006]

【作用】本発明に係る積層型バリスタによれば、内部電
極と半導体セラミックス層との界面にガラス層を介在さ
せたので、該ガラス層が内部電極とセラミックス層の界
面に生じるポアを埋めて両者間の絶縁性を高めることと
なり、その結果内部電極間の放電やセラミックス結晶粒
界に流れる電流を回避でき、低電圧化を図りながら漏れ
電流を低減でき、ひいては消費電力や熱暴走の問題を解
消できる。
[Function] According to the multilayer varistor of the present invention, since the glass layer is interposed at the interface between the internal electrode and the semiconductor ceramic layer, the glass layer fills the pores that occur at the interface between the internal electrode and the ceramic layer, and As a result, discharge between internal electrodes and current flowing through ceramic grain boundaries can be avoided, reducing leakage current while lowering voltage, which in turn solves the problems of power consumption and thermal runaway. can.

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明の実施例を図について説明する
。図1ないし図3は本発明の一実施例による積層型バリ
スタを説明するための図である。図において、1は本実
施例の積層型バリスタである。このバリスタ1は直方体
状のもので、ZnOを主成分とする半導体セラミックス
層2とPtからなる内部電極3とを交互に積層し、該積
層体を一体焼成して焼結体4を形成して構成されている
。また、上記各内部電極3の一端面3aは焼結体4の左
, 右端面4a,4bに交互に導出されており、他の端
面はセラミックス層2の内側に位置して焼結体4内に封
入されている。さらに上記焼結体4の左, 右端面4a
,4bにはAg/Pdからなる外部電極5が形成されて
おり、該外部電極5は上記内部電極3の一端面3aに電
気的に接続されている。なお、上記焼結体4の上,下面
にはダミーとしてのセラミックス層6が配設されている
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained with reference to the drawings. 1 to 3 are diagrams for explaining a multilayer varistor according to an embodiment of the present invention. In the figure, numeral 1 indicates a multilayer varistor of this embodiment. This varistor 1 has a rectangular parallelepiped shape, and is made by alternately laminating semiconductor ceramic layers 2 mainly composed of ZnO and internal electrodes 3 made of Pt, and integrally firing the laminated body to form a sintered body 4. It is configured. Further, one end surface 3a of each of the internal electrodes 3 is led out alternately to the left and right end surfaces 4a and 4b of the sintered body 4, and the other end surfaces are located inside the ceramic layer 2 and are drawn out inside the sintered body 4. is enclosed in. Furthermore, the left and right end surfaces 4a of the sintered body 4
, 4b are formed with an external electrode 5 made of Ag/Pd, and the external electrode 5 is electrically connected to one end surface 3a of the internal electrode 3. Note that ceramic layers 6 as dummy are provided on the upper and lower surfaces of the sintered body 4.

【0008】そして、上記各内部電極3とバリスタ特性
を発現する半導体セラミックス層2との間にはガラス層
7が挿入配設されている。このガラス層7は上記内部電
極3を覆う大きさのもので、最上部及び最下部の内部電
極3についてはこれの内面に、中央部の2つの内部電極
3についてはこれの両面に配設されている。また、上記
ガラス層7にはB,Si,及びPb,Bi,Znから選
ばれた少なくとも2種類以上が添加されており、かつ上
記ガラス層7の厚さは0.1 〜0.3 μm の範囲
内となっている。これにより、上記各内部電極3とセラ
ミックス層2との界面は絶縁されている。
A glass layer 7 is inserted between each of the internal electrodes 3 and the semiconductor ceramic layer 2 exhibiting varistor characteristics. This glass layer 7 has a size that covers the internal electrodes 3, and is disposed on the inner surface of the uppermost and lowermost internal electrodes 3, and on both sides of the two central internal electrodes 3. ing. Further, the glass layer 7 is doped with B, Si, and at least two kinds selected from Pb, Bi, and Zn, and the thickness of the glass layer 7 is 0.1 to 0.3 μm. It is within the range. Thereby, the interface between each of the internal electrodes 3 and the ceramic layer 2 is insulated.

【0009】次に本実施例の積層型バリスタ1の製造方
法について説明する。まず、ZnO( 98.2mol
 %),Bi2 O3(0.5 mol %) ,Mn
O2(0.5mol%),Co2 CO3(0.5mo
l%), Sb2 O3(0.3 mol %) を混
合してなるセラミックス材料に、B2 O3,SiO2
 ,PbO,及びZnOからなるガラス粉末を1.0 
wt%加えて原料とし、これに有機バインダを混合する
。これをドクターブレード法により厚さ20μmのグリ
ーンシートを形成した後、グリーンシートを矩形状に切
断して多数のセラミックス層2をを形成する。
Next, a method for manufacturing the multilayer varistor 1 of this embodiment will be explained. First, ZnO (98.2 mol
%), Bi2 O3 (0.5 mol %), Mn
O2 (0.5mol%), Co2 CO3 (0.5mol%)
1%), Sb2O3 (0.3 mol%), B2O3, SiO2
, PbO, and ZnO at 1.0
wt% is added as a raw material, and an organic binder is mixed therein. After forming a green sheet with a thickness of 20 μm using a doctor blade method, the green sheet is cut into rectangular shapes to form a large number of ceramic layers 2.

【0010】一方、Ptに有機ビヒクルを混合して電極
ペーストを作成する。また、B2 O3,SiO2 か
らなるガラス粉末に有機ビヒクルを混合してガラスペー
ストを作成する。そして、上記セラミックス層2の上面
に、まずガラスペーストをスクリーン印刷してガラス層
7を形成する。この場合、ガラス層7は内部電極3に対
応する位置に形成する。次いで、上記ガラス層7の上面
に電極ペーストをスクリーン印刷して内部電極3を形成
する。 これにより上記内部電極3の一端面3aがセラミックス
層2の外縁に位置し、残りの端面がセラミックス層2の
内側に位置することとなる。次に、最上部,最下部を除
く中央部の両内部電極3の上面に、上記ガラスペースト
をスクリーン印刷してガラス層7を形成する。これによ
り上記各内部電極3はガラス層7によりサンドイッチ状
に挟まれた構造となる。
On the other hand, an electrode paste is prepared by mixing Pt with an organic vehicle. Further, a glass paste is prepared by mixing an organic vehicle with a glass powder made of B2 O3 and SiO2. Then, on the upper surface of the ceramic layer 2, a glass layer 7 is first formed by screen printing a glass paste. In this case, the glass layer 7 is formed at a position corresponding to the internal electrode 3. Next, an electrode paste is screen printed on the top surface of the glass layer 7 to form the internal electrodes 3. As a result, one end surface 3a of the internal electrode 3 is located at the outer edge of the ceramic layer 2, and the remaining end surfaces are located inside the ceramic layer 2. Next, the glass paste is screen printed on the upper surfaces of both internal electrodes 3 in the center except for the top and bottom to form a glass layer 7. As a result, each of the internal electrodes 3 is sandwiched between the glass layers 7.

【0011】次に、図3に示すように、上記セラミック
ス層2と内部電極3とが交互に重なり、かつ内部電極3
の一端面3aのみがセラミックス層2の左, 右端面に
互い違いに露出するよう積層し、さらにこれの上面,下
面にダミーとしてのセラミックス層6を配設する。次に
これの積層方向をプレスで圧着して積層体を形成し、こ
れを所定寸法に切断する。これにより各内部電極3の一
端面3aのみが積層体の両端面に交互に露出し、かつ各
内部電極3とセラミックス層2との間にガラス層7が介
在されることとなる。
Next, as shown in FIG. 3, the ceramic layers 2 and the internal electrodes 3 are alternately overlapped, and the internal electrodes 3
The ceramic layer 2 is laminated so that only one end surface 3a thereof is exposed alternately on the left and right end surfaces of the ceramic layer 2, and a dummy ceramic layer 6 is provided on the upper and lower surfaces thereof. Next, this is pressed in the stacking direction with a press to form a laminate, which is then cut into a predetermined size. As a result, only one end surface 3a of each internal electrode 3 is exposed alternately on both end surfaces of the laminate, and the glass layer 7 is interposed between each internal electrode 3 and the ceramic layer 2.

【0012】そして、上記積層体を、空気中にて900
 〜1300℃の温度で所定時間加熱焼成し、焼結体4
を得る。 この焼成時にガラス成分が軟化してセラミックス層2の
界面付近に存在するポアを埋めることとなる。
[0012] Then, the above laminate was heated in air for 900 min.
The sintered body 4 is heated and fired at a temperature of ~1300°C for a predetermined time.
get. During this firing, the glass component softens and fills the pores present near the interface of the ceramic layer 2.

【0013】最後に、上記焼結体4の内部電極3の一端
面3aが露出された左, 右端面4a,4bに、Agに
Pbを添加してなる導体ペーストを塗布した後、焼き付
けて外部電極5を形成する。これにより本実施例の積層
型バリスタ1が製造される。
Finally, a conductive paste made of Ag with Pb added is applied to the left and right end surfaces 4a and 4b of the sintered body 4 where one end surface 3a of the internal electrode 3 is exposed, and then baked to form the external surface. Electrode 5 is formed. In this way, the laminated varistor 1 of this example is manufactured.

【0014】このように本実施例によれば、内部電極3
とセラミックス層2との間にガラス層7を配設したので
、内部電極3とセラミックス層2との界面付近に存在す
るポアが埋められることとなり、その結果低電圧化を図
りながら漏れ電流を低減でき、ひいては消費電力の増大
を回避できるとともに、熱暴走を回避できる。
As described above, according to this embodiment, the internal electrode 3
Since the glass layer 7 is arranged between the inner electrode 3 and the ceramic layer 2, the pores existing near the interface between the internal electrode 3 and the ceramic layer 2 are filled, and as a result, the leakage current is reduced while lowering the voltage. Therefore, an increase in power consumption can be avoided, and thermal runaway can be avoided.

【0015】[0015]

【表1】[Table 1]

【0016】[0016]

【表2】[Table 2]

【0017】次に、本実施例の積層型バリスタ1の効果
を確認するために行った試験結果について説明する。こ
の試験は、表1に示すように、B2 O3 −SiO2
 −PbO系(第1欄A)、B2 O3 −SiO2 
−Bi2 O3 系(第2欄B)、B2 O3 −Si
O2 −PbO−Bi2 O3 系(第3欄C)、B2
 O3 −SiO2 −ZnO系(第4欄D)からなる
4種類のガラス粉末に有機ビヒクルを混合してガラスペ
ーストを作成し、それぞれガラス層の厚さが0.1〜0
.5 μm となるよう上述の製造方法により積層型バ
リスタを作成した。なお、上記膜厚はグリーンシートに
印刷した時の厚さである。そして、各積層型バリスタの
V1mA 、V3A( 電流を3A流すのに必要な電圧
値)、a( 電圧非直線係数) 、サージ耐量(8/2
0 μS のインパルス電流を5分間隔で2回印加し、
バリスタ電圧の変化率が±10%以内になるような最高
電流値) 、及び漏れ電流(D・C 2V を印加した
ときに流れる電流値) を測定した。また、比較するた
めに、ガラス層を介在していない従来の積層型バリスタ
についても同様の測定を行った。表2にその結果を示す
。同表からも明らかなように、従来試料では、V1mA
 ,αは本来の特性が得られているものの、漏れ電流は
10μA と大きくなっている。 これに対して、本実施例試料A〜Dにおいては、いずれ
もV1mA ,α,サージ耐量等の特性を満足しながら
、かつ漏れ電流が0.01〜0.3 μA と大幅に低
減していることがわかる。一方、ガラス層が0.4 μ
m を越える比較試料では、漏れ電流低減効果は得られ
ているものの、V3Aが高電圧となり、サージ耐量が劣
化しており、この結果からもガラス層の厚さは0.3 
μm 以下が望ましい。
Next, the results of tests conducted to confirm the effects of the multilayer varistor 1 of this embodiment will be explained. This test was performed using B2 O3 -SiO2 as shown in Table 1.
-PbO system (first column A), B2 O3 -SiO2
-Bi2O3 system (second column B), B2O3 -Si
O2 -PbO-Bi2 O3 system (third column C), B2
A glass paste was prepared by mixing four types of glass powder consisting of O3 -SiO2 -ZnO system (fourth column D) with an organic vehicle, and the thickness of each glass layer was 0.1 to 0.
.. A multilayer varistor was fabricated using the above manufacturing method so that the thickness was 5 μm. Note that the above film thickness is the thickness when printed on a green sheet. Then, V1mA, V3A (voltage value required to flow 3A of current), a (voltage nonlinear coefficient), and surge withstand capacity (8/2) of each multilayer varistor.
An impulse current of 0 μS was applied twice at 5 minute intervals,
The maximum current value at which the rate of change of the varistor voltage was within ±10%) and the leakage current (current value flowing when DC 2V was applied) were measured. For comparison, similar measurements were also performed on a conventional multilayer varistor without a glass layer. Table 2 shows the results. As is clear from the same table, in the conventional sample, V1mA
, α have the original characteristics, but the leakage current is as large as 10 μA. On the other hand, samples A to D of this example all satisfy the characteristics such as V1mA, α, and surge resistance, and the leakage current is significantly reduced to 0.01 to 0.3 μA. I understand that. On the other hand, the glass layer is 0.4μ
In the comparison sample exceeding 20 m, although the leakage current reduction effect was obtained, V3A became a high voltage and the surge resistance deteriorated, and from this result, the thickness of the glass layer was 0.3
It is desirable that it is less than μm.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上のように本発明に係る積層型バリス
タによれば、内部電極とセラミックス層との界面にガラ
ス層を介設したので、低電圧化を図りながら漏れ電流を
低減できる効果がある。
[Effects of the Invention] As described above, according to the multilayer varistor of the present invention, since the glass layer is interposed at the interface between the internal electrode and the ceramic layer, the leakage current can be reduced while lowering the voltage. be.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の一実施例による積層型バリスタを説明
するための断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a multilayer varistor according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記実施例の積層型バリスタの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the multilayer varistor of the above embodiment.

【図3】上記実施例の積層型バリスタの製造方法を説明
するための分解斜視図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view for explaining the method of manufacturing the multilayer varistor of the above embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  積層型バリスタ 2  半導体セラミックス層 3  内部電極 4  焼結体(積層体) 7  ガラス層 1. Multilayer varistor 2 Semiconductor ceramic layer 3 Internal electrode 4 Sintered body (laminate) 7 Glass layer

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  半導体セラミックス層と内部電極とを
交互に重ねて積層体を形成し、上記半導体セラミックス
層と内部電極との界面で電圧非直線特性を得るようにし
た積層型バリスタにおいて、上記半導体セラミックス層
と内部電極との界面にガラス層を介在させたことを特徴
とする積層型バリスタ。
1. A multilayer varistor comprising a laminate formed by alternately stacking semiconductor ceramic layers and internal electrodes to obtain non-linear voltage characteristics at the interface between the semiconductor ceramic layers and the internal electrodes, wherein the semiconductor A multilayer varistor characterized by having a glass layer interposed at the interface between the ceramic layer and the internal electrode.
【請求項2】  請求項1において、上記ガラス層が、
B,Si,及びPb,Bi,Znのうち少なくとも2種
類以上を含有しており、かつ上記ガラス層の厚さが0.
3 μm 以下であることを特徴とする積層型バリスタ
2. In claim 1, the glass layer comprises:
B, Si, and at least two of Pb, Bi, and Zn are contained, and the thickness of the glass layer is 0.
A multilayer varistor characterized by having a thickness of 3 μm or less.
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