JPH04317347A - 集積回路素子の接続方法 - Google Patents
集積回路素子の接続方法Info
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- JPH04317347A JPH04317347A JP3111049A JP11104991A JPH04317347A JP H04317347 A JPH04317347 A JP H04317347A JP 3111049 A JP3111049 A JP 3111049A JP 11104991 A JP11104991 A JP 11104991A JP H04317347 A JPH04317347 A JP H04317347A
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/321—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives
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- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ICチップ等の微細な
電極を実装基板上に設けた電極に取り付ける際に用いる
電気接続用異方性導電材料及びこれを用いたICチップ
等の素子の基板等への実装に関するものであり、特にI
Cチップの液晶表示デバイス(以下LCDという)への
実装方法に関するものである。
電極を実装基板上に設けた電極に取り付ける際に用いる
電気接続用異方性導電材料及びこれを用いたICチップ
等の素子の基板等への実装に関するものであり、特にI
Cチップの液晶表示デバイス(以下LCDという)への
実装方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の電気接続用異方性導電材
料としては、導電性を有する導電粒子を絶縁性接着剤中
に分散させたものが用いられており、接続方法としては
、180〜200℃で20〜30kg/cm2程度の熱
圧着方法が用いられている。導電粒子としては、ハンダ
粒子,カーボン粒子或いはジビニルベンゼン共重合体系
等の高分子材料の表面に導電性を有するNi,Ni+A
u等の金属薄層を形成した粒子等が使用されている。 粒子径としては、平均粒径で0.01〜50μmのもの
が用いられている。絶縁性接着剤樹脂は、ウレタン系,
スチレン−ブタジェン−スチレン型ブロック共重合体系
等の熱可塑性樹脂が、熱硬化性樹脂としてエポキシ系等
が使用されている。異方性導電材料は、前記導電粒子を
0.1〜10体積%の割合で絶縁性接着樹脂中に分散す
ることにより得られている。
料としては、導電性を有する導電粒子を絶縁性接着剤中
に分散させたものが用いられており、接続方法としては
、180〜200℃で20〜30kg/cm2程度の熱
圧着方法が用いられている。導電粒子としては、ハンダ
粒子,カーボン粒子或いはジビニルベンゼン共重合体系
等の高分子材料の表面に導電性を有するNi,Ni+A
u等の金属薄層を形成した粒子等が使用されている。 粒子径としては、平均粒径で0.01〜50μmのもの
が用いられている。絶縁性接着剤樹脂は、ウレタン系,
スチレン−ブタジェン−スチレン型ブロック共重合体系
等の熱可塑性樹脂が、熱硬化性樹脂としてエポキシ系等
が使用されている。異方性導電材料は、前記導電粒子を
0.1〜10体積%の割合で絶縁性接着樹脂中に分散す
ることにより得られている。
【0003】従来のLCD実装方法を以下に説明する。
図2(a),(b)は、従来のICチップの接続方法を
工程順に示す断面図である。このICチップの接続は次
のとおりである。すなわち、図2(a)に示すように、
電極パッド4が形成されたICチップ3と、電極パッド
4に対応して形成された電極端子6を有するガラス基板
5とを、導電性粒子1を分散させて含有している熱接着
樹脂8を介して向き合わせる。次に、図2(b)に示す
ように、ICチップ3をガラス基板5に押し付けて加熱
することにより、熱接着樹脂8を軟化させ、電極パッド
4と電極端子6とを導電性粒子1により接続することに
よって行われる。
工程順に示す断面図である。このICチップの接続は次
のとおりである。すなわち、図2(a)に示すように、
電極パッド4が形成されたICチップ3と、電極パッド
4に対応して形成された電極端子6を有するガラス基板
5とを、導電性粒子1を分散させて含有している熱接着
樹脂8を介して向き合わせる。次に、図2(b)に示す
ように、ICチップ3をガラス基板5に押し付けて加熱
することにより、熱接着樹脂8を軟化させ、電極パッド
4と電極端子6とを導電性粒子1により接続することに
よって行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のLCD
接続実装方法は、接続部分において加熱圧着状態で一括
固定するため、固着時に熱応力が生じ、これが原因で接
続部分にクラック或いは剥がれ等が発生しやすいと言う
問題があった。また、短期的にクラック、剥がれのよう
な損傷はなかった場合でも、長期信頼性において接続不
良が発生すると言う問題もあった。
接続実装方法は、接続部分において加熱圧着状態で一括
固定するため、固着時に熱応力が生じ、これが原因で接
続部分にクラック或いは剥がれ等が発生しやすいと言う
問題があった。また、短期的にクラック、剥がれのよう
な損傷はなかった場合でも、長期信頼性において接続不
良が発生すると言う問題もあった。
【0005】また従来の接続実装方法は、加熱工程によ
る接続であるため、急速な加熱を行うと、接着剤樹脂粘
度が急激な低下をきたし、ボンディング領域外へ流出し
てしまい、接続部分に気泡が生じ、接続不良の原因にな
るという問題点もあった。
る接続であるため、急速な加熱を行うと、接着剤樹脂粘
度が急激な低下をきたし、ボンディング領域外へ流出し
てしまい、接続部分に気泡が生じ、接続不良の原因にな
るという問題点もあった。
【0006】本発明の目的は、前記課題を解決した集積
回路素子の接続方法を提供することにある。
回路素子の接続方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
、本発明に係る集積回路素子の接続方法においては、集
積回路素子と配線基板とを異方性導電材料により電気接
続を行う集積回路素子の接続方法であって、異方性導電
材料として、電子線硬化型絶縁性接着剤樹脂中に導電粒
子を分散させたものを使用し、集積回路素子と配線基板
とのボンディング領域に前記異方性導電材料を配置して
集積回路素子と配線基板とを圧着し、その圧着状態で前
記異方性導電材料を電子線の照射により硬化させ、電気
接続を行うものである。
、本発明に係る集積回路素子の接続方法においては、集
積回路素子と配線基板とを異方性導電材料により電気接
続を行う集積回路素子の接続方法であって、異方性導電
材料として、電子線硬化型絶縁性接着剤樹脂中に導電粒
子を分散させたものを使用し、集積回路素子と配線基板
とのボンディング領域に前記異方性導電材料を配置して
集積回路素子と配線基板とを圧着し、その圧着状態で前
記異方性導電材料を電子線の照射により硬化させ、電気
接続を行うものである。
【0008】
【作用】前述したように、従来の接続実装方法は、加熱
圧着状態で一括固定するために諸問題が発生している。 これらの問題を解決するために、鋭意工夫を行った。そ
の結果、本発明の異方性導電材料は、電子線硬化型絶縁
性接着剤中に、導電粒子を分散させた構造となっている
ので、実装時にまずボンディング領域で圧着後、電子線
により瞬時に硬化できるようになっている。電子線硬化
型絶縁性接着剤は、エポキシアクリレート,ウレタンア
クリレート,ポリエステルアクリレート,ウレタン変性
ポリエステルアクリレート等を20〜90重量部、反応
性希釈剤として、ジシクロペンタジエンモノアクリレー
ト,ジシクロペンタジエンエトキシアクリレート,イソ
ボルニルアクリレート,N−ビニルピロリドン,シクロ
ヘキシルアクリレート,2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート,メタアクリロキシエチルフォスフェート
,ビス(メタアクリロキシエチル)フォスフェート等か
ら選ばれる一種以上のものを10〜80重量部配合する
ことにより得られるが、樹脂,反応性希釈剤は、ここに
掲げたものに限定されるものではない。異方性導電材料
の接着剤として、電子線硬化型を用いることにより、接
続信頼性の高い、実装作業性の良い集積回路素子の接続
作業を行うことが可能となる。
圧着状態で一括固定するために諸問題が発生している。 これらの問題を解決するために、鋭意工夫を行った。そ
の結果、本発明の異方性導電材料は、電子線硬化型絶縁
性接着剤中に、導電粒子を分散させた構造となっている
ので、実装時にまずボンディング領域で圧着後、電子線
により瞬時に硬化できるようになっている。電子線硬化
型絶縁性接着剤は、エポキシアクリレート,ウレタンア
クリレート,ポリエステルアクリレート,ウレタン変性
ポリエステルアクリレート等を20〜90重量部、反応
性希釈剤として、ジシクロペンタジエンモノアクリレー
ト,ジシクロペンタジエンエトキシアクリレート,イソ
ボルニルアクリレート,N−ビニルピロリドン,シクロ
ヘキシルアクリレート,2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート,メタアクリロキシエチルフォスフェート
,ビス(メタアクリロキシエチル)フォスフェート等か
ら選ばれる一種以上のものを10〜80重量部配合する
ことにより得られるが、樹脂,反応性希釈剤は、ここに
掲げたものに限定されるものではない。異方性導電材料
の接着剤として、電子線硬化型を用いることにより、接
続信頼性の高い、実装作業性の良い集積回路素子の接続
作業を行うことが可能となる。
【0009】
【実施例】次に、本発明について、図面を参照して説明
する。
する。
【0010】図1は、本発明の異方性導電材料を用いた
ICチップ等の微細な電極と実装基板上に設けた電極と
の接続実装の一実施例を示すもので、(a),(b)は
、本発明のICチップの接続方法を工程順に示す断面図
である。
ICチップ等の微細な電極と実装基板上に設けた電極と
の接続実装の一実施例を示すもので、(a),(b)は
、本発明のICチップの接続方法を工程順に示す断面図
である。
【0011】まず図1(a)に示すように、ICチップ
3の表面には、例えば20μmの厚み,200μmのピ
ッチで電極パッド4が形成され、ガラス基板5には、電
極パッド4に対応して、例えば10μmの厚み,200
μmのピッチで電極端子6が形成されている。
3の表面には、例えば20μmの厚み,200μmのピ
ッチで電極パッド4が形成され、ガラス基板5には、電
極パッド4に対応して、例えば10μmの厚み,200
μmのピッチで電極端子6が形成されている。
【0012】次にICチップ3の電極パッド4の表面を
洗浄し、その後、例えば、ジビニルベンゼン共重合系の
粒子にNi,Auメッキを施し、平均粒子径が10μm
の導電粒子1を電子線硬化型絶縁性接着剤樹脂2中に例
えば1体積%分散させた異方性導電材料を、電極パッド
4を含めたICチップ3の表面に塗布する。
洗浄し、その後、例えば、ジビニルベンゼン共重合系の
粒子にNi,Auメッキを施し、平均粒子径が10μm
の導電粒子1を電子線硬化型絶縁性接着剤樹脂2中に例
えば1体積%分散させた異方性導電材料を、電極パッド
4を含めたICチップ3の表面に塗布する。
【0013】さらに、ガラス基板5の電極端子6を含む
表面を洗浄し、電極端子6を含む表面に導電性粒子1を
含む接着樹脂2を塗布する。実施例では、電子線硬化型
絶縁性接着剤樹脂2として、東洋紡(株)製バイロン(
商品名)を用いた。
表面を洗浄し、電極端子6を含む表面に導電性粒子1を
含む接着樹脂2を塗布する。実施例では、電子線硬化型
絶縁性接着剤樹脂2として、東洋紡(株)製バイロン(
商品名)を用いた。
【0014】次に、電極パッド4と電極端子6とを向き
合わせて、ICチップ3をガラス基板5上に載せる。
合わせて、ICチップ3をガラス基板5上に載せる。
【0015】次に図1(b)に示すように、荷重を加え
てICチップ3を圧下し、電極パッド4と電極端子6と
を、例えば20kg/cm2の圧力で圧着させ、これと
同時に、横方向及びガラス基板5の裏面方向より電子線
7を5秒照射し、ICチップ3とガラス基板5間に付着
した樹脂2を硬化させ、ICチップ3とガラス基板5を
接着固定した。
てICチップ3を圧下し、電極パッド4と電極端子6と
を、例えば20kg/cm2の圧力で圧着させ、これと
同時に、横方向及びガラス基板5の裏面方向より電子線
7を5秒照射し、ICチップ3とガラス基板5間に付着
した樹脂2を硬化させ、ICチップ3とガラス基板5を
接着固定した。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
子線硬化型絶縁性接着剤樹脂中に導電粒子を分散させ、
実装時にボンディング領域で圧着後、電子線の照射によ
り瞬時に硬化ができ、急速な加熱による接着剤粘度の急
激な低下が生じないため、接続部分に気泡が発生すると
言う問題を解決でき、これにより、接続信頼性が高く、
実装作業性が良くなると言う効果がある。
子線硬化型絶縁性接着剤樹脂中に導電粒子を分散させ、
実装時にボンディング領域で圧着後、電子線の照射によ
り瞬時に硬化ができ、急速な加熱による接着剤粘度の急
激な低下が生じないため、接続部分に気泡が発生すると
言う問題を解決でき、これにより、接続信頼性が高く、
実装作業性が良くなると言う効果がある。
【図1】本発明に係わるICチップの接続方法を工程順
に示す断面図である。
に示す断面図である。
【図2】従来のICチップの接続方法を工程順に示す断
面図である。
面図である。
1 導電粒子
2 電子線硬化型接着剤
3 ICチップ
4 電極パッド
5 ガラス基板
6 電極端子
7 電子線
8 熱接着樹脂
Claims (1)
- 【請求項1】 集積回路素子と配線基板とを異方性導
電材料により電気接続を行う集積回路素子の接続方法で
あって、異方性導電材料として、電子線硬化型絶縁性接
着剤樹脂中に導電粒子を分散させたものを使用し、集積
回路素子と配線基板とのボンディング領域に前記異方性
導電材料を配置して集積回路素子と配線基板とを圧着し
、その圧着状態で前記異方性導電材料を電子線の照射に
より硬化させ、電気接続を行うことを特徴とする集積回
路素子の接続方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3111049A JPH04317347A (ja) | 1991-04-16 | 1991-04-16 | 集積回路素子の接続方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3111049A JPH04317347A (ja) | 1991-04-16 | 1991-04-16 | 集積回路素子の接続方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04317347A true JPH04317347A (ja) | 1992-11-09 |
Family
ID=14551113
Family Applications (1)
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JP (1) | JPH04317347A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1043767A1 (en) * | 1998-10-30 | 2000-10-11 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device, method of manufacture thereof, circuit board and electronic device |
US6133978A (en) * | 1996-04-26 | 2000-10-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Tape carrier package and liquid crystal display device |
-
1991
- 1991-04-16 JP JP3111049A patent/JPH04317347A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6133978A (en) * | 1996-04-26 | 2000-10-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Tape carrier package and liquid crystal display device |
US6396557B1 (en) | 1996-04-26 | 2002-05-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Tape carrier package and liquid crystal display device |
EP1043767A1 (en) * | 1998-10-30 | 2000-10-11 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device, method of manufacture thereof, circuit board and electronic device |
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US6853086B1 (en) | 1998-10-30 | 2005-02-08 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of manufacture thereof, circuit board, and electronic instrument |
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