JPH04317005A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタの製造方
法に係り、特に、例えば液晶ディスプレイ等のフラット
ディスプレイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラ
ーセンサ等に用いられるカラーフィルタを高精度で、か
つ効率よく得ることのできるカラーフィルタの製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、カラービデオカメラの撮像管に
は、複数色の微細なストライプが透明基板上に形成され
たカラーフィルタが装着されている。また、液晶ディス
プレイ（ＬＣＤ）においても、近年のカラー化の要請に
対応するために、アクティブマトリックス方式および単
純マトリックス方式のいずれの方式においてもカラーフ
ィルタが用いられている。例えば、薄膜トランジスタ（
ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶デ
ィスプレイでは、カラーフィルタは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）
、青（Ｂ）の３原色が用いられ、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれ
の画素に対応する電極をオン、オフさせることで液晶が
シャッタとして作動しＲ，Ｇ，Ｂのそれぞれの画素を光
が透過してカラー表示が行われる。そして、色混合は２
色以上の画素に対応する液晶シャッタを開き混色して別
の色に見せる加色混合の原理により網膜上で視覚的に行
われる。

【０００３】上述のようにして用いられるカラーフィル
タは、従来、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等の
手段を用いて製造されていた。ここで、染色法によるカ
ラーフィルタの製造は、ゼラチン、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール等の親水性樹脂に重クロム酸塩等の感光剤
を添加した塗布液を、スピンコート塗布法等により透明
ガラス基板上に塗布し、次いで、所定パターンのマスク
を用いて露光・現像を行い、その後、染料により染色し
て第一着色層を形成する。その後、この第一着色層上に
二度染め防止のために防染層を設けてから第二着色層お
よび第三着色層をそれぞれ第一着色層の形成と同様にし
て形成する。これにより、透明ガラス基板上にＲ，Ｇ，
Ｂの各着色層を備えたカラーフィルタを得ることができ
る。

【０００４】また、顔料分散法を用いたカラーフィルタ
の製造は、透明感光性樹脂に有機顔料、無機顔料等の着
色剤を分散した感光液を透明ガラス基板上に塗布して感
光性樹脂層を形成する。次に、この感光性樹脂層上に所
定形状の開口パターンを有するマスクを載置し、露光・
現像を行い第一着色層を形成する。同様にして第二着色
層、第三着色層を形成してＲ，Ｇ，Ｂの各着色層を備え
たカラーフィルタを得ることができる。

【０００５】また、印刷法を用いたカラーフィルタの製
造は、平版オフセット印刷、凹版オフセット印刷等のオ
フセット方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式
等の印刷工程のみで着色層を形成するものである。さら
に、電着法を用いたカラーフィルタの製造は、基板に予
め酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜をフォトリソグラフ
ィーで形成しておき、電着槽中で電気泳動法により所定
の領域に着色層を形成するものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、染色法
においては、色調が豊富で解像性に優れるカラーフィル
タが得られる反面、染色の際に既に着色された部分が二
度染めされないように防染対策を施す必要がある等の点
から工程が煩雑であり製造コストが高くなるという問題
があった。また、被染体に水溶性高分子材料を用いてい
るため耐熱性、耐薬品性、耐光性等が劣るという問題も
あった。

【０００７】また、顔料分散法においては、微細なパタ
ーンを形成することが可能である反面、色変えの度にフ
ォトリソグラフィー工程の処理を行う必要があり工程が
煩雑であるとともに、１５インチ以上の大型パネルを製
造する場合の設備費がかかり、製造コスト低減が困難で
あるという問題があった。また、印刷法は、低コスト化
と量産化を同時に可能にするとともに、大画面化も可能
なカラーフィルタの製造方法であるが、寸法精度は±１
０μｍ程度と低く、またピンホール、色ムラが発生し易
くパターン品質が不充分であるという問題があった。

【０００８】さらに、電着法は、寸法精度、パターン品
質とも顔料分散法と同レベルにあり、工程数も減少する
が、高価なＣｒパターンブラックマトリックス形成工程
およびＩＴＯパターン形成工程を含み、製造コストが高
くなるという問題があった。また、１５インチ以上の大
型パネルを製造する場合、設備費の増大という問題もあ
った。

【０００９】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等に用いられるカラーフィルタを高精度で、かつ効率よ
く得ることのできるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は複数色の着色パターンからなる着色
層を備えるカラーフィルタの製造方法において、所定の
着色パターン用の溝部が形成された母型の該溝部に着色
顔料を含有する電離放射線硬化樹脂を充填し、その後、
透明基板と前記溝部内の電離放射線硬化樹脂とを密着さ
せ、前記透明基板側および前記母型側の少なくとも一方
から電離放射線を照射して前記溝部内の電離放射線硬化
樹脂を硬化させるとともに前記透明基板に接着させて前
記透明基板上に着色パターンを形成する工程、を必要色
数分繰り返して前記透明基板上に着色層を形成するよう
な構成とした。

【００１１】

【作用】着色顔料を含有する電離放射線硬化樹脂は、母
型に形成された所定の着色パターン用の溝部に充填され
透明基板と密着された状態で透明基板側および母型側の
少なくとも一方から電離放射線が照射されて硬化される
と同時に透明基板に接着して着色パターンを形成し、こ
れを繰り返すことにより必要とする複数色の着色パター
ンからなる着色層を備えるカラーフィルタが得られる。 これにより、耐熱性、耐光性等を有しパターン寸法精度
が良好なカラーフィルタの製造が可能になるとともに、
カラーフィルタの工程の簡略化がなされて製造コストの
低減が可能である。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明により製造されたカラーフ
ィルタを用いたアクティブマトリックス方式による液晶
ディスプレイ（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図であり、図
２は同じく概略断面図である。図１および図２において
、ＬＣＤ１はカラーフィルタ１０と透明ガラス基板２０
とをシール材３０を介して対向させ、その間に捩れネマ
ティック（ＴＮ）液晶からなる厚さ約５〜１０μｍ程度
の液晶層４０を形成し、さらに、カラーフィルタ１０と
透明ガラス基板２０の外側に偏光板５０，５１が配設さ
れて構成されている。

【００１３】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図であり、カラーフィルタ１０は透明基板１２と、この
透明基板１２上に形成された着色層１４およびブラック
マトリックス１６と、この着色層１４およびブラックマ
トリックス１６とを覆うように設けられた保護層１８と
透明共通電極１９とを備えている。このカラーフィルタ
１０は透明共通電極１９が液晶層４０側に位置するよう
に配設されている。そして、着色層１４は赤色パターン
１４Ｒ、緑色パターン１４Ｇ、青色パターン１４Ｂから
なり、各着色パターンの配列は図１に示されるようにモ
ザイク配列となっている。尚、着色パターンの配列はこ
れに限定されるものではなく、三角配列、ストライプ配
列等としてもよい。

【００１４】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１３に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。

【００１５】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。ここで
、本発明によるカラーフィルタ製造の一例を図４を参照
して説明する。先ず、母型４Ｒの赤色パターン用の溝部
６Ｒが形成された面に、赤色顔料を含有する電離放射線
硬化樹脂を滴下し、ドクターにて余分な電離放射線硬化
樹脂を除去して溝部６Ｒにのみ電離放射線硬化樹脂８Ｒ
を充填する（図４（Ａ））。次に、透明基板１２を母型
４Ｒ上に重ねて溝部６Ｒに充填されている電離放射線硬
化樹脂８Ｒと密着させ、この状態で透明基板１２側から
電離放射線を照射する（図４（Ｂ））。これにより、電
離放射線硬化樹脂８Ｒは硬化するとともに、透明基板１
２に接着され、母型４Ｒと透明基板１２とを分離するこ
とにより赤色パターン１４Ｒが形成された透明基板１２
が得られる（図４（Ｃ））。次に、緑色パターン用の溝
部６Ｇが形成された母型４Ｇに、緑色顔料を含有する電
離放射線硬化樹脂を滴下し、ドクターにて余分な電離放
射線硬化樹脂を除去して溝部６Ｇにのみ電離放射線硬化
樹脂８Ｇを充填する（図４（Ｄ））。そして、溝部６Ｇ
に充填された電離放射線硬化樹脂８Ｇが透明基板１２上
の赤色パターン１４Ｒが形成されていない所定領域と密
着するように透明基板１２と母型４Ｇとを重ね、透明基
板１２側から電離放射線を照射した後、母型４Ｇと透明
基板１２とを分離することにより緑色パターン１４Ｇが
形成された透明基板１２が得られる（図４（Ｅ））。 同様に、青色パターン用の溝部が形成された母型を用い
、この溝部に充填された青色顔料を含有する電離放射線
硬化樹脂と透明基板１２上の赤色パターン１４Ｒおよび
緑色パターン１４Ｇが形成されていない所定領域とを密
着するように透明基板１２と母型とを重ねる。そして、
透明基板１２側から電離放射線を照射した後、母型と透
明基板１２とを分離することにより青色パターン１４Ｂ
が形成された透明基板１２が得られる（図４（Ｆ））。 このようにして、透明基板１２上には赤色パターン１４
Ｒ、緑色パターン１４Ｇおよび青色パターン１４Ｂから
なる着色層１４が形成される。この着色層１４の各着色
パターン間には所定の間隙が残されており、次に、この
間隙部分にブラックマトリックスが形成される。すなわ
ち、ブラックマトリックス用の溝部が形成された母型を
用い、光非透過性物質を含有する電離放射線硬化樹脂を
この溝部に充填し、次に、溝部に充填された電離放射線
硬化樹脂が透明基板１２上の各着色パターンが形成され
ていない所定領域と密着するように透明基板１２と母型
とを重ねる。そして、透明基板１２側から電離放射線を
照射した後、母型と透明基板１２とを分離することによ
り透明基板１２上にブラックマトリックス１６が形成さ
れる（図４（Ｇ））。

【００１６】上述の例では着色層１４の各着色パターン
間に残された間隙部分にブラックマトリックス１６が形
成されるが、間隙を残すことなく着色層１４を形成し、
ブラックマトリックス１６を各着色パターンの境界上に
形成するようにしてもよい。また、ブラックマトリック
ス形成工程を削除することにより、ブラックマトリック
スのないカラーフィルタを製造することができる。

【００１７】また、母型の溝部への電離放射線硬化樹脂
の充填は、上述のようにドクターにより余分の電離放射
線硬化樹脂を除去する１回の操作で行ってもよく、また
、このようにして一度充填を行った後、電離放射線を照
射して硬化させ、その後、再度充填操作を行って溝部へ
の充填率を向上させてもよい。本発明にて使用すること
のできる母型の大きさ、溝部形状は、目的とするカラー
フィルタに対応して適宜決定される。例えばスーパーツ
イストネマティック（ＳＴＮ）単純マトリックス方式用
のカラーフィルタに対応する場合、着色パターン用母型
は幅１１０μｍ、深さ３μｍ、長さ２００ｍｍ程度の溝
が３９０μｍピッチで４８０本並んだものとすることが
できる。また、ブラックマトリックス用母型は幅２０μ
ｍ、深さ３μｍ、長さ２００ｍｍ程度の溝が１３０μｍ
ピッチで１４４１本並んだものとすることができる。 そして、着色パターン用母型を用いて図４に示されるよ
うに透明基板上に幅１１０μｍの赤色パターン１４Ｒ、
緑色パターン１４Ｇおよび青色パターン１４Ｂ（計１４
４０本）を２０μｍ間隔で順に形成し、ブラックマトリ
ックス用母型を用いて各着色パターン間にブラックマト
リックスを形成することができる。

【００１８】また、母型の溝部の断面形状は、図５（Ａ
）に示されるように底部に対して側面が垂直であるよう
な矩形状、図５（Ｂ）に示されるように底部に対して側
面がテーパーθを有する形状、図５（Ｃ）に示されるよ
うに側面が階段状であるもの等とすることがでいる。特
に、溝部の断面形状を図５（Ｂ），（Ｃ）に示される断
面形状とすることにより、母型と電離放射線硬化樹脂と
の剥離性が向上する。この場合、テーパーθは９０°〜
１０°、好ましくは６０°〜４０°程度である。 また、溝部の底部の平面性および溝部の深さ精度は、そ
れぞれ±１０μｍ以内であることが好ましい。母型の材
料は、寸法安定性、低熱膨脹率、耐面内変形性に優れ、
電離放射線に対する耐性および電離放射線硬化樹脂に対
する耐性を有するとともに、余分な電離放射線硬化樹脂
をドクター等により除去する際の耐磨耗性を有すること
が要求される。このような材料としては、無アルカリガ
ラス、アルカリガラス、表面研磨ガラス、低熱膨脹ガラ
ス等のガラス、セラミックス；　　アルミニウム、クロ
ム、銅、ニッケル等の金属あるいは金属化合物；塩化ビ
ニル酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂
、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、シリコーン系
樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂あるいはフィラー含有樹脂
等；あるいは上記の複合体等を用いることができる。 また、母型と電離放射線硬化樹脂との剥離性を向上させ
るために、シリコーンオイル散布、金属表面のクロマイ
ト処理等の表面処理、樹脂中への離型成分の導入、離型
剤の添加等を行ってもよい。

【００１９】上述のような材料を用いた母型形成は、機
械切削、ウエットエッチング、ドライエッチング、放射
線加工（レーザー、電子ビーム等）、薄膜形成、メッキ
等の一般的加工方法に従って行うことができる。また、
母型は図６（Ａ）に示されるように溝部６を画定する凸
部４ａと基部４ｂとが同一材料で一体的に形成されたも
の、あるいは図６（Ｂ）に示されるように溝部６を画定
する凸部４ａと基部４ｂとを別の材料で形成されたもの
であってよい。さらに、図６（Ｃ）に示されるように溝
部６を画定する凸部４ａと基部４ｂとを同一材料で一体
的に形成し、凸部４ａ上に金属層４ｃを形成して耐磨耗
性を向上したもの、図６（Ｄ）に示されるように溝部６
を画定する凸部４ａと基部４ｂとを別の材料で形成し、
凸部４ａ上に金属層４ｃを形成して耐磨耗性を向上した
もの等とすることができる。

【００２０】また、母型は上述のような平板形状である
ことに限定されるものではなく、ロール形状であっても
よい。すなわち、図７に示されるようにシリンダー状の
母型材料６２の周面に溝部６４を形成した母型６０とす
ることができる。この場合、母型６０の溝部６４に電離
放射線硬化樹脂６８を充填し、透明基板１２を母型６０
の下方を通過させて電離放射線硬化樹脂６８と接着させ
るとともに、透明基板１２側から電離放射線を照射して
電離放射線硬化樹脂６８を硬化して透明基板１２に接着
させて着色パターンを形成することができる。また、柔
軟性を有する母型材料を用いて形成した平板形状の母型
を、シリンダーに巻き付けてロール形状の母型としたも
の等を使用することができる。

【００２１】カラーフィルタ１０の透明基板１２として
は、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の
柔軟性のないリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、
光学用樹脂板等の柔軟性を有するフレキシブル材等を用
いることができる。このなかで、特にコーニング社製７
０５９ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定
性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガ
ラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであ
るため、アクティブマトリックス方式によるＬＣＤ用の
カラーフィルタに適している。

【００２２】そして、本発明では上記の母型および透明
基板の少なくとも一方は柔軟性を有することが好ましい
。このように、柔軟性を有する母型および／または透明
基板を使用することにより、母型の溝部に充填されてい
る電離放射線硬化樹脂と透明基板との密着性を向上させ
ることができる。また、母型側から電離放射線を照射す
る場合は、母型の材料を透明なものとする必要がある。

【００２３】電離放射線硬化樹脂は公知のものを用いる
ことができ、例えば、エポキシアクリレート、ウレタン
アクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテ
ルアクリレート、シリコンアクリレート、メラミンアク
リレート、不飽和ポリエステル、ポリエン／チオール等
の光重合性オリゴマー、単官能アクリレート、多官能ア
クリレート等の光重合性モノマー、ベンゾイン系、アセ
トフェノン系、チオキサンリン系、パーオキシド系等の
光重合開始剤、アミン系、キノン系等の光重合開始助剤
等からなるものを用いることができる。また、電離放射
線硬化樹脂には充填材、接着付与剤、可塑剤、非反応性
ポリマー、およびユリア樹脂、アミド樹脂、フェノール
／ホルマリン樹脂等の樹脂を添加してもよい。特に、こ
のような電離放射線硬化樹脂は後述するような着色顔料
を含有するため、照射された電離放射線が深く浸透する
ようにアセトフェノン構造の光重合開始剤に比べて感応
波長が長いチオキサンリン構造の光重合開始剤を用いる
ことが好ましい。また、アリレートと混合した場合に、
長波長増感効果のあるα−アミノアセトフェノン等の光
重合開始剤の使用が好ましい。また、電離放射線硬化樹
脂は電離放射線照射により硬化した際の収縮率が小さい
ものが好ましい。

【００２４】このような電離放射線硬化樹脂に含有され
る着色顔料は、有機顔料、無機顔料いずれでもよく、要
求される分光特性に応じて種々選定することができる。 有機顔料としては、アゾレーキ顔料、不溶性アゾ顔料、
縮合アゾ顔料、銅フタロシアニン顔料、無金属フタロシ
アニン顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン、ペノリ
ン、ジオキサジン等の縮合多環顔料、および酸性または
塩基性染料のレーキ、あるいはこれらの混合物等を用い
ることができる。また、無機顔料としては、チタン白等
の白色顔料、炭酸カルシウム等の体質顔料、カーボンブ
ラック等の黒色顔料、カドミウムレッド等の赤色顔料、
チタンイエロー等の黄色顔料、チタンコベルトグリーン
等の緑色顔料、コバルトブルー等の青色顔料、マンガン
バイオレット等の紫色顔料等を用いることができる。特
に、変色温度が１５０℃以上、好ましくは２５０℃以上
であるような耐熱性の高い顔料が好ましい。また、ブラ
ックマトリックス用の光不透過物質としては、カーボン
ブラック、グラファイト、黒色酸化鉄、鉄黒、銅酸化物
、マンガン酸化物などの金属酸化物等を用いることがで
きる。このような顔料の平均粒子径は数μｍ以下が好ま
しく、特に５μｍ以上の粒子を含まない顔料が好ましい
。

【００２５】上記の顔料に対して表面処理を行うことに
より耐熱性等を向上させることができる。表面処理とし
ては、ロジン変性処理、アミン・カチオン活性剤処理、
脂肪酸・アニオン活性剤処理、ノニオン活性剤処理、ポ
リマー樹脂処理、顔料誘導体による処理、部分酸化等の
トポケミカルな方法による処理、溶剤処理等、あるいは
これらの併用が可能である。また、耐熱性を向上させる
ために、顔料結晶にわずかに異なった構造の誘導体を組
み込むことも好適であり、例えば銅フタロシアニン顔料
に部分塩素化銅フタロシアニンやフタルイミドメチル銅
フタロシアニン等を少量併用することで変色温度の上昇
がみられる。さらに、顔料成分にカルバモイル基（−Ｃ
ＯＮＨ２　）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を導入す
ることによっても変色温度の上昇がみられる。

【００２６】尚、無機顔料は有機顔料に比べて紫外線を
透過し難いため、無機顔料を使用する場合は光重合開始
剤の含有率を５〜２０重量％に高めるか、あるいは顔料
の表面処理を行う必要がある。但し、電離放射線として
電子線を用いる場合は、このような対応をとる必要はな
い。着色顔料を含有した電離放射線硬化樹脂の粘度は、
１００００ｃｐｓ以下が好ましく、特に、表面平坦性お
よび気泡混入防止に点から５００ｃｐｓ以下が好ましい
。

【００２７】電離放射線の照射源としては、低圧水銀ラ
ンプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハラ
イドランプ、パルスキセノンランプ、無電極放電ランプ
等の紫外線照射装置を用いることができ、照射量は１０
〜５００Ｗ／ｃｍ程度が好ましい。また、コールドミラ
ーを用いて赤外光を取り除き、被照射物の昇温を防止す
るようにしてもよい。尚、平板状の母型を用いる場合、
透明基板と母型とで電離放射線硬化樹脂を挟んだ際に電
離放射線硬化樹脂のうち酸素に触れる部分の硬化不良が
発生し易いため、窒素雰囲気中で硬化を行うことが好ま
しい。また、電離放射線の照射源として線状フィラメン
ト型、走査型等の電子線発生装置を用いることもできる
。この場合、照射エネルギーは１００〜５００ｋＶで１
〜１０Ｍｒａｄ程度が好ましい。

【００２８】カラーフィルタ１０の着色層１６を覆うよ
うに設けられる保護層１８は、カラーフィルタ１０の表
面平滑化、信頼性の向上、および液晶層４０への汚染防
止等を目的とするものであり、アクリル系樹脂、エポキ
シ系樹脂、ポリイミド系樹脂等の透明樹脂、あるいは二
酸化ケイ素（ＳｉＯ２　）等の透明無機化合物等を用い
て形成することができる。保護層の厚さは０．５〜５０
μｍ程度が好ましい。

【００２９】透明共通電極１９としては、酸化インジウ
ムスズ（ＩＴＯ）膜を用いることができる。ＩＴＯ膜は
蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成すること
ができ、厚さは２００〜２０００Å程度が好ましい。次
に、実験例を示して本発明を更に詳細に説明する。 （実験例１）表面研磨した無アルカリガラス（厚さ２ｍ
ｍ）を４枚準備し、スパッタリング法により各ガラスの
表面に厚さ３００００Åのクロム（Ｃｒ）膜を形成し、
このＣｒ膜上にフォトレジストを厚さ２μｍで塗布した
。次に、幅１１０μｍ、長さ２００ｍｍの開口部分が３
９０μｍピッチで４８０本並んだストライプ状のフォト
マスク（ネガタイプ）Ｎｏ．１〜３と、幅２０μｍ、長
さ２００ｍｍの開口部分が１３０μｍピッチで１４４０
本並んだストライプ状のフォトマスク（ネガタイプ）Ｎ
ｏ．４とを準備した。そして、これらのフォトマスクを
用いて上記の各ガラスのＣｒ膜側から露光・現像エッチ
ングを行った。これにより、フォトマスクＮｏ．１〜３
を用いたガラスは、それぞれ幅１１０μｍ、深さ３μｍ
、長さ２００ｍｍの溝が３９０μｍピッチで４８０本並
んだ母型Ｎｏ．１〜３とされ、また、フォトマスクＮｏ
．４を用いたガラスは、幅２０μｍ、深さ３μｍ、長さ
２００ｍｍの溝が１３０μｍピッチで１４４１本並んだ
ブラックマトリックス用の母型Ｎｏ．４とされた。

【００３０】次に、下記の青色顔料、緑色顔料、赤色顔
料および紫外線硬化樹脂を準備し、各着色顔料をシラン
カップリング処理した後、紫外線硬化樹脂１００重量部
に対して青色顔料は１２重量部、緑色顔料は２０重量部
、赤色顔料は２０重量部を、それぞれ混合分散して青色
、緑色、赤色の各着色紫外線硬化樹脂とした。 （青色顔料） 　　・リオノールブルーＥＳ　　東洋インキ製造（株）
製　　　　　　　　　　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　　Ｂ
ｌｕｅ１５．６　　　　　　　　…９重量部　　・リオ
ノゲンバイオレットＲＬ　　東洋インキ製造（株）製　
　　　　　　　　　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　　Ｖｉｏ
ｌｅｔ２３　　　　　　　　…３重量部（緑色顔料） 　　・リオノールグリーン２ＹＳ　　東洋インキ製造（
株）製　　　　　　　　　　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　
　Ｇｒｅｅｎ３６　　　　　　　　　　…１５重量部　
　・セイカファーストイエロー２７００　　大日精化工
業（株）製　　　　　　　　　　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎ
ｔ　　Ｙｅｌｌｏｗ８３　　　　　　　　…４重量部（
赤色顔料） 　　・リオトゲンレッドＧＤ　　東洋インキ製造（株）
製　　　　　　　　　　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　　Ｒ
ｅｄ１６８　　　　　　　　　　　　…２３重量部　　
・リオノーゲンレッドＲＬ　　東洋インキ製造（株）製
　　　　　　　　　　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　　Ｏｒ
ｅｎｇｅ３６　　　　　　　　…８重量部（紫外線硬化
樹脂） 　　・オリゴエステルアクリレート 　　　　　　　　　　　　　　（Ｍ−７１００，東亜合
成（株）製）　　　　　　　　　　…５０重量部　　・
ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート
　　　　　　　　　　　　　　（Ｍ−１１１，東亜合成
（株）製）　　　　　　　　　　　　…２０重量部　　
・Ｎ−ビニル−２−ピロリドン（粘度２ｃｐｓ）　　　
　　　　　　　　　…２０重量部　　・光重合開始剤　
　１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　　　
　　　　　　　　　　　（日本チバガイギー製イルガキ
ュア１８４）　　　　…３重量部さらに、カーボンブラ
ック５重量部を上記の紫外線硬化樹脂１００重量部に混
合分散して、ブラックマトリックス用の黒色紫外線硬化
樹脂とした。

【００３１】つぎに、母型Ｎｏ．１の全面に青色紫外線
硬化樹脂を流し、母型Ｎｏ．１上にドクターを摺動させ
ることにより余分な青色紫外線硬化樹脂を除去して母型
Ｎｏ．１の溝部にのみ青色紫外線硬化樹脂を充填した。 同様にして、母型Ｎｏ．２の溝部に緑色紫外線硬化樹脂
を充填し、母型Ｎｏ．３の溝部に赤色紫外線硬化樹脂を
充填し、母型Ｎｏ．４の溝部にブラックマトリックス用
の黒色紫外線硬化樹脂を充填した。そして、表面研磨し
シランカップリング処理した無アルカリガラス（コーニ
ング７０５９、厚さ１．１ｍｍ）を透明基板とし、母型
Ｎｏ．１上に重ねて青色紫外線硬化樹脂と密着させた状
態で透明基板側から紫外線を照射した。照射量は２００
ｍＪ／ｃｍ２　とした。この紫外線照射により、青色紫
外線硬化樹脂は硬化するとともに透明基板に接着し、そ
の後、母型Ｎｏ．１から透明基板を剥離したところ透明
基板上に青色パターンが形成されていた。

【００３２】次に、透明基板の青色パターンが形成され
ていない領域のうち青色パターンから２０μｍ離れた位
置に緑色紫外線硬化樹脂が密着するように透明基板を母
型Ｎｏ．２上に重ね、透明基板側から紫外線を照射する
ことにより透明基板上に緑色パターンを形成した。さら
に、透明基板の青色パターンおよび緑色パターンの形成
領域の挟まれた位置に赤色紫外線硬化樹脂が密着するよ
うに透明基板を母型Ｎｏ．３上に重ね、透明基板側から
紫外線を照射することにより透明基板上に赤色パターン
を形成した。これにより、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ
）の着色パターンを有する着色層が形成された。

【００３３】次に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各
着色パターンの境界部分（幅２０μｍ）に黒色紫外線硬
化樹脂が密着するように透明基板を母型Ｎｏ．４上に重
ね、透明基板側から紫外線を照射することにより透明基
板上にブラックマトリックスを形成した。次に、このよ
うな着色層を覆うように保護層を形成した。この保護層
は日本合成ゴム社製オプトマーＳＳを用いてスピンコー
ト法により形成され、厚さは約２μｍであった。さらに
、この保護層上にスパッタリング法により厚さ約２２０
Åの透明共通電極（ＩＴＯ膜）を形成してカラーフィル
タを得た。

【００３４】このようなカラーフィルタの寸法精度は±
２μｍであった。 （実験例２）紫外線硬化樹脂の替りに下記の電子線硬化
樹脂を用い、また透明基板として厚さ１００μｍのポリ
エチレンテルフタレート（ＰＥＴ）樹脂を用い、電子線
照射（照射量１０Ｍｒａｄ）により硬化させた他は実験
例１と同様にしてカラーフィルタを得た。

【００３５】このようなカラーフィルタの寸法精度は±
５μｍであり、またＰＥＴ樹脂基板の大きな変形はみら
れなかった。 （電子線硬化樹脂） 　　・ウレタンアクリレート（Ｃ−９５０１　　サート
マー製）　　　　　　…５０重量部　　・ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｍ−東
亜合成製）　　　　　　　　　　…１５重量部　　・テ
トラヒドロフルフリルメタクリレート（粘度２．５ｃｐ
ｓ）…３０重量部

【００３６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば着
色顔料を含有する電離放射線硬化樹脂は、母型に形成さ
れた所定の着色パターン用の溝部に充填され透明基板と
密着された状態で透明基板側および母型側の少なくとも
一方から電離放射線が照射されて硬化されると同時に透
明基板に接着して着色パターンを形成し、これを繰り返
すことにより必要とする複数色の着色パターンからなる
着色層を備えるカラーフィルタが得られ、これにより、
耐熱性、耐光性等を有しパターン寸法精度が良好なカラ
ーフィルタの製造が可能になるとともに、カラーフィル
タの工程の簡略化がなされて製造コストの低減が可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。

【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。

【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。

【図４】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。

【図５】母型の断面形状を示す断面図である。

【図６】母型の構成例を示す概略構成図である。

【図７】ロール形状の母型の構成例を示す断面図である
。

【符号の説明】

４，６０…母型 ６，６４…溝部 １０…カラーフィルタ １２…透明基板 １４…着色層 １４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ…着色パターン１６…ブラック
マトリックス

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　複数色の着色パターンからなる着色層
   を備えるカラーフィルタの製造方法において、所定の着
   色パターン用の溝部が形成された母型の該溝部に着色顔
   料を含有する電離放射線硬化樹脂を充填し、その後、透
   明基板と前記溝部内の電離放射線硬化樹脂とを密着させ
   、前記透明基板側および前記母型側の少なくとも一方か
   ら電離放射線を照射して前記溝部内の電離放射線硬化樹
   脂を硬化させるとともに前記透明基板に接着させて前記
   透明基板上に着色パターンを形成する工程、を必要色数
   分繰り返して前記透明基板上に着色層を形成することを
   特徴とするカラーフィルタの製造方法。
2. 【請求項２】　　前記母型および前記透明基板の少なく
   とも一方は柔軟性を有することを特徴とする請求項１記
   載のカラーフィルタの製造方法。
3. 【請求項３】　　着色層を形成した後、ブラックマトリ
   ックス用の溝部が形成された母型の該溝部に光不透過物
   質を含有する電離放射線硬化樹脂を充填し、その後、前
   記透明基板の着色層形成側と前記溝部内の電離放射線硬
   化樹脂とを密着させ、前記透明基板側および前記母型側
   の少なくとも一方から電離放射線を照射して前記溝部内
   の電離放射線硬化樹脂を硬化させるとともに前記透明基
   板に接着させて前記透明基板上にブラックマトリックス
   を形成することを特徴とする請求項１または２記載のカ
   ラーフィルタの製造方法。
4. 【請求項４】　　ブラックマトリックス用の溝部が形成
   された母型の該溝部に光不透過物質を含有する電離放射
   線硬化樹脂を充填し、その後、透明基板と前記溝部内の
   電離放射線硬化樹脂とを密着させ、前記透明基板側およ
   び前記母型側の少なくとも一方から電離放射線を照射し
   て前記溝部内の電離放射線硬化樹脂を硬化させるととも
   に前記透明基板に接着させてブラックマトリックスを予
   め形成した透明基板を用いることを特徴とする請求項１
   または２記載のカラーフィルタの製造方法。