JPH04315570A - 平面ラッピング装置 - Google Patents
平面ラッピング装置Info
- Publication number
- JPH04315570A JPH04315570A JP3082730A JP8273091A JPH04315570A JP H04315570 A JPH04315570 A JP H04315570A JP 3082730 A JP3082730 A JP 3082730A JP 8273091 A JP8273091 A JP 8273091A JP H04315570 A JPH04315570 A JP H04315570A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lapping
- working
- work piece
- lapping machine
- work
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 230000009471 action Effects 0.000 abstract description 2
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
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- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は平面ラッピング装置でラ
ップ盤を使用した高精度な平面研磨加工に係わり、特に
被加工材の仕上がり厚味精度の向上と加工時間の短縮に
関するものである。
ップ盤を使用した高精度な平面研磨加工に係わり、特に
被加工材の仕上がり厚味精度の向上と加工時間の短縮に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の高速平面ラッピング装置によるラ
ッピング加工法は、図４の断面図に示すように、矢示ａ
の回転する平坦なラップ盤１の上に固定盤８を貼り付け
た被加工材７を矢示ｂのように回転させながら加圧して
接触させることにより高精度な平面研磨加工を行ってい
た。
ッピング加工法は、図４の断面図に示すように、矢示ａ
の回転する平坦なラップ盤１の上に固定盤８を貼り付け
た被加工材７を矢示ｂのように回転させながら加圧して
接触させることにより高精度な平面研磨加工を行ってい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来の方法では、固定盤８の上の被加工材７が図５の断面
図に示すように固定盤８の中心に向かうほど厚味が厚く
仕上がる傾向になってしまった。これは一般に中高（な
かだか）と言われる現象で主として固定盤８の周速の差
及び砥粒の浸透作用の差などに起因しているものである
。この不具合を抑制するためには、長い加工時間をかけ
てゆっくり研磨することで防止していた。そのため極め
て非能率であった。本発明は、これら従来の欠点を解消
し、均一な仕上がり厚味と加工時間の短縮を可能にする
方法を提供することを目的とするものである。
来の方法では、固定盤８の上の被加工材７が図５の断面
図に示すように固定盤８の中心に向かうほど厚味が厚く
仕上がる傾向になってしまった。これは一般に中高（な
かだか）と言われる現象で主として固定盤８の周速の差
及び砥粒の浸透作用の差などに起因しているものである
。この不具合を抑制するためには、長い加工時間をかけ
てゆっくり研磨することで防止していた。そのため極め
て非能率であった。本発明は、これら従来の欠点を解消
し、均一な仕上がり厚味と加工時間の短縮を可能にする
方法を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、平面ラッピング装置のラップ盤のラップ面
の中央から外周に至る作用面を傾斜させたラップ盤を提
供するものである。
するために、平面ラッピング装置のラップ盤のラップ面
の中央から外周に至る作用面を傾斜させたラップ盤を提
供するものである。
【０００５】
【作用】上記した傾斜により、固定盤の内周と外周の周
速差等を補正し、最終的に被加工物の中高（なかだか）
による厚みむらや厚み差をなくすものである。
速差等を補正し、最終的に被加工物の中高（なかだか）
による厚みむらや厚み差をなくすものである。
【０００６】
【実施例】以下、本発明をその実施例を示す装置の図面
に基づき説明する。図１の実施例を断面図で示すと、あ
らかじめ軟質の金属製よりなるラップ盤１の作用面１ａ
の中心部が外周部より高くなっている。すなわち、ラッ
ピングの作用面１ａの中央から外周に至る稜線に傾斜を
もたせてある。
に基づき説明する。図１の実施例を断面図で示すと、あ
らかじめ軟質の金属製よりなるラップ盤１の作用面１ａ
の中心部が外周部より高くなっている。すなわち、ラッ
ピングの作用面１ａの中央から外周に至る稜線に傾斜を
もたせてある。
【０００７】被加工物７の加工は次のように行われる。
ラップ盤１上にラッピング仕上げ用の微細な砥粒を塗布
する。一方、あらかじめ被加工材７を固定盤８にラック
等で貼り付けておく。ラッピング加工は固定盤案内９に
固定盤８をセットし加工面７′をラップ盤１の作用面１
ａに接触させ、固定盤案内９を加圧後、ラップ盤１を矢
示ａのように回転し、固定盤案内９を矢示ｂのように回
転させ研磨剤を供給しながら研磨する。
する。一方、あらかじめ被加工材７を固定盤８にラック
等で貼り付けておく。ラッピング加工は固定盤案内９に
固定盤８をセットし加工面７′をラップ盤１の作用面１
ａに接触させ、固定盤案内９を加圧後、ラップ盤１を矢
示ａのように回転し、固定盤案内９を矢示ｂのように回
転させ研磨剤を供給しながら研磨する。
【０００８】その結果、図２の断面図に示すように、固
定盤８に対し平坦な研磨面７ａが得られる。本発明の特
徴とする作用面の傾斜角は、被加工物や研磨剤及び各回
転数などの諸条件により適宜に設定するものであり、要
点は同時に加工される複数個の完成品の厚みとその平行
度が均一に得られるように中高（なかだか）を補正する
条件を設定すればよい。
定盤８に対し平坦な研磨面７ａが得られる。本発明の特
徴とする作用面の傾斜角は、被加工物や研磨剤及び各回
転数などの諸条件により適宜に設定するものであり、要
点は同時に加工される複数個の完成品の厚みとその平行
度が均一に得られるように中高（なかだか）を補正する
条件を設定すればよい。
【０００９】上記した傾斜面のあるラップ盤１は図３の
断面図に示されたラップ盤フェーシング装置により達成
される。すなわち、この装置はフェーシングバイトを前
後させる移動台５とその移動方向に角度をつけるための
角度調整ネジ２で傾斜をつけ前後送りネジ６を回転させ
ることにより、フェーシングバイトホルダ４に取り付け
たフェーシングバイト３で回転するラップ盤１の中心部
が外周部より高くなるようにフェーシング加工をして、
被加工材のラップ盤上の作用面への接触圧を変化させる
作用を得ている。
断面図に示されたラップ盤フェーシング装置により達成
される。すなわち、この装置はフェーシングバイトを前
後させる移動台５とその移動方向に角度をつけるための
角度調整ネジ２で傾斜をつけ前後送りネジ６を回転させ
ることにより、フェーシングバイトホルダ４に取り付け
たフェーシングバイト３で回転するラップ盤１の中心部
が外周部より高くなるようにフェーシング加工をして、
被加工材のラップ盤上の作用面への接触圧を変化させる
作用を得ている。
【００１０】上記した例は中心部を外周部より高くした
ラップ盤１を使用した加工であるが、被加工物の素材に
よっては、上記とは逆に中凹（なかべこ）と呼ばれる現
象も発生する。それに対しては中心部を外周部より低く
したラップ盤１により同様の補正の効果を得ることがで
きる。
ラップ盤１を使用した加工であるが、被加工物の素材に
よっては、上記とは逆に中凹（なかべこ）と呼ばれる現
象も発生する。それに対しては中心部を外周部より低く
したラップ盤１により同様の補正の効果を得ることがで
きる。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば従
来ラッピング加工で課題となっていた被加工材の不均一
な厚味仕上がりに対してラップ盤に傾斜をつけるだけの
容易な改善で高速度で研磨しても仕上がり精度等の品質
が確保でき、その結果、加工時間の短縮によるコストの
低減などの多くの効果をもたらすものである。
来ラッピング加工で課題となっていた被加工材の不均一
な厚味仕上がりに対してラップ盤に傾斜をつけるだけの
容易な改善で高速度で研磨しても仕上がり精度等の品質
が確保でき、その結果、加工時間の短縮によるコストの
低減などの多くの効果をもたらすものである。
【図１】本発明の装置の基本機構の断面図である。
【図２】本発明の装置で加工された状態の断面図である
。
。
【図３】本発明の要部を作成する機構の断面図である。
【図４】従来の加工装置を示す断面図である。
【図５】従来の加工仕上がりを示した断面図である。
１ ラップ盤
１ａ 作用面
７ 被加工物
７′ 加工面
７ａ 平坦な加工面
７ｂ 中高な加工面
８ 固定盤
９ 固定盤案内
Claims (1)
- 【請求項１】 平面ラッピング装置のラップ盤のラッ
プ面の中央から外周に至る作用面が傾斜していることを
特徴とする平面ラッピング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3082730A JPH04315570A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | 平面ラッピング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3082730A JPH04315570A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | 平面ラッピング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04315570A true JPH04315570A (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=13782543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3082730A Pending JPH04315570A (ja) | 1991-04-15 | 1991-04-15 | 平面ラッピング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04315570A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07237117A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-12 | Toyo Shokuhin Kikai Kk | 傾斜ラッピング加工方法 |
| CN110116340A (zh) * | 2019-06-05 | 2019-08-13 | 湖南大合新材料有限公司 | 一种碲锌镉晶片的抛光工艺 |
-
1991
- 1991-04-15 JP JP3082730A patent/JPH04315570A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07237117A (ja) * | 1994-03-02 | 1995-09-12 | Toyo Shokuhin Kikai Kk | 傾斜ラッピング加工方法 |
| CN110116340A (zh) * | 2019-06-05 | 2019-08-13 | 湖南大合新材料有限公司 | 一种碲锌镉晶片的抛光工艺 |
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