JPH04313285A - 磁束トランス - Google Patents
磁束トランスInfo
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- JPH04313285A JPH04313285A JP3104653A JP10465391A JPH04313285A JP H04313285 A JPH04313285 A JP H04313285A JP 3104653 A JP3104653 A JP 3104653A JP 10465391 A JP10465391 A JP 10465391A JP H04313285 A JPH04313285 A JP H04313285A
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Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁束トランス素子に関す
る。より詳細には、本発明は酸化物超電導薄膜により形
成された超電導電流路を含む磁束トランスの新規な構成
に関する。
る。より詳細には、本発明は酸化物超電導薄膜により形
成された超電導電流路を含む磁束トランスの新規な構成
に関する。
【0002】
【従来の技術】超電導現象を利用した電子デバイスのう
ちで最も実用化が進んでいるもののひとつにSQUID
がある。SQUIDは、実際には非常に感度の高い磁界
センサとして利用されており、磁化測定、NMR、磁気
温度計等の基礎計測分野の他、心磁計、脳波計、磁気ト
レーサ等として医療分野で、また、地磁気観測、地震予
知、資源探査等の地球科学の分野でも既に実用的に使用
されている。
ちで最も実用化が進んでいるもののひとつにSQUID
がある。SQUIDは、実際には非常に感度の高い磁界
センサとして利用されており、磁化測定、NMR、磁気
温度計等の基礎計測分野の他、心磁計、脳波計、磁気ト
レーサ等として医療分野で、また、地磁気観測、地震予
知、資源探査等の地球科学の分野でも既に実用的に使用
されている。
【0003】SQUIDをセンサとして使用して各種の
測定を行う場合、SQUIDで信号を直接検知すること
もできるが、実際には、適切な入力回路を介して磁気的
変化を検出する方式が一般的である。このような構成と
することにより、ピックアップと測定との機能を分離し
、SQUIDを充分に外界から遮蔽したり感度の調整を
したりすることが容易になる。
測定を行う場合、SQUIDで信号を直接検知すること
もできるが、実際には、適切な入力回路を介して磁気的
変化を検出する方式が一般的である。このような構成と
することにより、ピックアップと測定との機能を分離し
、SQUIDを充分に外界から遮蔽したり感度の調整を
したりすることが容易になる。
【0004】このような用途で使用される入力回路とし
て最も代表的なものに磁束トランスがある。
て最も代表的なものに磁束トランスがある。
【0005】磁束トランスは、入力側のピックアップコ
イルおよび出力側のインプットコイルとこれらを接続す
る手段とから構成されており、実際にはひと続きの超電
導電流路を適切にパターニングすることにより構成され
ている。
イルおよび出力側のインプットコイルとこれらを接続す
る手段とから構成されており、実際にはひと続きの超電
導電流路を適切にパターニングすることにより構成され
ている。
【0006】ところで、従来知られていた超電導材料は
、一般に液体ヘリウム温度以下の極低温でしか超電導体
にならなかったので、これを実用的に利用することはあ
まり考えられていなかった。しかしながら、[La,B
a]2CuO4 あるいは[La,Sr]2CuO4
等の複合酸化物焼結体が高い臨界温度を有する超電導材
料であることが1986年に見出されて以来、Y−Ba
−Cu系あるいはBi−Ca−Sr−Cu系等の複合酸
化物が極めて高い温度範囲で超電導特性を示すことが次
々に確認された。このような高い温度で超電導特性を示
す材料は廉価な液体窒素を冷却媒体として使用すること
ができるので、各種の超電導デバイスへの適用が期待さ
れている。
、一般に液体ヘリウム温度以下の極低温でしか超電導体
にならなかったので、これを実用的に利用することはあ
まり考えられていなかった。しかしながら、[La,B
a]2CuO4 あるいは[La,Sr]2CuO4
等の複合酸化物焼結体が高い臨界温度を有する超電導材
料であることが1986年に見出されて以来、Y−Ba
−Cu系あるいはBi−Ca−Sr−Cu系等の複合酸
化物が極めて高い温度範囲で超電導特性を示すことが次
々に確認された。このような高い温度で超電導特性を示
す材料は廉価な液体窒素を冷却媒体として使用すること
ができるので、各種の超電導デバイスへの適用が期待さ
れている。
【0007】図1は、酸化物超電導薄膜により構成され
た磁束トランスの典型的な構成を示す図である。
た磁束トランスの典型的な構成を示す図である。
【0008】同図に示すように、磁束トランスは、基板
1上に形成された酸化物超電導薄膜をパターニングして
形成された超電導電流路2により形成されている。超電
導電流路2は、ピックアップコイル21と、インプット
コイル22と、両者を接続する1対の電流路23とから
構成されている。また、巻数の多いインプットコイル2
2側には、電流路23とインプットコイル22を構成す
る超電導電流路との間の短絡を防止するために、両者の
間に絶縁層24が形成されている。
1上に形成された酸化物超電導薄膜をパターニングして
形成された超電導電流路2により形成されている。超電
導電流路2は、ピックアップコイル21と、インプット
コイル22と、両者を接続する1対の電流路23とから
構成されている。また、巻数の多いインプットコイル2
2側には、電流路23とインプットコイル22を構成す
る超電導電流路との間の短絡を防止するために、両者の
間に絶縁層24が形成されている。
【0009】ここで、基板1は、例えばSrTiO3
単結晶基板を使用することができ、その成膜面は(11
0)面となっている。また、超電導電流路2を構成する
酸化物超電導薄膜は、Y−Ba−Cu酸化物により形成
されており(110)配向している。
単結晶基板を使用することができ、その成膜面は(11
0)面となっている。また、超電導電流路2を構成する
酸化物超電導薄膜は、Y−Ba−Cu酸化物により形成
されており(110)配向している。
【0010】図2は、図1に示したような磁束トランス
の作製過程を示す図である。
の作製過程を示す図である。
【0011】まず、図2(a) に示すように、基板1
上に堆積した酸化物超電導薄膜により、所定の寸法のク
ロスアンダ25を形成する。このクロスアンダ25は、
最終的には、図1に示した磁束トランスにおける絶縁膜
24の下を通る超電導電流路23となるべきものである
。
上に堆積した酸化物超電導薄膜により、所定の寸法のク
ロスアンダ25を形成する。このクロスアンダ25は、
最終的には、図1に示した磁束トランスにおける絶縁膜
24の下を通る超電導電流路23となるべきものである
。
【0012】次に、図2(b) に示すように、Siマ
スク等を利用して絶縁膜24を成膜する。絶縁膜24は
、1μm程度に堆積させた基板材料と同じ材料の薄膜に
より形成することができる。
スク等を利用して絶縁膜24を成膜する。絶縁膜24は
、1μm程度に堆積させた基板材料と同じ材料の薄膜に
より形成することができる。
【0013】続いて、クロスアンダ25および絶縁膜2
4を装荷された基板1上全体に、酸化物超電導薄膜2を
堆積させる。
4を装荷された基板1上全体に、酸化物超電導薄膜2を
堆積させる。
【0014】最後に、図2(d) に示すように、最上
層の酸化物超電導薄膜2を適切にパターニングすること
により、図1に示したような構造の磁束トランスが完成
する。
層の酸化物超電導薄膜2を適切にパターニングすること
により、図1に示したような構造の磁束トランスが完成
する。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】上述のような磁束トラ
ンスの製造工程において、クロスアンダ上を通るインプ
ットコイル22を構成する酸化物超電導薄膜は、絶縁層
24を下地として成膜されることになる。
ンスの製造工程において、クロスアンダ上を通るインプ
ットコイル22を構成する酸化物超電導薄膜は、絶縁層
24を下地として成膜されることになる。
【0016】ところが、酸化物超電導体は、一般に複雑
な組成と結晶構造を有しており、特定の材料の特定の結
晶面上に形成された場合にのみ、その高い超電導特性を
発揮することが知られている。
な組成と結晶構造を有しており、特定の材料の特定の結
晶面上に形成された場合にのみ、その高い超電導特性を
発揮することが知られている。
【0017】このため、絶縁層24上に形成された酸化
物超電導薄膜は、他の領域に形成された酸化物超電導薄
膜に対して膜特性が劣化しており、結果的に、磁束トラ
ンス全体の特性が劣化してしまうという問題がある。
物超電導薄膜は、他の領域に形成された酸化物超電導薄
膜に対して膜特性が劣化しており、結果的に、磁束トラ
ンス全体の特性が劣化してしまうという問題がある。
【0018】そこで、本発明は、上記従来技術の問題点
を解決して、より特性の優れた酸化物超電導薄膜により
形成された磁束トランスを提供することをその目的とし
ている。
を解決して、より特性の優れた酸化物超電導薄膜により
形成された磁束トランスを提供することをその目的とし
ている。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明に従うと、基板上
の酸化物超電導薄膜をパターニングして形成されたクロ
スアンダを含む超電導電流路により形成された磁束トラ
ンスにおいて、該クロスアンダ上に形成された超電導電
流路と該クロスアンダとの間の短絡を防止するための絶
縁層が、ペロブスカイト型の結晶構造を有するLa、C
aおよびMnの複合酸化物薄膜により形成されているこ
とを特徴とする磁束トランスが提供される。
の酸化物超電導薄膜をパターニングして形成されたクロ
スアンダを含む超電導電流路により形成された磁束トラ
ンスにおいて、該クロスアンダ上に形成された超電導電
流路と該クロスアンダとの間の短絡を防止するための絶
縁層が、ペロブスカイト型の結晶構造を有するLa、C
aおよびMnの複合酸化物薄膜により形成されているこ
とを特徴とする磁束トランスが提供される。
【0020】
【作用】本発明に係る磁束トランスは、その絶縁層とし
て、ペロブスカイト型の結晶構造を有するLa、Caお
よびMnの複合酸化物薄膜を使用していることをその主
要な特徴としている。
て、ペロブスカイト型の結晶構造を有するLa、Caお
よびMnの複合酸化物薄膜を使用していることをその主
要な特徴としている。
【0021】即ち、La、CaおよびMnの複合酸化物
は、La0.7 Ca0.3 Mn1.0 O3−x
なる組成比でペロブスカイト型の結晶構造を形成するこ
とが知られており、このときの格子定数は、Y−Ba−
Cu酸化物超電導体の格子定数3.82/3.89に対
して3.87と極めて近い。また、この複合酸化物は、
適切な成膜条件を選択することにより、膜表面の平滑性
が良好な薄膜とすることができる。
は、La0.7 Ca0.3 Mn1.0 O3−x
なる組成比でペロブスカイト型の結晶構造を形成するこ
とが知られており、このときの格子定数は、Y−Ba−
Cu酸化物超電導体の格子定数3.82/3.89に対
して3.87と極めて近い。また、この複合酸化物は、
適切な成膜条件を選択することにより、膜表面の平滑性
が良好な薄膜とすることができる。
【0022】このため、La0.7 Ca0.3 Mn
1.0 O3−x 薄膜上では、Y−Ba−Cu酸化物
等の酸化物超電導薄膜が良好に結晶成長し、単結晶基板
上に直接形成された酸化物超電導薄膜に遜色のない膜特
性が得られる。従って、インプットコイルとクロスアン
ダとの間の絶縁層にLa、CaおよびMnの複合酸化物
を使用することにより、クロスアンダ上の超電導電流路
も含めて、全ての超電導電流路が良質な酸化物超電導薄
膜により形成された磁束トランスを構成することができ
る。
1.0 O3−x 薄膜上では、Y−Ba−Cu酸化物
等の酸化物超電導薄膜が良好に結晶成長し、単結晶基板
上に直接形成された酸化物超電導薄膜に遜色のない膜特
性が得られる。従って、インプットコイルとクロスアン
ダとの間の絶縁層にLa、CaおよびMnの複合酸化物
を使用することにより、クロスアンダ上の超電導電流路
も含めて、全ての超電導電流路が良質な酸化物超電導薄
膜により形成された磁束トランスを構成することができ
る。
【0023】尚、本発明に係る磁束トランスにおいて絶
縁層として使用されるLa、CaおよびMnの複合酸化
物薄膜は、スパッタリング法、レーザ蒸着法、CVD法
等の方法で成膜することができる。
縁層として使用されるLa、CaおよびMnの複合酸化
物薄膜は、スパッタリング法、レーザ蒸着法、CVD法
等の方法で成膜することができる。
【0024】また、例えばスパッタリング法により成膜
する場合では、成膜時の基板温度を550〜650 ℃
の範囲とすることにより、有利な結晶構造と膜質とを得
ることができる。
する場合では、成膜時の基板温度を550〜650 ℃
の範囲とすることにより、有利な結晶構造と膜質とを得
ることができる。
【0025】以上のような本発明に係る磁束トランスに
おいて、基板材料としては、MgO単結晶、SrTiO
3 単結晶等の公知の単結晶基板を何れも使用すること
ができる。また、超電導電流路も、Y系酸化物の他、B
i系やTl系等の複合酸化物薄膜を使用することができ
る。
おいて、基板材料としては、MgO単結晶、SrTiO
3 単結晶等の公知の単結晶基板を何れも使用すること
ができる。また、超電導電流路も、Y系酸化物の他、B
i系やTl系等の複合酸化物薄膜を使用することができ
る。
【0026】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的
に説明するが、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎず
、本発明の技術的範囲を何ら限定するものではない。
に説明するが、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎず
、本発明の技術的範囲を何ら限定するものではない。
【0027】
【実施例】図2に示した工程に従って、本発明に係る磁
束トランスを作製した。
束トランスを作製した。
【0028】基板としてSrTiO3 単結晶(110
)基板を使用し、まず、Siマスクを用いたスパッタリ
ング法により酸化物超電導薄膜のクロスアンダ25を成
膜した。成膜条件は下記の表1に示す通りであり、形成
されたクロスアンダは、長さ10mm、幅10μmであ
った。
)基板を使用し、まず、Siマスクを用いたスパッタリ
ング法により酸化物超電導薄膜のクロスアンダ25を成
膜した。成膜条件は下記の表1に示す通りであり、形成
されたクロスアンダは、長さ10mm、幅10μmであ
った。
【0029】
【表1】
【0030】次に、絶縁層24として、 La0.7C
a0.3Mn1.0O3−x 薄膜を堆積させた。尚、
Siマスクを利用することにより、絶縁層24の堆積は
、図示した特定の領域にのみ形成した。絶縁層24の成
膜条件は下記の表2に示す通りである。
a0.3Mn1.0O3−x 薄膜を堆積させた。尚、
Siマスクを利用することにより、絶縁層24の堆積は
、図示した特定の領域にのみ形成した。絶縁層24の成
膜条件は下記の表2に示す通りである。
【0031】
【表2】
【0032】続いて、表1に示した条件と同じ成膜条件
で、上部YBCO層を成膜した後、硝酸をエッチ剤とし
てこれをパターニングし、図1に示したようなコイルパ
ターンを形成した。
で、上部YBCO層を成膜した後、硝酸をエッチ剤とし
てこれをパターニングし、図1に示したようなコイルパ
ターンを形成した。
【0033】尚、超電導電流路2の線路幅は20μmと
した。また、ピックアップコイル21は1辺が10mm
の正方形とした。インプットコイル22は、内径 10
0μmでターン数を10とした。
した。また、ピックアップコイル21は1辺が10mm
の正方形とした。インプットコイル22は、内径 10
0μmでターン数を10とした。
【0034】以上のようにして作製した磁束トランスに
おいて、クロスアンダ上のY−Ba−Cu複合酸化物薄
膜の超電導特性を測定した。また、比較のために、La
−Ca−Mn複合酸化物薄膜の代わりにMgO薄膜を使
用して作製した磁束トランスについても同様な測定を行
った。測定結果は、下記の表3に併せて示す。尚、臨界
電流密度は77Kで測定した。
おいて、クロスアンダ上のY−Ba−Cu複合酸化物薄
膜の超電導特性を測定した。また、比較のために、La
−Ca−Mn複合酸化物薄膜の代わりにMgO薄膜を使
用して作製した磁束トランスについても同様な測定を行
った。測定結果は、下記の表3に併せて示す。尚、臨界
電流密度は77Kで測定した。
【0035】
【表3】
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁束
トランスは、その絶縁層としてLa−Ca−Mnの複合
酸化物を使用することにより、酸化物超電導体の優れた
超電導特性を効果的に発揮して、優れた特性を実現して
いる。 この磁束トランスは、液体窒素による冷却で使用するこ
とができるので、広範な利用が期待できる。
トランスは、その絶縁層としてLa−Ca−Mnの複合
酸化物を使用することにより、酸化物超電導体の優れた
超電導特性を効果的に発揮して、優れた特性を実現して
いる。 この磁束トランスは、液体窒素による冷却で使用するこ
とができるので、広範な利用が期待できる。
【図1】酸化物超電導薄膜を使用した磁束トランスの典
型的な構成を示す図である。
型的な構成を示す図である。
【図2】図1に示した磁束トランスの作製工程を示す図
である。
である。
【符号の説明】
1 基板、
2 超電導電流路、
21 ピックアップコイル、
22 インプットコイル、
24 絶縁層、
25 クロスアンダ
Claims (1)
- 【請求項1】基板上の酸化物超電導薄膜をパターニング
して形成されたクロスアンダを含む超電導電流路により
形成された磁束トランスにおいて、該クロスアンダ上に
形成された超電導電流路と該クロスアンダとの間の短絡
を防止するための絶縁層が、ペロブスカイト型の結晶構
造を有するLa、CaおよびMnの複合酸化物薄膜によ
り形成されていることを特徴とする磁束トランス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3104653A JPH04313285A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 磁束トランス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3104653A JPH04313285A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 磁束トランス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04313285A true JPH04313285A (ja) | 1992-11-05 |
Family
ID=14386423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3104653A Withdrawn JPH04313285A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 磁束トランス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04313285A (ja) |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP3104653A patent/JPH04313285A/ja not_active Withdrawn
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