JPH04306601A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH04306601A JPH04306601A JP3071394A JP7139491A JPH04306601A JP H04306601 A JPH04306601 A JP H04306601A JP 3071394 A JP3071394 A JP 3071394A JP 7139491 A JP7139491 A JP 7139491A JP H04306601 A JPH04306601 A JP H04306601A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 39
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 28
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 abstract description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 abstract 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 21
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 20
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 4
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000007447 staining method Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】［発明の目的］
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示装置な
どの表示パネルに使用されるカラーフィルタに関する。
どの表示パネルに使用されるカラーフィルタに関する。
【０００３】
【従来の技術】液晶による表示装置は、軽量、薄形化が
可能で、しかも、低電圧駆動、低消費電力という、発光
型ディスプレイには見られない特長を有することから、
ラップトップタイプやブックタイプのパソコンやワ−プ
ロのディスプレイを始め各種ＯＡ機器のディスプレイと
して広く用いられている。特に近年は、カラ−ブラウン
管以外では唯一フルカラー表示が可能なディスプレイと
して注目されている。図４に、このカラー液晶表示装置
の一型として知られる、三端子型ＴＦＴアクティブマト
リックス方式のカラ−液晶表示装置の一例を模式的な分
解斜視図により示す。
可能で、しかも、低電圧駆動、低消費電力という、発光
型ディスプレイには見られない特長を有することから、
ラップトップタイプやブックタイプのパソコンやワ−プ
ロのディスプレイを始め各種ＯＡ機器のディスプレイと
して広く用いられている。特に近年は、カラ−ブラウン
管以外では唯一フルカラー表示が可能なディスプレイと
して注目されている。図４に、このカラー液晶表示装置
の一型として知られる、三端子型ＴＦＴアクティブマト
リックス方式のカラ−液晶表示装置の一例を模式的な分
解斜視図により示す。
【０００４】同図において、４１は液晶セルを示し、こ
の液晶セル４１は、第１のガラス基板４２ａの一主面上
に形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の着色層４
２ｂと液晶セル４１の一方の電極となる透明電極４２ｃ
を少なくとも具備するカラーフィルタ４２と、その一主
面上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなる画素電極４
３ｂが形成された第２のガラス基板４３ａとの間に液晶
層（図示せず）を挟持した構造を有する。そしてこの液
晶セル４１の両面に偏向板４４を配置し、さらにその背
面側、すなわち第２のガラス基板４３ａ側の偏向板４４
の外側に、３波長タイプのバックライト光源４５を配置
してカラ−液晶表示装置が構成される。このカラ−液晶
表示装置では、個々で赤色部の液晶画素が透過状態（薄
膜トランジスタがＯＦＦ状態）にあるとき、赤色光のみ
透過し、同様に画素の選択により、緑色光、青色光のみ
を透過させることができ、加色混色法による３原色光を
得ることができる。また、スイッチングのタイミング調
整により階調性を付加することができ、フルカラ−表示
が可能となる。
の液晶セル４１は、第１のガラス基板４２ａの一主面上
に形成されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の着色層４
２ｂと液晶セル４１の一方の電極となる透明電極４２ｃ
を少なくとも具備するカラーフィルタ４２と、その一主
面上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなる画素電極４
３ｂが形成された第２のガラス基板４３ａとの間に液晶
層（図示せず）を挟持した構造を有する。そしてこの液
晶セル４１の両面に偏向板４４を配置し、さらにその背
面側、すなわち第２のガラス基板４３ａ側の偏向板４４
の外側に、３波長タイプのバックライト光源４５を配置
してカラ−液晶表示装置が構成される。このカラ−液晶
表示装置では、個々で赤色部の液晶画素が透過状態（薄
膜トランジスタがＯＦＦ状態）にあるとき、赤色光のみ
透過し、同様に画素の選択により、緑色光、青色光のみ
を透過させることができ、加色混色法による３原色光を
得ることができる。また、スイッチングのタイミング調
整により階調性を付加することができ、フルカラ−表示
が可能となる。
【０００５】ところで、このようなカラ−液晶表示装置
に用いられるカラーフィルタにおいては、（ｉ） ＣＩ
Ｅ色度図のＮＴＣＳ３原色にできるだけ近いこと、（ｉ
ｉ） 光量損失が少ないこと（透過率が高いこと）、
（ｉｉｉ） 画素パタ−ンおよび分光特性が全面にわた
って均一なこと、（ｉｖ）液晶表示装置の駆動に影響を
及ぼさないこと、（ｖ） 使用中の経時変化が少ないこ
と、（ｖｉ）液晶表示装置の製造工程に耐えること、（
ｖｉｉ） 製造が容易で製造コストが安いことなどの特
性が要求される。
に用いられるカラーフィルタにおいては、（ｉ） ＣＩ
Ｅ色度図のＮＴＣＳ３原色にできるだけ近いこと、（ｉ
ｉ） 光量損失が少ないこと（透過率が高いこと）、
（ｉｉｉ） 画素パタ−ンおよび分光特性が全面にわた
って均一なこと、（ｉｖ）液晶表示装置の駆動に影響を
及ぼさないこと、（ｖ） 使用中の経時変化が少ないこ
と、（ｖｉ）液晶表示装置の製造工程に耐えること、（
ｖｉｉ） 製造が容易で製造コストが安いことなどの特
性が要求される。
【０００６】しかして、従来より知られるカラーフィル
タは、その製造方法により構造も、また得られる特性も
異なっているが、代表的なものとして次のようなものが
知られている。
タは、その製造方法により構造も、また得られる特性も
異なっているが、代表的なものとして次のようなものが
知られている。
【０００７】すなわち、（ａ） ゼラチン膜をフォトリ
ソグラフィ法でパタ−ニングし、得られたレリ−フを染
色する方法（染色法）、（ｂ） 染料や顔料で着色した
ポリマ−をフォトリソグラフィ法でパタ−ニングする方
法（分散法）、（ｃ） 顔料で着色したポリマ−を用い
印刷により直接パタ−ンを形成する方法（印刷法）、（
ｄ） 透明導電膜をパタ−ニングし、この上に電気泳動
法や電解重合法で着色層を設ける方法（電着法）、（ｅ
） 染料または顔料を真空蒸着により薄膜化する方法（
色素蒸着法）などが知られている。
ソグラフィ法でパタ−ニングし、得られたレリ−フを染
色する方法（染色法）、（ｂ） 染料や顔料で着色した
ポリマ−をフォトリソグラフィ法でパタ−ニングする方
法（分散法）、（ｃ） 顔料で着色したポリマ−を用い
印刷により直接パタ−ンを形成する方法（印刷法）、（
ｄ） 透明導電膜をパタ−ニングし、この上に電気泳動
法や電解重合法で着色層を設ける方法（電着法）、（ｅ
） 染料または顔料を真空蒸着により薄膜化する方法（
色素蒸着法）などが知られている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、顔料
を色材に用いたタイプのカラ−フィルタはコントラスト
が悪いという指摘がしばしばされてきている。表１に、
２枚の偏向板をクロスニコルの状態にし、その間にカ
ラ−フィルタを挟み、背後より３波長のバックライトで
照らして測定した各種のカラ−フィルタのコントラスト
を示す。この表からも分かるように、顔料を色材に用い
たタイプのカラ−フィルタは明らかにコントラストが不
良となっている。
を色材に用いたタイプのカラ−フィルタはコントラスト
が悪いという指摘がしばしばされてきている。表１に、
２枚の偏向板をクロスニコルの状態にし、その間にカ
ラ−フィルタを挟み、背後より３波長のバックライトで
照らして測定した各種のカラ−フィルタのコントラスト
を示す。この表からも分かるように、顔料を色材に用い
たタイプのカラ−フィルタは明らかにコントラストが不
良となっている。
【０００９】
このため、染料を用いるタイプの製造方法、なかで
も、染料分散法が、染色法に比べ耐水性、耐薬品性に優
れ、耐熱性も比較的良いことから注目されている。しか
しながら、染料分散法は、顔料分散法の場合のように、
感光性樹脂の中に染料を分散させると感光性が失われて
しまうため、ポリイミドのような非感光性樹脂の中に染
料を分散させ、これを塗布し、その後ポジ型のレジスト
を塗布し、所定のパターンを露光・現像し、染料を分散
させた樹脂層をエッチングするという工程を繰り返さな
ければならず、染色法より工程が煩雑でコスト高となる
難点があった。
も、染料分散法が、染色法に比べ耐水性、耐薬品性に優
れ、耐熱性も比較的良いことから注目されている。しか
しながら、染料分散法は、顔料分散法の場合のように、
感光性樹脂の中に染料を分散させると感光性が失われて
しまうため、ポリイミドのような非感光性樹脂の中に染
料を分散させ、これを塗布し、その後ポジ型のレジスト
を塗布し、所定のパターンを露光・現像し、染料を分散
させた樹脂層をエッチングするという工程を繰り返さな
ければならず、染色法より工程が煩雑でコスト高となる
難点があった。
【００１０】本発明はこのような従来の事情に対処して
なされたもので、分散法の長所を備え、かつ染料を用い
た場合にも工程が煩雑となることのないカラ−フィルタ
の製造方法を提供することを目的とする。
なされたもので、分散法の長所を備え、かつ染料を用い
た場合にも工程が煩雑となることのないカラ−フィルタ
の製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】［発明の構成］
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明のカラ−フィルタ
の製造方法は、透明基板の一主面上に、染料および顔料
の少なくとも一方を分散含有せしめた非感光性樹脂から
なる着色層を所定のパターンで形成するにあたり、前記
透明基板の一主面上に、前記染料または顔料を分散含有
せしめた非感光性樹脂を被覆する工程と、この非感光性
樹脂被覆の形成すべきパターン部分を除く部分に １５
０〜４００ｎｍ の波長を有するエキシマレーザ光を選
択的に照射し、その光化学反応により該部の非感光性樹
脂被覆を除去する工程とを含むことを特徴とするもので
ある。
の製造方法は、透明基板の一主面上に、染料および顔料
の少なくとも一方を分散含有せしめた非感光性樹脂から
なる着色層を所定のパターンで形成するにあたり、前記
透明基板の一主面上に、前記染料または顔料を分散含有
せしめた非感光性樹脂を被覆する工程と、この非感光性
樹脂被覆の形成すべきパターン部分を除く部分に １５
０〜４００ｎｍ の波長を有するエキシマレーザ光を選
択的に照射し、その光化学反応により該部の非感光性樹
脂被覆を除去する工程とを含むことを特徴とするもので
ある。
【００１３】ここで、 １５０〜４００ｎｍ の波長を
有するエキシマレーザ光を例示すると、たとえば、波長
１９３ｎｍの ＡｒＦエキシマレーザ光、波長 ２４
８ｎｍの ＫｒＦエキシマレーザ光、波長 ３０８ｎｍ
のＸｅＣｌエキシマレーザ光、波長 ３５３ｎｍの Ｘ
ｅＦエキシマレーザ光などがあげられる。なお、本発明
において、上記非感光性樹脂被覆に照射するエキシマレ
ーザ光として １５０〜４００ｎｍ の波長を有するも
のに限定した理由は、１５０ｎｍ より短波長のもので
は、非感光性樹脂被覆に対する浸透の深さが極端に浅く
なって加工に時間を要するようになり、逆に４００ｎｍ
より長波長のものでは、加工部の非感光性樹脂被覆の
表面が荒れてくるようになるからである。
有するエキシマレーザ光を例示すると、たとえば、波長
１９３ｎｍの ＡｒＦエキシマレーザ光、波長 ２４
８ｎｍの ＫｒＦエキシマレーザ光、波長 ３０８ｎｍ
のＸｅＣｌエキシマレーザ光、波長 ３５３ｎｍの Ｘ
ｅＦエキシマレーザ光などがあげられる。なお、本発明
において、上記非感光性樹脂被覆に照射するエキシマレ
ーザ光として １５０〜４００ｎｍ の波長を有するも
のに限定した理由は、１５０ｎｍ より短波長のもので
は、非感光性樹脂被覆に対する浸透の深さが極端に浅く
なって加工に時間を要するようになり、逆に４００ｎｍ
より長波長のものでは、加工部の非感光性樹脂被覆の
表面が荒れてくるようになるからである。
【００１４】
【作用】本発明の方法においては、 １５０〜４００ｎ
ｍ の波長を有するエキシマレーザ光を、透明基板の一
主面上に設けた染料および顔料の少なくとも一方を分散
含有せしめた非感光性樹脂被覆のパターン非形成部を直
接光化学反応により除去するので、レジストの塗布、露
光・現像、エッチング、レジストの除去という煩雑な工
程を採る従来の染料分散法に比べ、工程数が大幅に低減
される。しかも、基本的には従来の分散法に分類される
ものであり、染色法に比べ、耐水性、耐薬品性に優れ、
耐熱性も良好で、信頼性の高いカラ−フィルタを得るこ
とができる。
ｍ の波長を有するエキシマレーザ光を、透明基板の一
主面上に設けた染料および顔料の少なくとも一方を分散
含有せしめた非感光性樹脂被覆のパターン非形成部を直
接光化学反応により除去するので、レジストの塗布、露
光・現像、エッチング、レジストの除去という煩雑な工
程を採る従来の染料分散法に比べ、工程数が大幅に低減
される。しかも、基本的には従来の分散法に分類される
ものであり、染色法に比べ、耐水性、耐薬品性に優れ、
耐熱性も良好で、信頼性の高いカラ−フィルタを得るこ
とができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
る。
【００１６】図１は、本発明の一実施例のカラ−フィル
タの製造方法を工程順に示した図、図２は、その方法に
よって最終的に得られたカラ−フィルタの構成を示す断
面図である。
タの製造方法を工程順に示した図、図２は、その方法に
よって最終的に得られたカラ−フィルタの構成を示す断
面図である。
【００１７】この実施例においては、図１に示すように
、まず、透明基板１、たとえばガラス基板（コーニング
社製７０５９）の表面を研磨して微細な凹凸をなくし、
通常の表面洗浄処理、ＵＶ／Ｏ３ による光洗浄処理を
順に行った後、その一主面上に、Ｃｒなどをスパッタリ
ング法、電子ビ−ム蒸着法、イオンプレ−ティング法な
どの公知の薄膜形成技術により成膜し、この上にフォト
レジストをロ−ルコ−タ−やスピンオンコータなどを用
いて塗布し、乾燥後、所定のマスクを用い、露光、現像
し、続いてエッチング、フォトレジスト除去の各処理を
行って光遮蔽層２を形成する（工程１）。
、まず、透明基板１、たとえばガラス基板（コーニング
社製７０５９）の表面を研磨して微細な凹凸をなくし、
通常の表面洗浄処理、ＵＶ／Ｏ３ による光洗浄処理を
順に行った後、その一主面上に、Ｃｒなどをスパッタリ
ング法、電子ビ−ム蒸着法、イオンプレ−ティング法な
どの公知の薄膜形成技術により成膜し、この上にフォト
レジストをロ−ルコ−タ−やスピンオンコータなどを用
いて塗布し、乾燥後、所定のマスクを用い、露光、現像
し、続いてエッチング、フォトレジスト除去の各処理を
行って光遮蔽層２を形成する（工程１）。
【００１８】次いで、これらの上に、第１色目の染料、
たとえばＲの染料を分散含有させた非感光性樹脂ワニス
、たとえば環化ポリイミド系ワニスをロ−ルコ−タ−や
スピンオンコータなどを用いて塗布し、乾燥させて、Ｒ
に着色したポリイミド層３ａを全面に形成する（工程２
）。
たとえばＲの染料を分散含有させた非感光性樹脂ワニス
、たとえば環化ポリイミド系ワニスをロ−ルコ−タ−や
スピンオンコータなどを用いて塗布し、乾燥させて、Ｒ
に着色したポリイミド層３ａを全面に形成する（工程２
）。
【００１９】次に、所定の金属マスク４ａを、Ｒに着色
したポリイミド層３ａ上に密着させ、この上から １５
０〜４００ｎｍ の波長を有するエキシマレーザ光を、
金属マスク４ａの開口部を通してＲに着色したポリイミ
ド層３ａに照射し、その光化学反応により照射部のＲに
着色したポリイミド層３ａを除去して所定のＲ着色層５
ａを形成する（工程３）。
したポリイミド層３ａ上に密着させ、この上から １５
０〜４００ｎｍ の波長を有するエキシマレーザ光を、
金属マスク４ａの開口部を通してＲに着色したポリイミ
ド層３ａに照射し、その光化学反応により照射部のＲに
着色したポリイミド層３ａを除去して所定のＲ着色層５
ａを形成する（工程３）。
【００２０】次いで、第２色目の染料、たとえばＧの染
料を分散含有させた非感光性樹脂ワニス、たとえば環化
ポリイミド系ワニスを、工程３を経た基板上にロ−ルコ
−タ−やスピンオンコータなどを用いて塗布し、乾燥さ
せて、Ｇに着色したポリイミド層３ｂを全面に形成した
後、所定の金属マスク４ｂを、Ｇに着色したポリイミド
層３ｂ上に密着させ、この上から １５０〜４００ｎｍ
の波長のエキシマレーザ光を、金属マスク４ｂの開口
部を通してＧに着色したポリイミド層３ｂに照射し、そ
の光化学反応により照射部のＧに着色したポリイミド層
３ｂをＲ着色層５ａの高さまで除去する（工程４）。さ
らに、この上に、Ｇに着色したポリイミド層３ｂの不要
部のみを開口させた金属マスク４ｃを密着させ、その上
から １５０〜４００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光
を照射し、その光化学反応により照射部の不要なＧに着
色したポリイミド層３ｂを除去して、所定のＧ着色層５
ｂを形成する（工程５）。
料を分散含有させた非感光性樹脂ワニス、たとえば環化
ポリイミド系ワニスを、工程３を経た基板上にロ−ルコ
−タ−やスピンオンコータなどを用いて塗布し、乾燥さ
せて、Ｇに着色したポリイミド層３ｂを全面に形成した
後、所定の金属マスク４ｂを、Ｇに着色したポリイミド
層３ｂ上に密着させ、この上から １５０〜４００ｎｍ
の波長のエキシマレーザ光を、金属マスク４ｂの開口
部を通してＧに着色したポリイミド層３ｂに照射し、そ
の光化学反応により照射部のＧに着色したポリイミド層
３ｂをＲ着色層５ａの高さまで除去する（工程４）。さ
らに、この上に、Ｇに着色したポリイミド層３ｂの不要
部のみを開口させた金属マスク４ｃを密着させ、その上
から １５０〜４００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光
を照射し、その光化学反応により照射部の不要なＧに着
色したポリイミド層３ｂを除去して、所定のＧ着色層５
ｂを形成する（工程５）。
【００２１】次いで、第３色目の染料、たとえばＢの染
料を分散含有させた非感光性樹脂ワニス、たとえば環化
ポリイミド系ワニスを、工程５を経た基板上にロ−ルコ
−タ−やスピンオンコータなどを用いて塗布し、乾燥さ
せて、Ｂに着色したポリイミド層３ｃを全面に形成する
（工程６）。続いて、Ｂに着色したポリイミド層３ｃの
所要部のみをマスキングする金属マスク４ｄを、Ｂに着
色したポリイミド層３ｃ上に密着させ、この上から １
５０〜４００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を、金属
マスク４ｄの開口部を通してＢに着色したポリイミド層
３ｃに照射し、その光化学反応により照射部のＢに着色
したポリイミド層３ｃをＲ着色層５ａやＧ着色層５ｂと
同じ高さにまで除去する（工程７）。さらに、この上に
、Ｂに着色したポリイミド層３ｃの不要部のみを開口さ
せた金属マスク４ｅを密着させ、その上から１５０〜４
００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を照射し、その光
化学反応により照射部の不要なＢに着色したポリイミド
層３ｃを除去して、所定のＢ着色層５ｃを形成する（工
程８）。
料を分散含有させた非感光性樹脂ワニス、たとえば環化
ポリイミド系ワニスを、工程５を経た基板上にロ−ルコ
−タ−やスピンオンコータなどを用いて塗布し、乾燥さ
せて、Ｂに着色したポリイミド層３ｃを全面に形成する
（工程６）。続いて、Ｂに着色したポリイミド層３ｃの
所要部のみをマスキングする金属マスク４ｄを、Ｂに着
色したポリイミド層３ｃ上に密着させ、この上から １
５０〜４００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を、金属
マスク４ｄの開口部を通してＢに着色したポリイミド層
３ｃに照射し、その光化学反応により照射部のＢに着色
したポリイミド層３ｃをＲ着色層５ａやＧ着色層５ｂと
同じ高さにまで除去する（工程７）。さらに、この上に
、Ｂに着色したポリイミド層３ｃの不要部のみを開口さ
せた金属マスク４ｅを密着させ、その上から１５０〜４
００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を照射し、その光
化学反応により照射部の不要なＢに着色したポリイミド
層３ｃを除去して、所定のＢ着色層５ｃを形成する（工
程８）。
【００２２】このようにして所望のＲ、Ｇ、Ｂの各着色
層５ａ、５ｂ、５ｃを形成した後、この上に、アクリル
系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂などからな
る透明保護膜６を、たとえば前記樹脂を有機溶剤に溶解
した液をロ−ルコ−タ−やスピンオンコータなどを用い
て塗布するなどして形成し、さらに、この透明保護膜６
上に、Ｉ．Ｔ．Ｏ．などからなる透明電極７を、スパッ
タリング法などにより形成して、図２に示すようなカラ
−フィルタが完成する。
層５ａ、５ｂ、５ｃを形成した後、この上に、アクリル
系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂などからな
る透明保護膜６を、たとえば前記樹脂を有機溶剤に溶解
した液をロ−ルコ−タ−やスピンオンコータなどを用い
て塗布するなどして形成し、さらに、この透明保護膜６
上に、Ｉ．Ｔ．Ｏ．などからなる透明電極７を、スパッ
タリング法などにより形成して、図２に示すようなカラ
−フィルタが完成する。
【００２３】すなわち、透明基板１上に、Ｃｒなどから
なる光遮蔽層２、Ｒ、Ｇ、Ｂの各染料をそれぞれ分散含
有させた非感光性樹脂からなるＲ、Ｇ、Ｂの各着色層５
ａ、５ｂ、５ｃ、アクリル系樹脂などからなる透明保護
膜６、Ｉ．Ｔ．Ｏ．などからなる透明電極７を具備した
カラ−フィルタが得られる。
なる光遮蔽層２、Ｒ、Ｇ、Ｂの各染料をそれぞれ分散含
有させた非感光性樹脂からなるＲ、Ｇ、Ｂの各着色層５
ａ、５ｂ、５ｃ、アクリル系樹脂などからなる透明保護
膜６、Ｉ．Ｔ．Ｏ．などからなる透明電極７を具備した
カラ−フィルタが得られる。
【００２４】しかして、このようにして得られたカラ−
フィルタは、染料分散法の長所を備えており、コントラ
ストが良好で、耐水性、耐薬品性、耐熱性に優れており
、液晶表示装置などに用いてその信頼性を向上させるこ
とができる。しかも、上記したように、製造は、従来の
レジストを用いる方法に比べてはるかに工程数も少なく
、製造コストの低減を図ることができる。
フィルタは、染料分散法の長所を備えており、コントラ
ストが良好で、耐水性、耐薬品性、耐熱性に優れており
、液晶表示装置などに用いてその信頼性を向上させるこ
とができる。しかも、上記したように、製造は、従来の
レジストを用いる方法に比べてはるかに工程数も少なく
、製造コストの低減を図ることができる。
【００２５】なお、図３に、上記実施例において用いた
エキシマレーザ光の照射装置を示す。この装置は、 １
５０〜４００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を発振す
るレーザ光発振装置８と、そこから発振したエキシマレ
ーザ光を所要の寸法に切り出すアパーチャー９と、この
アパーチャー９によって切り出されたエキシマレーザ光
を集光する適当な焦点距離を持つ石英レンズ１０と、被
照射材を固定し、これをＸ−Ｙ方向に移動させるＸ−Ｙ
テーブル１１と、このＸ−Ｙテーブル１１の駆動を制御
するＸ−Ｙ制御盤１２とを具備している。しかして、レ
ーザ光発振装置８から発振された １５０〜４００ｎｍ
の波長のエキシマレーザ光は、アパーチャー９により
切り出され、石英レンズ１０により集光されて、Ｘ−Ｙ
テーブル１１上に固定された基板に照射され、Ｘ−Ｙテ
ーブル１１のＸ−Ｙ方向の移動によって所定のエキシマ
レーザ光が基板全面に照射される。
エキシマレーザ光の照射装置を示す。この装置は、 １
５０〜４００ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を発振す
るレーザ光発振装置８と、そこから発振したエキシマレ
ーザ光を所要の寸法に切り出すアパーチャー９と、この
アパーチャー９によって切り出されたエキシマレーザ光
を集光する適当な焦点距離を持つ石英レンズ１０と、被
照射材を固定し、これをＸ−Ｙ方向に移動させるＸ−Ｙ
テーブル１１と、このＸ−Ｙテーブル１１の駆動を制御
するＸ−Ｙ制御盤１２とを具備している。しかして、レ
ーザ光発振装置８から発振された １５０〜４００ｎｍ
の波長のエキシマレーザ光は、アパーチャー９により
切り出され、石英レンズ１０により集光されて、Ｘ−Ｙ
テーブル１１上に固定された基板に照射され、Ｘ−Ｙテ
ーブル１１のＸ−Ｙ方向の移動によって所定のエキシマ
レーザ光が基板全面に照射される。
【００２６】なお、本発明に用いる、 １５０〜４００
ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を照射する装置として
は、特にこのような構成のものに限定されるものではな
い。
ｎｍ の波長のエキシマレーザ光を照射する装置として
は、特にこのような構成のものに限定されるものではな
い。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明方法によれ
ば、透明基板の一主面上に染料および顔料の少なくとも
一方を分散含有せしめた非感光性樹脂被覆を設け、この
被覆の不要な部分を １５０〜４００ｎｍ の波長を有
するエキシマレーザ光を用いて直接除去するので、レジ
ストの塗布、露光・現像、エッチング、レジストの除去
という煩雑な工程を採る従来の染料分散法に比べ、工程
数を大幅に低減することができる。しかも、基本的には
分散法に分類されるものであり、その長所を備えており
、染色法に比べ、耐水性、耐薬品性に優れ、耐熱性も良
好で、信頼性の高いカラ−フィルタを得ることができる
。
ば、透明基板の一主面上に染料および顔料の少なくとも
一方を分散含有せしめた非感光性樹脂被覆を設け、この
被覆の不要な部分を １５０〜４００ｎｍ の波長を有
するエキシマレーザ光を用いて直接除去するので、レジ
ストの塗布、露光・現像、エッチング、レジストの除去
という煩雑な工程を採る従来の染料分散法に比べ、工程
数を大幅に低減することができる。しかも、基本的には
分散法に分類されるものであり、その長所を備えており
、染色法に比べ、耐水性、耐薬品性に優れ、耐熱性も良
好で、信頼性の高いカラ−フィルタを得ることができる
。
【図１】本発明の一実施例のカラーフィルタの製造方法
を説明するために、その製造過程にあるカラ−フィルタ
を工程順に示した図である。
を説明するために、その製造過程にあるカラ−フィルタ
を工程順に示した図である。
【図２】本発明の実施例によって得られたカラーフィル
タの構成を示す図である。
タの構成を示す図である。
【図３】本発明の実施に使用されるエキシマレーザ光照
射装置の一例を示す図である。
射装置の一例を示す図である。
【図４】カラ−液晶表示装置の一例を示す分解斜視図で
ある。
ある。
１………透明基板
３………着色した非感光性樹脂層
５………着色層
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板の一主面上に、染料および顔
料の少なくとも一方を分散含有せしめた非感光性樹脂か
らなる着色層を所定のパターンで形成するにあたり、前
記透明基板の一主面上に、前記染料および顔料の少なく
とも一方を分散含有せしめた非感光性樹脂を被覆する工
程と、この非感光性樹脂被覆の形成すべきパターン部分
を除く部分に １５０〜４００ｎｍ の波長を有するエ
キシマレーザ光を選択的に照射し、その光化学反応によ
り該部の非感光性樹脂被覆を除去する工程とを含むこと
を特徴とするカラ−フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3071394A JPH04306601A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3071394A JPH04306601A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04306601A true JPH04306601A (ja) | 1992-10-29 |
Family
ID=13459258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3071394A Withdrawn JPH04306601A (ja) | 1991-04-04 | 1991-04-04 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04306601A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995013566A1 (en) * | 1993-11-10 | 1995-05-18 | Xmr, Inc. | Method for back-side photo-induced ablation for making a color filter, or the like |
| US5853924A (en) * | 1994-12-26 | 1998-12-29 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing color filters |
| JP2010237384A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ、その製造方法、有機ｅｌディスプレイ及び液晶ディスプレイ |
-
1991
- 1991-04-04 JP JP3071394A patent/JPH04306601A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995013566A1 (en) * | 1993-11-10 | 1995-05-18 | Xmr, Inc. | Method for back-side photo-induced ablation for making a color filter, or the like |
| US5853924A (en) * | 1994-12-26 | 1998-12-29 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing color filters |
| JP2010237384A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタ、その製造方法、有機ｅｌディスプレイ及び液晶ディスプレイ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980711 |