JPH04305537A - 飽和ハロゲン化炭化水素の精製法 - Google Patents
飽和ハロゲン化炭化水素の精製法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は飽和ハロゲン化炭化水素
の精製法に関する。特に、飽和ハロゲン化炭化水素中に
含まれていて、二重結合およびまたは三重結合を有し、
かつ、鎖状およびまたは環状である炭化水素(以下、不
飽和不純物と略す)類の含有量を、効率よく減少せしめ
る精製法に関する。
の精製法に関する。特に、飽和ハロゲン化炭化水素中に
含まれていて、二重結合およびまたは三重結合を有し、
かつ、鎖状およびまたは環状である炭化水素(以下、不
飽和不純物と略す)類の含有量を、効率よく減少せしめ
る精製法に関する。
【0002】
【従来の技術】飽和ハロゲン化炭化水素類は発泡剤、冷
媒、洗浄剤等の用途が期待される。これらは通常の温度
および圧力で不活性で低毒性の気体および液体であるも
のが多く、有用である。特に水素含有飽和ハロゲン化炭
化水素は、オゾン層破壊の可能性が極めて低いため、特
定フロン等の従来市場で用いられている水素を含まない
ハロゲン化炭化水素の代替品として注目されている。
媒、洗浄剤等の用途が期待される。これらは通常の温度
および圧力で不活性で低毒性の気体および液体であるも
のが多く、有用である。特に水素含有飽和ハロゲン化炭
化水素は、オゾン層破壊の可能性が極めて低いため、特
定フロン等の従来市場で用いられている水素を含まない
ハロゲン化炭化水素の代替品として注目されている。
【0003】飽和ハロゲン化炭化水素の製造において、
望ましくない不飽和不純物もしばしば副生する。これら
の飽和ハロゲン化炭化水素中に含まれる不飽和不純物は
、通常、飽和ハロゲン化炭化水素に比べ毒性が高い化合
物が多く、除去または含有量の低減をはかる必要がある
。不飽和不純物の含有量を低減するための一般的手法と
しては、蒸留法および吸着除去法が挙げられる。
望ましくない不飽和不純物もしばしば副生する。これら
の飽和ハロゲン化炭化水素中に含まれる不飽和不純物は
、通常、飽和ハロゲン化炭化水素に比べ毒性が高い化合
物が多く、除去または含有量の低減をはかる必要がある
。不飽和不純物の含有量を低減するための一般的手法と
しては、蒸留法および吸着除去法が挙げられる。
【0004】また、一般に物理的特性の似た飽和ハロゲ
ン化炭化水素と不飽和不純物の分離には、一般的な蒸留
によりある程度の分離をした後、さらに化学反応を伴う
手法を組み合わせて、残存する不飽和不純物を除去する
方法が好ましく、従来より種々の提案がなされている。 この残存する不飽和不純物を除去する方法としては、U
SP2,999,855、USP4,129,603等
によれば過マンガン酸カリウム水溶液を使用する酸化処
理法が有効である。
ン化炭化水素と不飽和不純物の分離には、一般的な蒸留
によりある程度の分離をした後、さらに化学反応を伴う
手法を組み合わせて、残存する不飽和不純物を除去する
方法が好ましく、従来より種々の提案がなされている。 この残存する不飽和不純物を除去する方法としては、U
SP2,999,855、USP4,129,603等
によれば過マンガン酸カリウム水溶液を使用する酸化処
理法が有効である。
【0005】また、EP370,688 には、ホプカ
ライト等の金属酸化物を用い、気相で不飽和不純物の分
解処理に使用した例がある。
ライト等の金属酸化物を用い、気相で不飽和不純物の分
解処理に使用した例がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】蒸留による方法は、沸
点が近い不飽和不純物の分離には蒸留塔の蒸留段数を多
くする必要があるため高価となること、共沸するような
不飽和不純物に対しては有効ではないこと等、一般に非
能率である。吸着除去による方法は、分子径、吸着特性
等の相違が明確に現れない限り、採用できないこと等、
適用が限定される。
点が近い不飽和不純物の分離には蒸留塔の蒸留段数を多
くする必要があるため高価となること、共沸するような
不飽和不純物に対しては有効ではないこと等、一般に非
能率である。吸着除去による方法は、分子径、吸着特性
等の相違が明確に現れない限り、採用できないこと等、
適用が限定される。
【0007】過マンガン酸カリウム水溶液を使用する方
法は、過マンガン酸カリウムが比較的高価なこと、重金
属であるマンガン化合物の廃棄処理が必要なこと、飽和
ハロゲン化炭化水素が過マンガン酸カリウム水溶液側に
分配されて損失することなど工業的な観点から問題があ
る。
法は、過マンガン酸カリウムが比較的高価なこと、重金
属であるマンガン化合物の廃棄処理が必要なこと、飽和
ハロゲン化炭化水素が過マンガン酸カリウム水溶液側に
分配されて損失することなど工業的な観点から問題があ
る。
【0008】また、EP370,688 の方法は、金
属酸化物の破過までの時間が最長でも204時間と短く
、また除去を目的とした不飽和不純物が反応後も残存す
るなど、活性の面で充分でない。
属酸化物の破過までの時間が最長でも204時間と短く
、また除去を目的とした不飽和不純物が反応後も残存す
るなど、活性の面で充分でない。
【0009】本発明の目的は、飽和ハロゲン化炭化水素
中に含まれる不飽和不純物の含有量を効率よく減少せし
める新規で有効な精製方法を提供することである。さら
に他の目的は、精製される飽和ハロゲン化炭化水素主成
分の損失を最小限に抑えて、不飽和不純物の含有濃度を
減少せしめる上記方法を提供することである。
中に含まれる不飽和不純物の含有量を効率よく減少せし
める新規で有効な精製方法を提供することである。さら
に他の目的は、精製される飽和ハロゲン化炭化水素主成
分の損失を最小限に抑えて、不飽和不純物の含有濃度を
減少せしめる上記方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討を行なった結果、不飽和不純
物が、次亜ハロゲン酸塩による酸化、およびアルカリ条
件下でのOH− との反応により、その生成物が水相側
へ移動することを見いだした。そこで水と相互に不溶な
不飽和不純物を含んだ飽和ハロゲン化炭化水素を相間移
動触媒の存在下、アルカリ性次亜ハロゲン酸塩水溶液と
反応させることにより、飽和ハロゲン化炭化水素を失う
ことなく、飽和ハロゲン化炭化水素中に含まれる不飽和
不純物を選択的に分解させることができ、飽和ハロゲン
化炭化水素中に含まれる不飽和不純物含有量を効率よく
減少せしめうることを見いだし、本発明を提供するに至
ったものである。
を達成するために鋭意検討を行なった結果、不飽和不純
物が、次亜ハロゲン酸塩による酸化、およびアルカリ条
件下でのOH− との反応により、その生成物が水相側
へ移動することを見いだした。そこで水と相互に不溶な
不飽和不純物を含んだ飽和ハロゲン化炭化水素を相間移
動触媒の存在下、アルカリ性次亜ハロゲン酸塩水溶液と
反応させることにより、飽和ハロゲン化炭化水素を失う
ことなく、飽和ハロゲン化炭化水素中に含まれる不飽和
不純物を選択的に分解させることができ、飽和ハロゲン
化炭化水素中に含まれる不飽和不純物含有量を効率よく
減少せしめうることを見いだし、本発明を提供するに至
ったものである。
【0011】以下本発明の詳細について実施例とともに
説明する。本発明は、不飽和不純物を含む飽和ハロゲン
化炭化水素、好ましくは、塩素、フッ素、または臭素の
少なくとも1種を有する飽和ハロゲン化炭化水素(一般
式Cn Hx Cly Fz Brw で表わされ、鎖
状の場合には、1≦n、x+y+z+w=2n+2、0
≦x<2n+2、0≦y≦2n+2、0≦z≦2n+2
、かつ、0≦w≦2n+2であり、また、分子内にk個
の環状基を有する場合には、3≦n、x+y+z+w=
2n+2−2k、0≦x<2n+2−2k、0≦y≦2
n+2−2k、0≦z≦2n+2−2k、かつ、0≦w
≦2n+2−2kである。)と次亜ハロゲン酸塩を、相
間移動触媒の存在下に液相で反応させ、前記不純物と次
亜ハロゲン酸塩との反応生成物を除去することを特徴と
する、飽和ハロゲン化炭化水素の精製法である。
説明する。本発明は、不飽和不純物を含む飽和ハロゲン
化炭化水素、好ましくは、塩素、フッ素、または臭素の
少なくとも1種を有する飽和ハロゲン化炭化水素(一般
式Cn Hx Cly Fz Brw で表わされ、鎖
状の場合には、1≦n、x+y+z+w=2n+2、0
≦x<2n+2、0≦y≦2n+2、0≦z≦2n+2
、かつ、0≦w≦2n+2であり、また、分子内にk個
の環状基を有する場合には、3≦n、x+y+z+w=
2n+2−2k、0≦x<2n+2−2k、0≦y≦2
n+2−2k、0≦z≦2n+2−2k、かつ、0≦w
≦2n+2−2kである。)と次亜ハロゲン酸塩を、相
間移動触媒の存在下に液相で反応させ、前記不純物と次
亜ハロゲン酸塩との反応生成物を除去することを特徴と
する、飽和ハロゲン化炭化水素の精製法である。
【0012】特に、精製される飽和ハロゲン化炭化水素
の中で、水素を少なくとも1以上およびフッ素を少なく
とも1以上有する炭化水素(一般式Cn Hx Cly
Fz Brw で表わされ、鎖状の場合には、1≦n
、x+y+z+w=2n+2、1≦x<2n+2、0≦
y≦2n+2、1≦z≦2n+2、かつ、0≦w≦2n
+2であり、また、分子内にk個の環状基を有する場合
には、3≦n、x+y+z+w=2n+2−2k、1≦
x<2n+2−2k、0≦y≦2n+2−2k、1≦z
≦2n+2−2k、かつ、0≦w≦2n+2−2kであ
る。)は、特定フロンの代替候補物質として重要である
。
の中で、水素を少なくとも1以上およびフッ素を少なく
とも1以上有する炭化水素(一般式Cn Hx Cly
Fz Brw で表わされ、鎖状の場合には、1≦n
、x+y+z+w=2n+2、1≦x<2n+2、0≦
y≦2n+2、1≦z≦2n+2、かつ、0≦w≦2n
+2であり、また、分子内にk個の環状基を有する場合
には、3≦n、x+y+z+w=2n+2−2k、1≦
x<2n+2−2k、0≦y≦2n+2−2k、1≦z
≦2n+2−2k、かつ、0≦w≦2n+2−2kであ
る。)は、特定フロンの代替候補物質として重要である
。
【0013】飽和ハロゲン化炭化水素の例として、四塩
化炭素(R−10)、トリクロロフルオロメタン(R−
11)、ジクロロジフルオロメタン(R−12)、クロ
ロトリフルオロメタン(R−13)、テトラフルオロメ
タン(R−14)、クロロホルム(R−20)、ジクロ
ロフルオロメタン(R−21)、クロロジフルオロメタ
ン(R−22)、トリフルオロメタン(R−23)、塩
化メチレン(R−30)、塩化メチル(R−40)、ブ
ロモトリクロロメタン(R−10B1)、ブロモジクロ
ロフルオロメタン(R−11B1)、ブロモクロロジフ
ルオロメタン(R−12B1)、ブロモジフルオロメタ
ン(R−22B1)、ブロモトリフルオロメタン(R−
13B1)、ヨードトリフルオロメタン等のC1 系、
ペンタクロロフルオロエタン(R−111) 、テトラ
クロロ−1,2− ジフルオロエタン(R−112)
、テトラクロロ−1,1− ジフルオロエタン(R−1
12a)、1,1,2−トリクロロ− トリフルオロエ
タン(R−113) 、1,1,1−トリクロロ− ト
リフルオロエタン(R−113a)、1,2−ジクロロ
− テトラフルオロエタン(R−114) 、1,1−
ジクロロ− テトラフルオロエタン(R−114a)、
クロロペンタフルオロエタン(R−115) 、1,2
,2−トリクロロ−1,1− ジフルオロエタン(R−
122) 、1,1,2−トリクロロ−1,2− ジフ
ルオロエタン(R−122a)、1,1,1−トリクロ
ロ−2,2− ジフルオロエタン(R−122b)、2
,2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン(R
−123) 、1,2−ジクロロ−1,1,2− トリ
フルオロエタン(R−123a)、1,1−ジクロロ−
1,2,2− トリフルオロエタン(R−123b)、
クロロ−1,1,1,2− テトラフルオロエタン(R
−124) 、1−クロロ−1,1,2,2− テトラ
フルオロエタン(R−124a)、ペンタフルオロエタ
ン(R−125) 、1,1,2,2−テトラクロロエ
タン(R−130) 、1,1,1,2−テトラクロロ
エタン(R−130a)、1,2−ジクロロ−1,2−
ジフルオロエタン(R−132) 、1,1−ジクロ
ロ−2,2− ジフルオロエタン(R−132a)、1
,2−ジクロロ−1,1− ジフルオロエタン(R−1
32b)、1,1−ジクロロ−1,2− ジフルオロエ
タン(R−132c)、1−クロロ−1,2,2− ト
リフルオロエタン(R−133) 、2−クロロ−1,
1,1− トリフルオロエタン(R−133a)、1,
1,2,2−テトラフルオロエタン(R−134) 、
1,1,1,2−テトラフルオロエタン(R−134a
)、1,1,2−トリクロロエタン(R−140) 、
1,1,1−トリクロロエタン(R−140a)、1,
2−ジクロロ−1− フルオロエタン(R−141)
、1,1−ジクロロ−2− フルオロエタン(R−14
1a)、1,1−ジクロロ−1− フルオロエタン(R
−141b)、2−クロロ−1,1− ジフルオロエタ
ン(R−142) 、1−クロロ−1,2− ジフルオ
ロエタン(R−142a)、1−クロロ−1,1− ジ
フルオロエタン(R−142b)、1,1,2−トリフ
ルオロエタン(R−143) 、1,1,1−トリフル
オロエタン(R−143a)、1,2−ジブロモ− テ
トラフルオロエタン(R−114B2) 、1−クロロ
−2− ヨードテトラフルオロエタン等のC2 系、オ
クタフルオロプロパン(R−218) 、1,1,1−
トリクロロ−2,2,3,3,3− ペンタフルオロプ
ロパン(R−215cb) 、1,1,3−トリクロロ
−1,2,2,3,3− ペンタフルオロプロパン(R
−215ca) 等のトリクロロペンタフルオロプロパ
ン(R−215)類、1,3−ジクロロ−1,1,2,
2,3− ペンタフルオロプロパン(R−225cb)
、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2− ペンタ
フルオロプロパン(R−225ca) 等のジクロロペ
ンタフルオロプロパン (R−225)類、テトラクロ
ロテトラフルオロプロパン(R−224) 類、1−ク
ロロ−3− ヨードパーフルオロプロパン、1−ヨード
パーフルオロプロパン等のC3 系等に代表される鎖状
の飽和ハロゲン化炭化水素、およびヘキサフルオロシク
ロプロパン(C−216) 、1,1,2,2−テトラ
クロロテトラフルオロシクロブタン(C−314) 、
1,2−ジクロロヘキサフルオロシクロブタン(C−3
16) 、オクタフルオロシクロブタン(C−318)
、1,2,2−トリクロロ−3,3,4,4− テト
ラフルオロシクロブタン(C−324) 、1,1,2
−トリフルオロ−2− クロロシクロブタン(C−34
4)、1−クロロ−1,2,2− テトラフルオロシク
ロブタン(C−353) 、1,1,2,2−テトラフ
ルオロシクロブタン(C−354) 、パーフルオロメ
チルシクロプロパン等に代表される環状の飽和ハロゲン
化炭化水素が挙げられる。
化炭素(R−10)、トリクロロフルオロメタン(R−
11)、ジクロロジフルオロメタン(R−12)、クロ
ロトリフルオロメタン(R−13)、テトラフルオロメ
タン(R−14)、クロロホルム(R−20)、ジクロ
ロフルオロメタン(R−21)、クロロジフルオロメタ
ン(R−22)、トリフルオロメタン(R−23)、塩
化メチレン(R−30)、塩化メチル(R−40)、ブ
ロモトリクロロメタン(R−10B1)、ブロモジクロ
ロフルオロメタン(R−11B1)、ブロモクロロジフ
ルオロメタン(R−12B1)、ブロモジフルオロメタ
ン(R−22B1)、ブロモトリフルオロメタン(R−
13B1)、ヨードトリフルオロメタン等のC1 系、
ペンタクロロフルオロエタン(R−111) 、テトラ
クロロ−1,2− ジフルオロエタン(R−112)
、テトラクロロ−1,1− ジフルオロエタン(R−1
12a)、1,1,2−トリクロロ− トリフルオロエ
タン(R−113) 、1,1,1−トリクロロ− ト
リフルオロエタン(R−113a)、1,2−ジクロロ
− テトラフルオロエタン(R−114) 、1,1−
ジクロロ− テトラフルオロエタン(R−114a)、
クロロペンタフルオロエタン(R−115) 、1,2
,2−トリクロロ−1,1− ジフルオロエタン(R−
122) 、1,1,2−トリクロロ−1,2− ジフ
ルオロエタン(R−122a)、1,1,1−トリクロ
ロ−2,2− ジフルオロエタン(R−122b)、2
,2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン(R
−123) 、1,2−ジクロロ−1,1,2− トリ
フルオロエタン(R−123a)、1,1−ジクロロ−
1,2,2− トリフルオロエタン(R−123b)、
クロロ−1,1,1,2− テトラフルオロエタン(R
−124) 、1−クロロ−1,1,2,2− テトラ
フルオロエタン(R−124a)、ペンタフルオロエタ
ン(R−125) 、1,1,2,2−テトラクロロエ
タン(R−130) 、1,1,1,2−テトラクロロ
エタン(R−130a)、1,2−ジクロロ−1,2−
ジフルオロエタン(R−132) 、1,1−ジクロ
ロ−2,2− ジフルオロエタン(R−132a)、1
,2−ジクロロ−1,1− ジフルオロエタン(R−1
32b)、1,1−ジクロロ−1,2− ジフルオロエ
タン(R−132c)、1−クロロ−1,2,2− ト
リフルオロエタン(R−133) 、2−クロロ−1,
1,1− トリフルオロエタン(R−133a)、1,
1,2,2−テトラフルオロエタン(R−134) 、
1,1,1,2−テトラフルオロエタン(R−134a
)、1,1,2−トリクロロエタン(R−140) 、
1,1,1−トリクロロエタン(R−140a)、1,
2−ジクロロ−1− フルオロエタン(R−141)
、1,1−ジクロロ−2− フルオロエタン(R−14
1a)、1,1−ジクロロ−1− フルオロエタン(R
−141b)、2−クロロ−1,1− ジフルオロエタ
ン(R−142) 、1−クロロ−1,2− ジフルオ
ロエタン(R−142a)、1−クロロ−1,1− ジ
フルオロエタン(R−142b)、1,1,2−トリフ
ルオロエタン(R−143) 、1,1,1−トリフル
オロエタン(R−143a)、1,2−ジブロモ− テ
トラフルオロエタン(R−114B2) 、1−クロロ
−2− ヨードテトラフルオロエタン等のC2 系、オ
クタフルオロプロパン(R−218) 、1,1,1−
トリクロロ−2,2,3,3,3− ペンタフルオロプ
ロパン(R−215cb) 、1,1,3−トリクロロ
−1,2,2,3,3− ペンタフルオロプロパン(R
−215ca) 等のトリクロロペンタフルオロプロパ
ン(R−215)類、1,3−ジクロロ−1,1,2,
2,3− ペンタフルオロプロパン(R−225cb)
、3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2− ペンタ
フルオロプロパン(R−225ca) 等のジクロロペ
ンタフルオロプロパン (R−225)類、テトラクロ
ロテトラフルオロプロパン(R−224) 類、1−ク
ロロ−3− ヨードパーフルオロプロパン、1−ヨード
パーフルオロプロパン等のC3 系等に代表される鎖状
の飽和ハロゲン化炭化水素、およびヘキサフルオロシク
ロプロパン(C−216) 、1,1,2,2−テトラ
クロロテトラフルオロシクロブタン(C−314) 、
1,2−ジクロロヘキサフルオロシクロブタン(C−3
16) 、オクタフルオロシクロブタン(C−318)
、1,2,2−トリクロロ−3,3,4,4− テト
ラフルオロシクロブタン(C−324) 、1,1,2
−トリフルオロ−2− クロロシクロブタン(C−34
4)、1−クロロ−1,2,2− テトラフルオロシク
ロブタン(C−353) 、1,1,2,2−テトラフ
ルオロシクロブタン(C−354) 、パーフルオロメ
チルシクロプロパン等に代表される環状の飽和ハロゲン
化炭化水素が挙げられる。
【0014】不飽和不純物の例として、テトラフルオロ
エチレン(R−1114)、クロロトリフルオロエチレ
ン(R−1113)、1,1−ジクロロジフルオロエチ
レン(R−1112a) 、シス−1,2− ジクロロ
ジフルオロエチレン(R−1112)、トランス−1,
2− ジクロロジフルオロエチレン(R−1112)、
トリクロロフルオロエチレン(R−1111)、テトラ
クロロエチレン(R−1110)、トリフルオロエチレ
ン(R−1123)、1−クロロ−2,2− ジフルオ
ロエチレン(R−1122)、1,1−ジクロロ−2−
フルオロエチレン(R−1121a) 、1,2−ジク
ロロ−1− フルオロエチレン(R−1121)、トリ
クロロエチレン(R−1120)、1,1−ジフルオロ
エチレン(R−1132a) 、1,2−ジフルオロエ
チレン(R−1132)、1−クロロ−1− フルオロ
エチレン(R−1131a) 、シス−1− クロロ−
2− フルオロエチレン(R−1131)、トランス−
1− クロロ−2− フルオロエチレン(R−1131
)、1,1−ジクロロエチレン(R−1130a) 、
シス−1,2− ジクロロエチレン(R−1130)、
トランス−1,2− クロロエチレン(R−1130)
、フルオロエチレン(R−1141)、クロロエチレン
(R−1140)、エチレン(R−1150)、1−ブ
ロモ−2,2− ジフルオロエチレン(R−1122B
1)、ブロモトリフルオロエチレン(R−1113B1
)、1,1−ジブロモジフルオロエチレン(R−112
1aB2) 等のC2 系、ヘキサフルオロプロペン(
R−1216)、2−クロロペンタフルオロプロペン(
R−1215xc)、1,1−ジクロロテトラフルオロ
プロペン(R−1214ya)、1,3−ジクロロテト
ラフルオロプロペン−E(R−1214yb)、1,3
−ジクロロテトラフルオロプロペン−Z(R−1214
yb)、1,1,2−トリクロロトリフルオロプロペン
(R−1213xa)、1,1,3,3,3−ペンタフ
ルオロプロペン(R−1225zc)、1,2−ジクロ
ロ−3,3,3− トリフルオロプロペン(R−122
3xd)、3,3,3−トリフルオロプロペン(R−1
243zf)、2−フルオロプロペン(R−1261y
f)等のC3 系、オクタフルオロブテン−2(R−1
318my)、2−クロロヘプタフルオロブテン−2(
R−1317mxy) 、2,3−ジクロロヘキサフル
オロブテン−2(R−1316mxx) 、2−クロロ
−1,1,1,4,4,4− ヘキサフルオロブテン−
2(R−1326mxz) 、1,1,1,4,4,4
−ヘキサフルオロブテン−2(R−1336mzz)
、2−トリフルオロメチル− ペンタフルオロプロペン
、4−クロロ−1,1,2,3,3,4,4− ヘプタ
フルオロブテン−2、2−ブロモ−1,1,1,4,4
,4− ヘキサフルオロブテン−2、2−ブロモ−3−
クロロ−1,1,1,4,4,4− ヘキサフルオロ
ブテン−2、2,3−ジブロモ−1,1,1,4,4,
4− ヘキサフルオロブテン−2、パーフルオロブチン
−2、ヘキサフルオロブタジエン、1,2−ジクロロテ
トラフルオロシクロブテン等のC4 系、クロロオクタ
フルオロペンテン、ジクロロオクタフルオロペンテン、
クロロノナフルオロペンテン等のC5 系、ジクロロデ
カフルオロヘキセン、クロロウンデカフルオロヘキセン
、クロロデカフルオロヘキセン、ウンデカフルオロヘキ
セン、デカフルオロヘキセン等のC6系が挙げられる。 さらに、存在する場合はそのシスおよびトランス異性体
を含み、上記の不飽和不純物の2種以上が同時に含有さ
れてもよい。
エチレン(R−1114)、クロロトリフルオロエチレ
ン(R−1113)、1,1−ジクロロジフルオロエチ
レン(R−1112a) 、シス−1,2− ジクロロ
ジフルオロエチレン(R−1112)、トランス−1,
2− ジクロロジフルオロエチレン(R−1112)、
トリクロロフルオロエチレン(R−1111)、テトラ
クロロエチレン(R−1110)、トリフルオロエチレ
ン(R−1123)、1−クロロ−2,2− ジフルオ
ロエチレン(R−1122)、1,1−ジクロロ−2−
フルオロエチレン(R−1121a) 、1,2−ジク
ロロ−1− フルオロエチレン(R−1121)、トリ
クロロエチレン(R−1120)、1,1−ジフルオロ
エチレン(R−1132a) 、1,2−ジフルオロエ
チレン(R−1132)、1−クロロ−1− フルオロ
エチレン(R−1131a) 、シス−1− クロロ−
2− フルオロエチレン(R−1131)、トランス−
1− クロロ−2− フルオロエチレン(R−1131
)、1,1−ジクロロエチレン(R−1130a) 、
シス−1,2− ジクロロエチレン(R−1130)、
トランス−1,2− クロロエチレン(R−1130)
、フルオロエチレン(R−1141)、クロロエチレン
(R−1140)、エチレン(R−1150)、1−ブ
ロモ−2,2− ジフルオロエチレン(R−1122B
1)、ブロモトリフルオロエチレン(R−1113B1
)、1,1−ジブロモジフルオロエチレン(R−112
1aB2) 等のC2 系、ヘキサフルオロプロペン(
R−1216)、2−クロロペンタフルオロプロペン(
R−1215xc)、1,1−ジクロロテトラフルオロ
プロペン(R−1214ya)、1,3−ジクロロテト
ラフルオロプロペン−E(R−1214yb)、1,3
−ジクロロテトラフルオロプロペン−Z(R−1214
yb)、1,1,2−トリクロロトリフルオロプロペン
(R−1213xa)、1,1,3,3,3−ペンタフ
ルオロプロペン(R−1225zc)、1,2−ジクロ
ロ−3,3,3− トリフルオロプロペン(R−122
3xd)、3,3,3−トリフルオロプロペン(R−1
243zf)、2−フルオロプロペン(R−1261y
f)等のC3 系、オクタフルオロブテン−2(R−1
318my)、2−クロロヘプタフルオロブテン−2(
R−1317mxy) 、2,3−ジクロロヘキサフル
オロブテン−2(R−1316mxx) 、2−クロロ
−1,1,1,4,4,4− ヘキサフルオロブテン−
2(R−1326mxz) 、1,1,1,4,4,4
−ヘキサフルオロブテン−2(R−1336mzz)
、2−トリフルオロメチル− ペンタフルオロプロペン
、4−クロロ−1,1,2,3,3,4,4− ヘプタ
フルオロブテン−2、2−ブロモ−1,1,1,4,4
,4− ヘキサフルオロブテン−2、2−ブロモ−3−
クロロ−1,1,1,4,4,4− ヘキサフルオロ
ブテン−2、2,3−ジブロモ−1,1,1,4,4,
4− ヘキサフルオロブテン−2、パーフルオロブチン
−2、ヘキサフルオロブタジエン、1,2−ジクロロテ
トラフルオロシクロブテン等のC4 系、クロロオクタ
フルオロペンテン、ジクロロオクタフルオロペンテン、
クロロノナフルオロペンテン等のC5 系、ジクロロデ
カフルオロヘキセン、クロロウンデカフルオロヘキセン
、クロロデカフルオロヘキセン、ウンデカフルオロヘキ
セン、デカフルオロヘキセン等のC6系が挙げられる。 さらに、存在する場合はそのシスおよびトランス異性体
を含み、上記の不飽和不純物の2種以上が同時に含有さ
れてもよい。
【0015】精製する飽和ハロゲン化炭化水素中に含ま
れる不飽和不純物の大部分は、通常の蒸留等の方法で分
離し、それぞれの不飽和不純物含有量を約10重量%以
下としておくことが好ましい。本発明では、一般にそれ
ぞれの成分が約10重量%以下の含有量の不飽和不純物
を含む飽和ハロゲン化炭化水素を処理するのに適当であ
る。通常その不飽和不純物の濃度は1成分あたり10p
pm〜1重量%程度含有される。多くの場合、本発明は
不飽和不純物の濃度を10ppm以下に低下させるのに
有効であることがわかった。
れる不飽和不純物の大部分は、通常の蒸留等の方法で分
離し、それぞれの不飽和不純物含有量を約10重量%以
下としておくことが好ましい。本発明では、一般にそれ
ぞれの成分が約10重量%以下の含有量の不飽和不純物
を含む飽和ハロゲン化炭化水素を処理するのに適当であ
る。通常その不飽和不純物の濃度は1成分あたり10p
pm〜1重量%程度含有される。多くの場合、本発明は
不飽和不純物の濃度を10ppm以下に低下させるのに
有効であることがわかった。
【0016】使用する次亜ハロゲン酸塩は一般式M(X
O)n (ここでXはCl、Br、またはIである。ま
た、n=1の場合には、MはLi、Na、K、Rb、ま
たはCsであり、n=2の場合には、MはMg、Ca、
Sr、またはBaである。)で表わされ、アルカリ条件
下で酸素を放出して酸化剤として働く。特に次亜塩素酸
ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸カルシウ
ム、次亜臭素酸ナトリウム等が有効である。入手の容易
性から次亜塩素酸ナトリウムまたは次亜塩素酸カルシウ
ムの使用が特に好ましく、通常は水溶液として使用する
。固体の次亜塩素酸塩を、有機相に分散して使用するこ
とも可能である。
O)n (ここでXはCl、Br、またはIである。ま
た、n=1の場合には、MはLi、Na、K、Rb、ま
たはCsであり、n=2の場合には、MはMg、Ca、
Sr、またはBaである。)で表わされ、アルカリ条件
下で酸素を放出して酸化剤として働く。特に次亜塩素酸
ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸カルシウ
ム、次亜臭素酸ナトリウム等が有効である。入手の容易
性から次亜塩素酸ナトリウムまたは次亜塩素酸カルシウ
ムの使用が特に好ましく、通常は水溶液として使用する
。固体の次亜塩素酸塩を、有機相に分散して使用するこ
とも可能である。
【0017】使用する相間移動触媒としては、有機相と
水相への両親媒性があり、次亜ハロゲン酸塩中のカチオ
ンに対する錯化剤として働くものであれば、特に限定さ
れない。特に、反応性の高い“裸の”次亜ハロゲン酸イ
オンを有機相側へ移送する能力が高く、本発明の反応条
件下では分解しないものが好ましい。
水相への両親媒性があり、次亜ハロゲン酸塩中のカチオ
ンに対する錯化剤として働くものであれば、特に限定さ
れない。特に、反応性の高い“裸の”次亜ハロゲン酸イ
オンを有機相側へ移送する能力が高く、本発明の反応条
件下では分解しないものが好ましい。
【0018】このような相間移動触媒について、以下、
代表的な例を分類して例示する。まず、一般式 R1
R2 R3 R4 N+ Y− で示される第4級ア
ンモニウム塩が挙げられる。ただしR1 、R2 、R
3 およびR4 は互いに同じか、または異なってそれ
ぞれ反応条件下に不活性な官能基で置換されているか、
あるいは置換されていない炭化水素基を表わす。
代表的な例を分類して例示する。まず、一般式 R1
R2 R3 R4 N+ Y− で示される第4級ア
ンモニウム塩が挙げられる。ただしR1 、R2 、R
3 およびR4 は互いに同じか、または異なってそれ
ぞれ反応条件下に不活性な官能基で置換されているか、
あるいは置換されていない炭化水素基を表わす。
【0019】炭化水素基の種類としては、例えばアルキ
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケ
ニル基、アリール基、アルケニルアリール基、アラルキ
ル基等が使用され、特に好ましくは、アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基等である。また炭化水素基の長さ
はR1 、R2 、R3 およびR4 に含まれる炭素
数の合計として、通常、第4級アンモニウムイオン1分
子あたり4個から100個の範囲より選ばれる。
ル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケ
ニル基、アリール基、アルケニルアリール基、アラルキ
ル基等が使用され、特に好ましくは、アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基等である。また炭化水素基の長さ
はR1 、R2 、R3 およびR4 に含まれる炭素
数の合計として、通常、第4級アンモニウムイオン1分
子あたり4個から100個の範囲より選ばれる。
【0020】上記炭化水素基に置換して使用できる不活
性基は、反応条件に応じて制限されるが、通常はハロゲ
ン、エステル基、ニトリル基、アシル基、カルボキシル
基、アルコキシル基等が使用される。なお、R1 、R
2、またはR1 、R2 、R3 が互いに連結して、
含窒素複素環等の複素環を形成してもよく、また、R1
、R2、R3 あるいはR4 が、高分子化合物の一
部であってもよい。
性基は、反応条件に応じて制限されるが、通常はハロゲ
ン、エステル基、ニトリル基、アシル基、カルボキシル
基、アルコキシル基等が使用される。なお、R1 、R
2、またはR1 、R2 、R3 が互いに連結して、
含窒素複素環等の複素環を形成してもよく、また、R1
、R2、R3 あるいはR4 が、高分子化合物の一
部であってもよい。
【0021】第4級アンモニウムイオンの例として、テ
トラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニ
ウムイオン、テトラ−n− プロピルアンモニウムイオ
ン、テトラ−n− ブチルアンモニウムイオン、トリ−
n− オクチルメチルアンモニウムイオン、セチルトリ
メチルアンモニウムイオン、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムイオン、ベンジルトリエチルアンモニウムイオン
、セチルベンジルジメチルアンモニウムイオン、セチル
ピリジニウムイオン、n−ドデシルピリジニウムイオン
、フェニルトリメチルアンモニウムイオン、フェニルト
リエチルアンモニウムイオン、N− ベンジルピコリニ
ウムイオン、ペンタメトニウムイオン、ヘキサメトニウ
ムイオン等が挙げられる。
トラメチルアンモニウムイオン、テトラエチルアンモニ
ウムイオン、テトラ−n− プロピルアンモニウムイオ
ン、テトラ−n− ブチルアンモニウムイオン、トリ−
n− オクチルメチルアンモニウムイオン、セチルトリ
メチルアンモニウムイオン、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムイオン、ベンジルトリエチルアンモニウムイオン
、セチルベンジルジメチルアンモニウムイオン、セチル
ピリジニウムイオン、n−ドデシルピリジニウムイオン
、フェニルトリメチルアンモニウムイオン、フェニルト
リエチルアンモニウムイオン、N− ベンジルピコリニ
ウムイオン、ペンタメトニウムイオン、ヘキサメトニウ
ムイオン等が挙げられる。
【0022】陰イオンY− の例としては、塩素イオン
、フッ素イオン、臭素イオン、沃素イオン、硫酸イオン
、硝酸イオン、リン酸イオン、過塩素酸イオン、硫酸水
素イオン、水酸イオン、酢酸イオン、安息香酸イオン、
ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イ
オン等が挙げられる。特に好ましいのは、塩素イオン、
臭素イオン、沃素イオン、硫酸水素イオン、水酸イオン
である。
、フッ素イオン、臭素イオン、沃素イオン、硫酸イオン
、硝酸イオン、リン酸イオン、過塩素酸イオン、硫酸水
素イオン、水酸イオン、酢酸イオン、安息香酸イオン、
ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イ
オン等が挙げられる。特に好ましいのは、塩素イオン、
臭素イオン、沃素イオン、硫酸水素イオン、水酸イオン
である。
【0023】次に一般式 R1 R2 R3 R4
P+ Y− で示される第4級ホスホニウム塩が挙げら
れる。ただしR1 、R2 、R3 およびR4 は互
いに同じか、または異なってそれぞれ反応条件下に不活
性な官能基で置換されているか、あるいは置換されてい
ない炭化水素基を表わす。炭化水素基の種類としては、
第4級アンモニウム塩の場合と同様であり、特に、アル
キル基、アリール基、アラルキル基等が好ましい。また
炭化水素基の長さはR1 、R2 、R3 およびR4
に含まれる炭素数の合計として、通常、第4級ホスホ
ニウムイオン1分子あたり4個から100個の範囲より
選ばれる。
P+ Y− で示される第4級ホスホニウム塩が挙げら
れる。ただしR1 、R2 、R3 およびR4 は互
いに同じか、または異なってそれぞれ反応条件下に不活
性な官能基で置換されているか、あるいは置換されてい
ない炭化水素基を表わす。炭化水素基の種類としては、
第4級アンモニウム塩の場合と同様であり、特に、アル
キル基、アリール基、アラルキル基等が好ましい。また
炭化水素基の長さはR1 、R2 、R3 およびR4
に含まれる炭素数の合計として、通常、第4級ホスホ
ニウムイオン1分子あたり4個から100個の範囲より
選ばれる。
【0024】上記炭化水素基に置換して使用できる不活
性基の種類としては、第4級アンモニウム塩の場合と同
様である。
性基の種類としては、第4級アンモニウム塩の場合と同
様である。
【0025】第4級ホスホニウムイオンの例として、テ
トラエチルホスホニウムイオン、テトラ−n− ブチル
ホスホニウムイオン、トリ−n− オクチルエチルホス
ホニウムイオン、セチルトリエチルホスホニウムイオン
、セチルトリ−n− ブチルホスホニウムイオン、n−
ブチルトリフェニルホスホニウムイオン、n−アミルト
リフェニルホスホニウムイオン、メチルトリフェニルホ
スホニウムイオン、ベンジルトリフェニルホスホニウム
イオン、テトラフェニルホスホニウムイオン等が挙げら
れる。
トラエチルホスホニウムイオン、テトラ−n− ブチル
ホスホニウムイオン、トリ−n− オクチルエチルホス
ホニウムイオン、セチルトリエチルホスホニウムイオン
、セチルトリ−n− ブチルホスホニウムイオン、n−
ブチルトリフェニルホスホニウムイオン、n−アミルト
リフェニルホスホニウムイオン、メチルトリフェニルホ
スホニウムイオン、ベンジルトリフェニルホスホニウム
イオン、テトラフェニルホスホニウムイオン等が挙げら
れる。
【0026】陰イオンY− の例としては、第4級アン
モニウム塩の場合と同様のイオン等が挙げられる。特に
好ましいのは、塩素イオン、臭素イオンである。
モニウム塩の場合と同様のイオン等が挙げられる。特に
好ましいのは、塩素イオン、臭素イオンである。
【0027】次に一般式 R1 R2 R3 R4
As+ Y− で示される第4級アルソニウム塩が挙げ
られる。ただしR1 、R2 、R3 およびR4 は
互いに同じか、または異なってそれぞれ反応条件下に不
活性な官能基で置換されているか、あるいは置換されて
いない炭化水素基を表わす。
As+ Y− で示される第4級アルソニウム塩が挙げ
られる。ただしR1 、R2 、R3 およびR4 は
互いに同じか、または異なってそれぞれ反応条件下に不
活性な官能基で置換されているか、あるいは置換されて
いない炭化水素基を表わす。
【0028】第4級アルソニウム塩の例として、トリフ
ェニルメチルアルソニウムクロライド、テトラフェニル
アルソニウムクロライド、テトラフェニルアルソニウム
ブロマイドあるいはその高分子誘導体等が挙げられる。
ェニルメチルアルソニウムクロライド、テトラフェニル
アルソニウムクロライド、テトラフェニルアルソニウム
ブロマイドあるいはその高分子誘導体等が挙げられる。
【0029】次に、一般式 R1 R2 R3 S+
Y− で示されるスルホニウム塩が挙げられる。ただ
しR1 、R2 およびR3 は互いに同じか、または
異なってそれぞれ反応条件下に不活性な官能基で置換さ
れているか、あるいは置換されていない炭化水素基を表
わす。
Y− で示されるスルホニウム塩が挙げられる。ただ
しR1 、R2 およびR3 は互いに同じか、または
異なってそれぞれ反応条件下に不活性な官能基で置換さ
れているか、あるいは置換されていない炭化水素基を表
わす。
【0030】炭化水素基の種類としては、第4級アンモ
ニウム塩の場合と同様であり、特に好ましくは、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基等である。また炭化水
素基の長さはR1 、R2 およびR3 に含まれる炭
素数の合計として、通常、スルホニウムイオン1分子あ
たり4個から100個の範囲より選ばれる。
ニウム塩の場合と同様であり、特に好ましくは、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基等である。また炭化水
素基の長さはR1 、R2 およびR3 に含まれる炭
素数の合計として、通常、スルホニウムイオン1分子あ
たり4個から100個の範囲より選ばれる。
【0031】上記炭化水素基に置換して使用できる不活
性基は、反応条件に応じて制限されるが、通常はハロゲ
ン、エステル基、ニトリル基、アシル基、カルボキシル
基、アルコキシル基等が使用される。なおR1 、R2
またはR1 、R2 、R3 が互いに連結して、含
窒素複素環等の複素環を形成してもよく、またR1 、
R2 あるいはR3 が、高分子化合物の一部であって
もよい。
性基は、反応条件に応じて制限されるが、通常はハロゲ
ン、エステル基、ニトリル基、アシル基、カルボキシル
基、アルコキシル基等が使用される。なおR1 、R2
またはR1 、R2 、R3 が互いに連結して、含
窒素複素環等の複素環を形成してもよく、またR1 、
R2 あるいはR3 が、高分子化合物の一部であって
もよい。
【0032】陰イオンY− には第4級アンモニウム塩
と同様に特に制限はなく、各種の陰イオンが使用できる
が、通常はハロゲンイオン、ハロゲンイオン以外の各種
鉱酸イオン、有機酸イオン、水酸イオン等が使用される
。
と同様に特に制限はなく、各種の陰イオンが使用できる
が、通常はハロゲンイオン、ハロゲンイオン以外の各種
鉱酸イオン、有機酸イオン、水酸イオン等が使用される
。
【0033】スルホニウム塩の例として、ジ−n− ブ
チルメチルスルホニウムアイオダイド、トリ−n− ブ
チルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジヘキシル
メチルスルホニウムアイオダイド、ジシクロヘキシルメ
チルスルホニウムアイオダイド、ドデシルメチルエチル
スルホニウムクロライド、トリス( ジエチルアミノ)
スルホニウムジフルオロトリメチルシリケート等が挙
げられる。
チルメチルスルホニウムアイオダイド、トリ−n− ブ
チルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジヘキシル
メチルスルホニウムアイオダイド、ジシクロヘキシルメ
チルスルホニウムアイオダイド、ドデシルメチルエチル
スルホニウムクロライド、トリス( ジエチルアミノ)
スルホニウムジフルオロトリメチルシリケート等が挙
げられる。
【0034】次に、次亜ハロゲン酸塩中のカチオンに対
する親油性錯化剤として働く相関移動触媒が挙げられる
。分類すると、例えば、大環状ポリエーテル、大環状ア
ミノエーテル、ポリエチレングリコールあるいはポリエ
チレングリコール誘導体、ポリビニルピロリドンあるい
はポリビニルピロリドン誘導体、アミンオキサイド類が
挙げられる。また、以上に挙げたすべての化合物もしく
はその誘導体中に含まれる酸素原子の一部またはすべて
が窒素原子、硫黄原子、リン原子、スルフィニル基、ス
ルホニル基等で置換されているものでもよい。
する親油性錯化剤として働く相関移動触媒が挙げられる
。分類すると、例えば、大環状ポリエーテル、大環状ア
ミノエーテル、ポリエチレングリコールあるいはポリエ
チレングリコール誘導体、ポリビニルピロリドンあるい
はポリビニルピロリドン誘導体、アミンオキサイド類が
挙げられる。また、以上に挙げたすべての化合物もしく
はその誘導体中に含まれる酸素原子の一部またはすべて
が窒素原子、硫黄原子、リン原子、スルフィニル基、ス
ルホニル基等で置換されているものでもよい。
【0035】反応形式はバッチ反応、流通式反応等が採
用しうる。工業的には、抽出塔形式により、軽液である
次亜ハロゲン酸塩水溶液を保持しておき、重液である飽
和ハロゲン化炭化水素を上部から供給し、下部から抜き
出す方法が採用できる。
用しうる。工業的には、抽出塔形式により、軽液である
次亜ハロゲン酸塩水溶液を保持しておき、重液である飽
和ハロゲン化炭化水素を上部から供給し、下部から抜き
出す方法が採用できる。
【0036】精製する飽和ハロゲン化炭化水素中の不飽
和不純物と次亜ハロゲン酸塩の反応時のモル比率は、特
に限定されない。次亜ハロゲン酸塩は、精製する飽和ハ
ロゲン化炭化水素中の不飽和不純物の当量以上供給すれ
ばよく、供給量が多すぎると精製する飽和ハロゲン化炭
化水素の実質的な量の損失を伴うことがある。工業的に
は、不飽和不純物1モルに対して、次亜ハロゲン酸塩が
1〜10万モル、好ましくは1〜1万モル、さらに好ま
しくは1〜1000モルである。
和不純物と次亜ハロゲン酸塩の反応時のモル比率は、特
に限定されない。次亜ハロゲン酸塩は、精製する飽和ハ
ロゲン化炭化水素中の不飽和不純物の当量以上供給すれ
ばよく、供給量が多すぎると精製する飽和ハロゲン化炭
化水素の実質的な量の損失を伴うことがある。工業的に
は、不飽和不純物1モルに対して、次亜ハロゲン酸塩が
1〜10万モル、好ましくは1〜1万モル、さらに好ま
しくは1〜1000モルである。
【0037】反応温度は特に限定されないが、工業的に
実施可能な反応速度を得ようとするには、精製する飽和
ハロゲン化炭化水素、使用する相間移動触媒および使用
する次亜ハロゲン酸塩により異なるが、通常、精製する
飽和ハロゲン化炭化水素およびまたは次亜ハロゲン酸塩
水溶液が、実質的に液体として存在する温度から100
℃の範囲である。
実施可能な反応速度を得ようとするには、精製する飽和
ハロゲン化炭化水素、使用する相間移動触媒および使用
する次亜ハロゲン酸塩により異なるが、通常、精製する
飽和ハロゲン化炭化水素およびまたは次亜ハロゲン酸塩
水溶液が、実質的に液体として存在する温度から100
℃の範囲である。
【0038】反応時間は精製する飽和ハロゲン化炭化水
素、使用する相間移動触媒、および使用する次亜ハロゲ
ン酸塩によって異なるが、バッチ式反応の場合、通常、
10秒〜60分である。
素、使用する相間移動触媒、および使用する次亜ハロゲ
ン酸塩によって異なるが、バッチ式反応の場合、通常、
10秒〜60分である。
【0039】精製反応時、不飽和不純物を含む飽和ハロ
ゲン化炭化水素、次亜ハロゲン酸塩、および相間移動触
媒の他に、飽和ハロゲン化炭化水素に不活性な溶媒を共
存させてもよい。
ゲン化炭化水素、次亜ハロゲン酸塩、および相間移動触
媒の他に、飽和ハロゲン化炭化水素に不活性な溶媒を共
存させてもよい。
【0040】反応圧は精製する飽和ハロゲン化炭化水素
や次亜ハロゲン酸塩水溶液が反応中液化していれば、特
に限定されないが、通常、微減圧〜20kg/cm2(
ゲージ圧)で行うのが好ましい。飽和ハロゲン化炭化水
素と沸点が近く、蒸留分離困難な不飽和不純物は、次亜
ハロゲン酸塩との反応により酸化され、得られる反応生
成物は飽和ハロゲン化炭化水素の相から次亜ハロゲン酸
塩水溶液の相へ移行し、分離除去される。
や次亜ハロゲン酸塩水溶液が反応中液化していれば、特
に限定されないが、通常、微減圧〜20kg/cm2(
ゲージ圧)で行うのが好ましい。飽和ハロゲン化炭化水
素と沸点が近く、蒸留分離困難な不飽和不純物は、次亜
ハロゲン酸塩との反応により酸化され、得られる反応生
成物は飽和ハロゲン化炭化水素の相から次亜ハロゲン酸
塩水溶液の相へ移行し、分離除去される。
【0041】以下、本発明の実施例を示す。なお、表中
の「n.d.」はFIDガスクロマトグラフィで不検出
を表わす。
の「n.d.」はFIDガスクロマトグラフィで不検出
を表わす。
【0042】
【実施例】実施例1
100mlのガラス製オートクレーブに、トリ−n−
オクチルメチルアンモニウムクロライド( 80%水溶
液) 15g、表1に示す不飽和不純物を含有する2,
2,− ジクロロ−1,1,1− トリフルオロプロパ
ン(R−123)を50ml、有効塩素12%の次亜塩
素酸ナトリウム水溶液を30mlを加えて液体窒素によ
り固化、減圧脱気した後、オートクレーブを10℃に保
ち、1時間撹拌を続けた。反応液を分液して、粗液を回
収しFIDガスクロマトグラフィを用いて分析した。反
応の前後での不飽和不純物、およびR− 123のガス
クロ面積%を表1に示す。R−123の量は、0.9%
程度の損失にとどまった。
オクチルメチルアンモニウムクロライド( 80%水溶
液) 15g、表1に示す不飽和不純物を含有する2,
2,− ジクロロ−1,1,1− トリフルオロプロパ
ン(R−123)を50ml、有効塩素12%の次亜塩
素酸ナトリウム水溶液を30mlを加えて液体窒素によ
り固化、減圧脱気した後、オートクレーブを10℃に保
ち、1時間撹拌を続けた。反応液を分液して、粗液を回
収しFIDガスクロマトグラフィを用いて分析した。反
応の前後での不飽和不純物、およびR− 123のガス
クロ面積%を表1に示す。R−123の量は、0.9%
程度の損失にとどまった。
【0043】
【表1】
【0044】実施例2〜4
実施例1における次亜ハロゲン酸塩である、有効塩素1
2%の次亜塩素酸ナトリウム水溶液の代わりに、実施例
2では有効塩素4%の次亜塩素酸カルシウム水溶液45
mlを用い、反応温度を30℃とし、実施例3では有効
塩素6%の次亜塩素酸カリウム水溶液50mlを用い、
反応温度を20℃とし、実施例4では有効塩素3%の次
亜臭素酸ナトリウム水溶液45mlを用い、反応温度を
20℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反応
を行い、分析した。その結果を表2に示す。R− 12
3の量は、それぞれ2.1%、1.9%、3.7%程度
の損失にとどまった。
2%の次亜塩素酸ナトリウム水溶液の代わりに、実施例
2では有効塩素4%の次亜塩素酸カルシウム水溶液45
mlを用い、反応温度を30℃とし、実施例3では有効
塩素6%の次亜塩素酸カリウム水溶液50mlを用い、
反応温度を20℃とし、実施例4では有効塩素3%の次
亜臭素酸ナトリウム水溶液45mlを用い、反応温度を
20℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反応
を行い、分析した。その結果を表2に示す。R− 12
3の量は、それぞれ2.1%、1.9%、3.7%程度
の損失にとどまった。
【0045】
【表2】
【0046】実施例5〜7
実施例1における相間移動触媒である、トリ−n− オ
クチルメチルアンモニウムクロライドの代わりに、実施
例5ではベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド
の5gを用い、反応温度は30℃とし、実施例6ではテ
トラフェニルアルソニウムクロライドの2gを用い、反
応温度は40℃とし、実施例7ではジ−n− ブチルメ
チルスルホニウムアイオダイドの5gを用い、反応温度
は30℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反
応を行い、分析した。その結果を表3に示す。R−12
3の量は、それぞれ1.9%、2.8%、2.9%程度
の損失にとどまった。
クチルメチルアンモニウムクロライドの代わりに、実施
例5ではベンジルトリフェニルホスホニウムクロライド
の5gを用い、反応温度は30℃とし、実施例6ではテ
トラフェニルアルソニウムクロライドの2gを用い、反
応温度は40℃とし、実施例7ではジ−n− ブチルメ
チルスルホニウムアイオダイドの5gを用い、反応温度
は30℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反
応を行い、分析した。その結果を表3に示す。R−12
3の量は、それぞれ1.9%、2.8%、2.9%程度
の損失にとどまった。
【0047】
【表3】
【0048】実施例8〜10
実施例1における相間移動触媒である、トリ−n− オ
クチルメチルアンモニウムクロライドの代わりに、実施
例8では18− クラウン−6(1,4,7,10,1
3,16− ヘキサオキサシクロオクタデカン)の0.
5gを用い、反応温度は40℃とし、実施例9ではクリ
プトフィックス−221( メルク社製、双環性アミノ
エーテル) の0.5gを用い、反応温度は40℃とし
、実施例10ではノニオン性界面活性剤ポリオキシエチ
レンオレイルエーテルの2gをを用い、反応温度は40
℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反応を行
い、分析した。その結果を表4に示す。R−123の量
は、それぞれ6.2%、7.8%、6.4%程度の損失
にとどまった。
クチルメチルアンモニウムクロライドの代わりに、実施
例8では18− クラウン−6(1,4,7,10,1
3,16− ヘキサオキサシクロオクタデカン)の0.
5gを用い、反応温度は40℃とし、実施例9ではクリ
プトフィックス−221( メルク社製、双環性アミノ
エーテル) の0.5gを用い、反応温度は40℃とし
、実施例10ではノニオン性界面活性剤ポリオキシエチ
レンオレイルエーテルの2gをを用い、反応温度は40
℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反応を行
い、分析した。その結果を表4に示す。R−123の量
は、それぞれ6.2%、7.8%、6.4%程度の損失
にとどまった。
【0049】
【表4】
【0050】実施例11〜13
実施例1における相間移動触媒である、トリ−n− オ
クチルメチルアンモニウムクロライドの代わりに、実施
例11ではポリビニルピロリドンの0.5gを用い、反
応温度は40℃とし、実施例12ではトリ−n− オク
チルアミンオキサイドの1gを用い、反応温度は40℃
とし、実施例13では、4−(5− ノニル) ピリジ
ン− N− オキサイドの1gをを用い、反応温度は4
0℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反応を
行い、分析した。その結果を表5に示す。R−123の
量は、それぞれ3.2%、4.6%、7.2%程度の損
失にとどまった。
クチルメチルアンモニウムクロライドの代わりに、実施
例11ではポリビニルピロリドンの0.5gを用い、反
応温度は40℃とし、実施例12ではトリ−n− オク
チルアミンオキサイドの1gを用い、反応温度は40℃
とし、実施例13では、4−(5− ノニル) ピリジ
ン− N− オキサイドの1gをを用い、反応温度は4
0℃とする他は、それぞれ実施例1と同様にして反応を
行い、分析した。その結果を表5に示す。R−123の
量は、それぞれ3.2%、4.6%、7.2%程度の損
失にとどまった。
【0051】
【表5】
【0052】実施例14
R−123の代わりに1,1,1,2−テトラフルオロ
エタン(R−134a)を用い、反応温度を−10℃と
する他は、実施例1と同様にして反応を行った。R−1
34a反応粗液をトラップ・トゥ・トラップ手法により
回収し、FIDガスクロマトグラフィを用いて分析した
。反応の前後での不飽和不純物、およびR−134aの
ガスクロ面積%を表6に示す。R−134aの量は、4
.5%程度の損失にとどまった。
エタン(R−134a)を用い、反応温度を−10℃と
する他は、実施例1と同様にして反応を行った。R−1
34a反応粗液をトラップ・トゥ・トラップ手法により
回収し、FIDガスクロマトグラフィを用いて分析した
。反応の前後での不飽和不純物、およびR−134aの
ガスクロ面積%を表6に示す。R−134aの量は、4
.5%程度の損失にとどまった。
【0053】
【表6】
【0054】実施例15
R−123の代わりに2−クロロ−1,1,1,2−
テトラフルオロエタン(R−124)を用い、反応温度
を10℃とする他は、実施例1と同様にして反応を行っ
た。R−124反応粗液をトラップ・トゥ・トラップ手
法により回収し、FIDガスクロマトグラフィを用いて
分析した。反応の前後での不飽和不純物、およびR−1
24のガスクロ面積%を表7に示す。R−124の量は
、0.9%程度の損失にとどまった。
テトラフルオロエタン(R−124)を用い、反応温度
を10℃とする他は、実施例1と同様にして反応を行っ
た。R−124反応粗液をトラップ・トゥ・トラップ手
法により回収し、FIDガスクロマトグラフィを用いて
分析した。反応の前後での不飽和不純物、およびR−1
24のガスクロ面積%を表7に示す。R−124の量は
、0.9%程度の損失にとどまった。
【0055】
【表7】
【0056】実施例16
R−123の代わりに1,1−ジクロロ−1− フルオ
ロエタン(R−141b)を用い、反応温度を20℃と
する他は、実施例1と同様にして反応を行った。反応粗
液を分液後、回収しFIDガスクロマトグラフィを用い
て分析した。反応の前後での不飽和不純物、およびR−
141bのガスクロ面積%を表8に示す。R−141b
の量は、1.7%程度の損失にとどまった。
ロエタン(R−141b)を用い、反応温度を20℃と
する他は、実施例1と同様にして反応を行った。反応粗
液を分液後、回収しFIDガスクロマトグラフィを用い
て分析した。反応の前後での不飽和不純物、およびR−
141bのガスクロ面積%を表8に示す。R−141b
の量は、1.7%程度の損失にとどまった。
【0057】
【表8】
【0058】実施例17
R−123の代わりに3,3−ジクロロ−1,1,1,
2,2− ペンタフルオロプロパン(R−225ca)
を用いる他は、実施例1と同様にして反応を行った。反
応粗液を分液後、回収しFIDガスクロマトグラフィを
用いて分析した。 反応の前後での不飽和不純物、およびR−225caの
ガスクロ面積%を表9に示す。
2,2− ペンタフルオロプロパン(R−225ca)
を用いる他は、実施例1と同様にして反応を行った。反
応粗液を分液後、回収しFIDガスクロマトグラフィを
用いて分析した。 反応の前後での不飽和不純物、およびR−225caの
ガスクロ面積%を表9に示す。
【0059】
【表9】
【0060】
【発明の効果】本発明方法に従えば、飽和ハロゲン化炭
化水素中の不飽和不純物を効率的に減少でき、また、精
製する飽和ハロゲン化炭化水素の損失を最小限に抑える
ことができる。
化水素中の不飽和不純物を効率的に減少でき、また、精
製する飽和ハロゲン化炭化水素の損失を最小限に抑える
ことができる。
Claims (7)
- 【請求項1】不飽和不純物を含む飽和ハロゲン化炭化水
素と次亜ハロゲン酸塩とを、相間移動触媒の存在下に液
相で反応させ、前記不純物と次亜ハロゲン酸塩との反応
生成物を除去することを特徴とする飽和ハロゲン化炭化
水素の精製法。 - 【請求項2】飽和ハロゲン化炭化水素が、水素を少なく
とも1以上およびフッ素を少なくとも1以上有する炭化
水素である、請求項1の精製法。 - 【請求項3】次亜ハロゲン酸塩が、次亜塩素酸ナトリウ
ム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸カルシウム、およ
び次亜臭素酸ナトリウムから選ばれる、請求項1の精製
法。 - 【請求項4】相間移動触媒が、第4級アンモニウム塩、
第4級ホスホニウム塩、第4級アルソニウム塩およびス
ルホニウム塩から選ばれる、請求項1の精製法。 - 【請求項5】精製前の飽和ハロゲン化炭化水素中の不飽
和不純物の含有量が、10ppm〜10重量%である、
請求項1の精製法。 - 【請求項6】飽和ハロゲン化炭化水素中の不飽和不純物
と次亜ハロゲン酸塩の供給割合が、不飽和不純物1モル
に対して、次亜ハロゲン酸塩が1〜10万モルである、
請求項1の精製法。 - 【請求項7】反応温度が、飽和ハロゲン化炭化水素およ
び次亜ハロゲン酸塩水溶液が実質的に液体として存在す
る温度から100℃の範囲である、請求項1の精製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3065374A JPH04305537A (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | 飽和ハロゲン化炭化水素の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3065374A JPH04305537A (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | 飽和ハロゲン化炭化水素の精製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04305537A true JPH04305537A (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=13285130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3065374A Withdrawn JPH04305537A (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | 飽和ハロゲン化炭化水素の精製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04305537A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5326918A (en) * | 1992-11-18 | 1994-07-05 | Elf Atochem S.A. | Purification of 1,1-dichloro-1-fluoroethane |
-
1991
- 1991-03-07 JP JP3065374A patent/JPH04305537A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5326918A (en) * | 1992-11-18 | 1994-07-05 | Elf Atochem S.A. | Purification of 1,1-dichloro-1-fluoroethane |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |