JPH04293295A - Manufacture of circuit substrate - Google Patents

Manufacture of circuit substrate

Info

Publication number
JPH04293295A
JPH04293295A JP5906791A JP5906791A JPH04293295A JP H04293295 A JPH04293295 A JP H04293295A JP 5906791 A JP5906791 A JP 5906791A JP 5906791 A JP5906791 A JP 5906791A JP H04293295 A JPH04293295 A JP H04293295A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
circuit
circuit pattern
circuit board
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5906791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Chikao Ikenaga
池永知加雄
Hiroshi Yagi
八木▲ひろし▼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP5906791A priority Critical patent/JPH04293295A/en
Publication of JPH04293295A publication Critical patent/JPH04293295A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a manufacturing method for a circuit board in which a circuit can perform an original function by preventing a remarkable decrease of an electric conductivity by a porous or rough surface wiring pattern. CONSTITUTION:Since a circuit pattern 10 after a baking step is finished is porous, a ceramic board 1 having the pattern 10 is calendered by a pair of calender rolls 11, 12. A pressure is applied to a wiring part 10a of the pattern 10 by a calendering step, and the part 10a is elongated. As a result, many holes 10b, 10b,... existed in the part 10a are eliminated, and the part 10a becomes nonporous. Further, the rough surface of the part 10a becomes smooth.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等の電子制
御装置に用いられるセラミック回路基板等の回路基板の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a circuit board such as a ceramic circuit board used in an electronic control device such as a semiconductor device.

【0002】0002

【従来の技術】従来、半導体装置等の電子制御装置には
、セラミック回路基板等の回路基板が多く用いられてい
る。この回路基板は絶縁性基板の上に導電体の回路パタ
ーンが形成されたものである。ところでこのような回路
基板を製造するにあたっては、導電体の回路パターンを
形成する必要があるが、回路パターンの形成方法として
、従来より印刷法及びフォトエッチング法が一般に採用
されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, circuit boards such as ceramic circuit boards are often used in electronic control devices such as semiconductor devices. This circuit board has a conductor circuit pattern formed on an insulating substrate. By the way, in manufacturing such a circuit board, it is necessary to form a circuit pattern of a conductor, and printing methods and photo-etching methods have been generally employed as methods for forming circuit patterns.

【0003】印刷法は、図3に示すようにセラミック基
板1上に、予め回路パターンと同パターン2aが形成さ
れたスクリーン2を当てがい、導電性ペースト等の導電
体3をこのスクリーン2を通過させてパターン2a通り
にセラミック基板1上へ転写することにより回路パター
ンを形成するものである。
In the printing method, as shown in FIG. 3, a screen 2 on which a pattern 2a identical to the circuit pattern is formed in advance is placed on a ceramic substrate 1, and a conductor 3 such as a conductive paste is passed through the screen 2. A circuit pattern is formed by transferring the pattern 2a onto the ceramic substrate 1 in accordance with the pattern 2a.

【0004】しかしながら、この印刷法では微細な加工
を行うことができない。特に近年では例えば半導体素子
の多ピン化がめまぐるしく進展しており、これに伴い回
路基板における配線リードの微細ピッチ化がより一層強
く求められているが、この印刷法ではこれらの要求に確
実にかつ十分に対応することはできない。そこで、より
微細加工が可能である回路パターンの形成方法として、
フォトエッチング法がある。
[0004] However, this printing method cannot perform fine processing. Particularly in recent years, for example, the number of pins in semiconductor devices has been rapidly increasing, and along with this, there has been an even stronger demand for finer pitches for wiring leads on circuit boards.This printing method can meet these demands reliably and efficiently. We cannot respond adequately. Therefore, as a method for forming circuit patterns that allows finer processing,
There is a photo-etching method.

【0005】このフォトエッチング法は、図4に示すよ
うにセラミック基板1上の全面に、金属箔に接着剤等を
用いて積層、スパッタリング、あるいは金属ペーストの
全面印刷等により配線となる金属層4を形成し、次いで
この金属層4の上に感光性樹脂5を塗布するとともに、
予め回路パターンと同パターン6aが形成されたフォト
マスク6を用いてこの感光性樹脂5を露光、現像し、そ
の後露光、現像された感光性樹脂5を用いて金属層4に
対してエッチングを行うことにより回路パターンを形成
するものである。このフォトエッチング法によれば、よ
り微細な加工が可能となる。
In this photo-etching method, as shown in FIG. 4, a metal layer 4 that will become wiring is formed on the entire surface of a ceramic substrate 1 by laminating metal foil with an adhesive, sputtering, or printing a metal paste over the entire surface. is formed, and then a photosensitive resin 5 is applied on this metal layer 4, and
This photosensitive resin 5 is exposed and developed using a photomask 6 on which the same pattern 6a as the circuit pattern is formed in advance, and then the metal layer 4 is etched using the exposed and developed photosensitive resin 5. By this, a circuit pattern is formed. According to this photoetching method, finer processing becomes possible.

【0006】しかしながらこのフォトエッチング法にお
いては、例えばセラミックス回路基板を製造するにあた
り金を用いる場合が多いが、この金に合うエッチング液
(エッチャント)がなかなかなく、そのうえこの金に合
うエッチャントとレジストとしての感光性樹脂5との組
合せがきわめて難しい。したがって前述の印刷法および
フォトエッチング法では、いずれも近年ますます強く求
められている回路基板の微細加工に必ずしも十分に対応
することができるとは言えない。
However, in this photo-etching method, gold is often used in the production of ceramic circuit boards, for example, but it is difficult to find an etching solution (etchant) that is compatible with this gold, and furthermore, there is a shortage of etchants that are compatible with this gold and resists. Combination with photosensitive resin 5 is extremely difficult. Therefore, it cannot be said that the above-mentioned printing method and photo-etching method are necessarily capable of sufficiently responding to the microfabrication of circuit boards, which has been increasingly demanded in recent years.

【0007】一方、近年、紫外線(Ultra Vio
let:UV)の照射により粘着性を生じる材料を用い
てセラミック基板に回路パターンを形成する回路基板の
形成法の研究開発が進められている(以下フォトタッキ
ー法と呼ぶ)。このフォトタッキー法は、解像度がきわ
めて良好なものである。そこで、このフォトタッキー法
を回路基板の製造に適用することが考えられるが、フォ
トタッキー法を回路基板製造に適用した一例として、例
えば特開昭61−53642号公報に開示されているよ
うな4−(2′−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロ
ピリジン化合物を用いたセラミック回路基板の製造方法
がある。
On the other hand, in recent years, ultraviolet rays (Ultra Vio
Research and development is underway on a circuit board formation method in which a circuit pattern is formed on a ceramic substrate using a material that becomes sticky when irradiated with UV light (hereinafter referred to as the phototacky method). This phototacky method has extremely good resolution. Therefore, it is conceivable to apply this photo-tacky method to the production of circuit boards.As an example of applying the photo-tacky method to the production of circuit boards, for example, There is a method for manufacturing a ceramic circuit board using a -(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine compound.

【0008】図2に示すように、この製造方法は、まず
セラミック基板1上にフォトタッキー材料をコーティン
グしてフォトタッキー層7を形成し、回路パターンと同
じパターン6aが形成されているフォトマスク6を用い
てUV光9により露光する。このフォトタッキー材料は
UV光9照射により粘着性が生じるので、セラミック基
板1上にはUV光9の照射部分に形成される粘着部7a
とUV光9の照射部分に非粘着部7bとの潜像が形成さ
れる。次に、これらの潜像の上に金粉等の金属粉(トナ
ー)8を用いてトナーリングすることにより、現像を行
う。その場合、トナー8が粘着部7aのみに付着し非粘
着部7bには付着しないことにより、回路パターンが現
像される。
As shown in FIG. 2, in this manufacturing method, a phototacky material is first coated on a ceramic substrate 1 to form a phototachy layer 7, and a photomask 6 having a pattern 6a identical to the circuit pattern is formed. Exposure is performed using UV light 9. Since this phototacky material becomes sticky when irradiated with UV light 9, adhesive portions 7a are formed on the ceramic substrate 1 in the areas irradiated with UV light 9.
A latent image of the non-adhesive portion 7b is formed in the portion irradiated with the UV light 9. Next, development is performed by toner-ringing these latent images using metal powder (toner) 8 such as gold powder. In this case, the circuit pattern is developed because the toner 8 adheres only to the adhesive portion 7a and does not adhere to the non-adhesive portion 7b.

【0009】この状態で、セラミック基板1、フォトタ
ッキー層7およびトナー8を例えば250℃以上で焼成
する。この250℃以上の焼成により、トナー8が溶解
するとともに、フォトタッキー層7のUV光9の照射さ
れない非粘着部7bが昇華して、溶解したトナー8の下
に粘着部7aのみが残る。こうして、セラミック基板1
上に、金属の回路パターン10がセラミック基板1と強
固に密着して形成される。
In this state, the ceramic substrate 1, phototachy layer 7, and toner 8 are fired at, for example, 250° C. or higher. By this baking at 250° C. or higher, the toner 8 is dissolved, and the non-adhesive portion 7b of the phototacky layer 7 that is not irradiated with the UV light 9 is sublimated, leaving only the adhesive portion 7a below the melted toner 8. In this way, the ceramic substrate 1
A metal circuit pattern 10 is formed on the ceramic substrate 1 in tight contact with the ceramic substrate 1 .

【0010】0010

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
フォトタッキー法による回路パターンの形成では、上述
の製造工程上、どうしても多孔質でかつ表面が粗い状態
の回路パターンになりやすく、電気伝導度が上述の印刷
法およびフォトエッチング法によって形成された回路パ
ターンより著しく低下してしまうという問題がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, when forming a circuit pattern using the above-mentioned phototacky method, the circuit pattern tends to be porous and have a rough surface due to the above-mentioned manufacturing process, and the electrical conductivity is not as high as above. There is a problem in that the circuit pattern is significantly lower than that formed by the printing method and photoetching method.

【0011】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであって、その目的は、多孔質のあるいは表面の粗
い配線パターンによって電気伝導度が著しく低下するの
を防止して、回路が本来の機能を発揮することのできる
回路基板の製造方法を提供することである。
The present invention was made in view of the above problems, and its purpose is to prevent the electrical conductivity from being significantly reduced due to porous or rough surface wiring patterns, and to maintain the circuit as it originally was. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a circuit board that can exhibit the following functions.

【0012】0012

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明は、焼成工程を経て絶縁性基板上に所
定の回路パターンを形成する回路基板の製造方法におい
て、前記焼成工程後に、前記回路パターンに対してカレ
ンダー工程を行うことを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for manufacturing a circuit board in which a predetermined circuit pattern is formed on an insulating substrate through a firing step, in which a predetermined circuit pattern is formed on an insulating substrate through a firing step. , is characterized in that the circuit pattern is subjected to a calendering process.

【0013】[0013]

【作用】このように構成された本発明の回路基板の製造
方法においては、焼成工程により回路パターン形成した
後にカレンダー工程を経ることにより、回路パターン内
に多く存在する孔が消滅されるとともに、回路パターン
の表面の粗さも滑らかになる。したがって、このように
形成された回路パターンにおいては、良好な電気伝導度
が得られるようになる。
[Operation] In the method for manufacturing a circuit board of the present invention configured as described above, by performing a calendering process after forming a circuit pattern by a baking process, many holes existing in the circuit pattern are eliminated and the circuit pattern is formed. The roughness of the pattern surface is also smoothed out. Therefore, in the circuit pattern formed in this way, good electrical conductivity can be obtained.

【0014】[0014]

【実施例】以下、図面を用いて、本発明の実施例を詳細
に説明する。図1(A),(B)は本発明に係る回路基
板の製造方法の一実施例におけるカレンダー工程を説明
する図であり、同図(C),(D),(E),(F)は
この実施例により回路パターンを形成した場合に回路パ
ターン内の孔が消滅することを説明するものであり、(
C)および(D)はそれぞれ(A)および(B)に対応
する平面図、(E)および(F)はそれぞれ(C)およ
び(D)におけるIEーIE線およびIFーIF線に沿
う断面図である。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIGS. 1(A) and 1(B) are diagrams illustrating a calendering process in an embodiment of the method for manufacturing a circuit board according to the present invention, and FIGS. 1(C), (D), (E), and (F) This explains that the holes in the circuit pattern disappear when the circuit pattern is formed according to this example, and (
C) and (D) are plan views corresponding to (A) and (B), respectively, and (E) and (F) are cross sections along the IE-IE line and IF-IF line in (C) and (D), respectively. It is a diagram.

【0015】本実施例に係る回路基板の製造方法におい
ても、最初は図2に示す(1)ないし(7)の工程と同
様の工程が行われるので、まず図2を用いて本実施例を
説明する。本実施例においては、フォトタッキー材料と
して、10gの2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロ
フェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカ
ルボン酸ジイソプロピルエステルを200cm3のメチ
ルエチルケトンに溶解した溶液を用いる。そして、まず
セラミック基板1の上に、この溶液を膜厚が乾燥後で1
μmとなるように塗布して、フォトタッキー層7を形成
する。
In the method for manufacturing a circuit board according to this embodiment, the steps (1) to (7) shown in FIG. explain. In this example, as a phototacky material, 10 g of 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diisopropyl ester was dissolved in 200 cm3 of methyl ethyl ketone. Use a solution. First, apply this solution on the ceramic substrate 1 until the film thickness is 1 after drying.
The phototachy layer 7 is formed by applying the photoacrylate to a thickness of .mu.m.

【0016】次に、回路パターンと同じパターン6aが
形成されているフォトマスク6を用いて、水銀蒸気ラン
プ(306nm,350mJ/cm2)からなるUV光
8により、セラミック基板1上のフォトタッキー層7に
対して線条露光を行う。この露光により、フォトタッキ
ー層7には回路パターンに対応して粘着部7aと非粘着
部7bとの潜像が形成される。
Next, using a photomask 6 on which the same pattern 6a as the circuit pattern is formed, the phototachy layer 7 on the ceramic substrate 1 is exposed to UV light 8 from a mercury vapor lamp (306 nm, 350 mJ/cm2). Linear exposure is performed on the image. By this exposure, a latent image of the adhesive portion 7a and the non-adhesive portion 7b is formed on the phototacky layer 7 in correspondence with the circuit pattern.

【0017】次いで、この露光されたフォトタッキー層
7に平均粒径5μmの銅粉末からなるトナー8を綿パッ
ドによってトナーリングした後、そのトナー8を除去す
ると、粘着部7aに付着したトナー8のみが残って、回
路パターンの現像が行われる。次にこの状態で、セラミ
ック基板1、フォトタッキー層7およびトナー8を例え
ば250℃以上で焼成する。この250℃以上の焼成に
より、トナー8が溶解するとともに、フォトタッキー層
7のUV光9の照射されない非粘着部7bが昇華して、
溶解したトナー8の下に粘着部7aのみが残る。こうし
て、セラミック基板1上に、銅の回路パターン10がセ
ラミック基板1と強固に密着して形成される。
Next, toner 8 made of copper powder having an average particle size of 5 μm is applied to the exposed phototacky layer 7 using a cotton pad, and when the toner 8 is removed, only the toner 8 attached to the adhesive portion 7a is removed. remains, and the circuit pattern is developed. Next, in this state, the ceramic substrate 1, phototachy layer 7, and toner 8 are fired at, for example, 250° C. or higher. By this baking at 250° C. or higher, the toner 8 is dissolved, and the non-adhesive portion 7b of the phototacky layer 7 that is not irradiated with the UV light 9 is sublimated.
Only the adhesive portion 7a remains below the dissolved toner 8. In this way, the copper circuit pattern 10 is formed on the ceramic substrate 1 in tight contact with the ceramic substrate 1.

【0018】ところで、この状態では従来と同様に回路
パターン10が多孔質のものとなっている。そこで、本
実施例では図2(7)の焼成工程の後に図1(A),(
B)に示すようにカレンダー工程を行う。すなわち、一
対のカレンダーロール11,12により焼成工程終了後
の多孔質の回路パターン10を有するセラミック基板1
に対してカレンダーがけを行う。
By the way, in this state, the circuit pattern 10 is porous as in the conventional case. Therefore, in this example, after the firing step of FIG. 2(7),
A calendering step is carried out as shown in B). That is, the ceramic substrate 1 having the porous circuit pattern 10 after the firing process is completed by the pair of calender rolls 11 and 12.
Make a calendar for

【0019】このようなカレンダー工程を行うことによ
り、回路パターン10の配線部10aに圧力がかかり、
配線部10aが延伸される。その結果、図1(C)に示
すような配線部10a内に多く存在する孔10b,10
b,…が消滅して、同図(D)に示すように配線部10
aが無孔質のものとなるとともに、同図(E)に示すよ
うな配線部10aの粗い表面10cが同図(F)に示す
ように滑らかになる。これにより、回路パターン10は
、回路基板が本来の機能を発揮するために必要とされる
電気伝導度を有するようになる。
By performing such a calendering process, pressure is applied to the wiring portion 10a of the circuit pattern 10,
The wiring portion 10a is extended. As a result, many holes 10b and 10 exist in the wiring part 10a as shown in FIG.
b,... disappear, and the wiring part 10 as shown in FIG.
A becomes non-porous, and the rough surface 10c of the wiring portion 10a as shown in FIG. 10E becomes smooth as shown in FIG. As a result, the circuit pattern 10 has the electrical conductivity required for the circuit board to perform its original function.

【0020】なお、本発明は上述の実施例に限定される
ものではなく、種々の設計変更が可能である。例えばフ
ォトタッキー材料および金属トナーの材料は、上述した
材料以外の材料を用いることができることは言うまでも
ない。また、フォトタッキー法以外の製造方法によって
製造された回路基板であって、配線部が多孔質のもので
あったり、配線部の表面が凹凸のものであったりした場
合にも、このようなカレンダー工程を経ることにより、
同様に無孔質のかつ配線部の表面が滑らかな回路基板を
形成することができる。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various design changes are possible. For example, it goes without saying that materials other than the above-mentioned materials can be used as the phototacky material and the metal toner material. In addition, this type of calendar is also used for circuit boards manufactured by a manufacturing method other than the phototacky method, and when the wiring part is porous or the surface of the wiring part is uneven. By going through the process,
Similarly, it is possible to form a circuit board that is non-porous and has a smooth surface at the wiring portion.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る回路基板の製造方法によれば、所定の電気伝導度
の回路パターンを得ることができる。したがって、回路
基板の本来の機能を正確にかつ十分に発揮することがで
きるようになる。
As is clear from the above description, according to the method of manufacturing a circuit board according to the present invention, a circuit pattern having a predetermined electrical conductivity can be obtained. Therefore, the original function of the circuit board can be accurately and fully performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】(A),(B)は本発明に係る回路基板の製造
方法の一実施例におけるカレンダー工程を説明し、(A
)は回路基板をカレンダーロールに通す前の状態を示す
図、(B)は回路基板をカレンダーロールに通した後の
状態を示す図、(C),(D),(E),(F)はこの
実施例により回路パターンを形成した場合に回路パター
ン内の孔が消滅することを説明するものであり、(C)
および(D)はそれぞれ(A)および(B)に対応する
平面図、(E)および(F)はそれぞれ(C)および(
D)におけるIEーIE線およびIFーIF線に沿う断
面図である。
[Fig. 1] (A) and (B) illustrate a calendering process in an embodiment of the method for manufacturing a circuit board according to the present invention;
) is a diagram showing the state before the circuit board is passed through the calender roll, (B) is a diagram showing the state after the circuit board is passed through the calender roll, (C), (D), (E), (F) (C) explains that the holes in the circuit pattern disappear when the circuit pattern is formed according to this example.
and (D) are plan views corresponding to (A) and (B), respectively, and (E) and (F) are respectively (C) and (
FIG. 4 is a sectional view taken along the IE-IE line and the IF-IF line in D).

【図2】フォトタッキー法によるセラミック回路基板の
製造工程を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating the manufacturing process of a ceramic circuit board by the phototacky method.

【図3】印刷法によるセラミック回路基板の製造工程を
説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a manufacturing process of a ceramic circuit board using a printing method.

【図4】フォトエッチング法によるセラミック回路基板
の製造工程を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a process of manufacturing a ceramic circuit board using a photo-etching method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  焼成工程を経て絶縁性基板上に所定の
回路パターンが形成された回路基板の製造方法において
、前記焼成工程後に、前記回路パターンに対してカレン
ダー工程を行うことを特徴とする回路基板の製造方法。
1. A method for manufacturing a circuit board in which a predetermined circuit pattern is formed on an insulating substrate through a baking process, characterized in that, after the baking process, a calender process is performed on the circuit pattern. Substrate manufacturing method.
【請求項2】  前記絶縁性基板はセラミック基板であ
ることを特徴とする請求項1記載の回路基板の製造方法
2. The method of manufacturing a circuit board according to claim 1, wherein the insulating substrate is a ceramic substrate.
【請求項3】  前記セラミック基板上に、紫外線(U
V)光の照射により粘着性を生じる材料をコーティング
し、このコーティングされた材料から前記回路パターン
が形成されることを特徴とする請求項2記載の回路基板
の製造方法。
3. Ultraviolet (U) radiation is applied onto the ceramic substrate.
3. The method of manufacturing a circuit board according to claim 2, further comprising: V) coating a material that becomes sticky upon irradiation with light, and forming the circuit pattern from the coated material.
JP5906791A 1991-03-22 1991-03-22 Manufacture of circuit substrate Pending JPH04293295A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5906791A JPH04293295A (en) 1991-03-22 1991-03-22 Manufacture of circuit substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5906791A JPH04293295A (en) 1991-03-22 1991-03-22 Manufacture of circuit substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04293295A true JPH04293295A (en) 1992-10-16

Family

ID=13102637

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5906791A Pending JPH04293295A (en) 1991-03-22 1991-03-22 Manufacture of circuit substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04293295A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101009210B1 (en) * 2008-10-08 2011-01-19 삼성전기주식회사 Apparatus for calendering pattern part of substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101009210B1 (en) * 2008-10-08 2011-01-19 삼성전기주식회사 Apparatus for calendering pattern part of substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006156547A (en) Wiring circuit board and manufacturing method thereof
JP3031042B2 (en) Printed wiring board for surface mounting
JPH04293295A (en) Manufacture of circuit substrate
CN113873771A (en) Manufacturing process suitable for ultra-fine FPC (flexible printed circuit) circuit
JPS6337694A (en) Manufacture of circuit board
JP2002076575A (en) Method of manufacturing substrate for semiconductor device
JPH04146684A (en) Circuit board and manufacture thereof
JP2004344768A (en) Roll coater and method of manufacturing package substrate using the same
JP2000013004A (en) Manufacture of printed wiring board
JP3010822B2 (en) Manufacturing method of printed wiring board
JPH0514542Y2 (en)
JP2900639B2 (en) Manufacturing method of printed wiring board
KR100919413B1 (en) Substrate with buried pattern and manufacturing method thereof
JP2003304060A (en) Method of manufacturing double-sided circuit board
JPH10270826A (en) Manufacture of printed wiring board
JP3019502B2 (en) Printed wiring board and its manufacturing method
JPS63216398A (en) Manufacture of circuit board
JPS6155796B2 (en)
JPH04258194A (en) Printed wiring board and manufacture thereof
JP2002223059A (en) Method for forming fine pattern
JP2500659B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
JP2755019B2 (en) Method for manufacturing multilayer wiring board
JPS5986292A (en) Method of producing ceramic multilayer circuit board
JPS6334937A (en) Manufacture of film carrier
JPS62171194A (en) Matrix wiring board