JPH04292433A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
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- JPH04292433A JPH04292433A JP6236791A JP6236791A JPH04292433A JP H04292433 A JPH04292433 A JP H04292433A JP 6236791 A JP6236791 A JP 6236791A JP 6236791 A JP6236791 A JP 6236791A JP H04292433 A JPH04292433 A JP H04292433A
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 53
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
-
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- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、外付け法による光フ
ァイバ母材の製造方法、特にコア用ロッドの周りに形成
されたクラッドとなるＳｉＯ２ 微粒子体へのフッ素の
ドープ方法に関するものである。
ァイバ母材の製造方法、特にコア用ロッドの周りに形成
されたクラッドとなるＳｉＯ２ 微粒子体へのフッ素の
ドープ方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】コア用ガラスロッドの周りに外付け法に
よってＳｉＯ２ からなるガラス微粒子体を堆積させ、
このガラス微粒子体をＳｉを含むフッ素系ガス雰囲気で
透明ガラス化してフッ素がドープされた相対的に低屈折
率のクラッド層を形成して光ファイバ母材とする方法が
ある。
よってＳｉＯ２ からなるガラス微粒子体を堆積させ、
このガラス微粒子体をＳｉを含むフッ素系ガス雰囲気で
透明ガラス化してフッ素がドープされた相対的に低屈折
率のクラッド層を形成して光ファイバ母材とする方法が
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フッ素
系ガスとしてＳｉＦ４ が用いられることが多く、分解
したＳｉがフツ素とともにＳｉＯ２内に取込まれ、これ
が母材の密度、組成に微妙な変化を与えレイリー散乱の
原因となっていた。このため、ＳＦ６ などのＳｉを含
まないガスを用いてフッ素のドーピングを行うことが考
えられるが、ＳＦ６ では、２ＳＦ６ ＋３ＳｉＯ２
→３ＳｉＦ４ ＋２ＳＯ２ ＋（１／２）Ｏ２ という
反応をするため、マッフルのエッチングという新たな問
題がある。
系ガスとしてＳｉＦ４ が用いられることが多く、分解
したＳｉがフツ素とともにＳｉＯ２内に取込まれ、これ
が母材の密度、組成に微妙な変化を与えレイリー散乱の
原因となっていた。このため、ＳＦ６ などのＳｉを含
まないガスを用いてフッ素のドーピングを行うことが考
えられるが、ＳＦ６ では、２ＳＦ６ ＋３ＳｉＯ２
→３ＳｉＦ４ ＋２ＳＯ２ ＋（１／２）Ｏ２ という
反応をするため、マッフルのエッチングという新たな問
題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
からガラス微粒子体へのドーピング用ガスとしてＳｉを
含むフッ素系ガスを用いても、光ファイバ母材内にＳｉ
が混入するのを阻止する方法を提供するもので、その特
徴とする請求項１記載の発明は、コアとなるガラスロッ
ドの周りにＳｉＯ２ からなるガラス微粒子体を形成し
、このガラス微粒子体をＳｉを含むフッ素系ガス雰囲気
で透明ガラス化して、フッ素ドープＳｉＯ２ クラッド
とする光ファイバ母材の製造方法において、予めＳｉを
含むフッ素系ガスをＯ２ と反応させることにある。
からガラス微粒子体へのドーピング用ガスとしてＳｉを
含むフッ素系ガスを用いても、光ファイバ母材内にＳｉ
が混入するのを阻止する方法を提供するもので、その特
徴とする請求項１記載の発明は、コアとなるガラスロッ
ドの周りにＳｉＯ２ からなるガラス微粒子体を形成し
、このガラス微粒子体をＳｉを含むフッ素系ガス雰囲気
で透明ガラス化して、フッ素ドープＳｉＯ２ クラッド
とする光ファイバ母材の製造方法において、予めＳｉを
含むフッ素系ガスをＯ２ と反応させることにある。
【０００５】なお、反応を促進させる熱としては、ガラ
ス微粒子体を透明ガラス化するためのもを利用すると好
都合である。
ス微粒子体を透明ガラス化するためのもを利用すると好
都合である。
【０００６】
【作用】供給されたＯ２ は、分解したＳｉと反応して
ＳｉＯ２ となり、その一部は母材表面に付着すること
があってもその内部まで入ることはなく、フッ素だけが
ガラス微粒子体中に拡散する。
ＳｉＯ２ となり、その一部は母材表面に付着すること
があってもその内部まで入ることはなく、フッ素だけが
ガラス微粒子体中に拡散する。
【０００７】
【実施例】図１は、この発明の透明ガラス化工程に用い
られる装置の概略断面図である。１は直径９ｍｍのＳｉ
Ｏ２ からなるコア用ロッド１０の周りに外付け法によ
って１１０〜１２２ｍｍ厚さに形成された、かさ密度が
０．２０〜０．２２ｇ／ｃｃのＳｉＯ２ ガラス微粒子
体１２を有する光ファイバ母材の元になるロッド、２は
その内部にロッド１が導かれる石英マッフル、３はこの
石英マッフル下部に形成された開口でＨｅガスが供給さ
れる。４は石英マッフル２の上側壁に開けられた開口（
符号なし）から挿通されてその管壁に添って下方に向か
い後述するヒータの位置を越えて延びる石英管で、Ｓｉ
を含むフッ素系ガスとともにＯ２ が供給される。５は
石英マッフル２を囲むヒータである。
られる装置の概略断面図である。１は直径９ｍｍのＳｉ
Ｏ２ からなるコア用ロッド１０の周りに外付け法によ
って１１０〜１２２ｍｍ厚さに形成された、かさ密度が
０．２０〜０．２２ｇ／ｃｃのＳｉＯ２ ガラス微粒子
体１２を有する光ファイバ母材の元になるロッド、２は
その内部にロッド１が導かれる石英マッフル、３はこの
石英マッフル下部に形成された開口でＨｅガスが供給さ
れる。４は石英マッフル２の上側壁に開けられた開口（
符号なし）から挿通されてその管壁に添って下方に向か
い後述するヒータの位置を越えて延びる石英管で、Ｓｉ
を含むフッ素系ガスとともにＯ２ が供給される。５は
石英マッフル２を囲むヒータである。
【０００８】石英管４内に供給された、Ｓｉを含むフッ
素系ガス、例えばＳｉＦ４ とＯ２ は石英マッフル２
の側壁に添った石英管４内を通過するが、そのときＳｉ
Ｆ４ はヒータ５の熱によりＳｉとＦとに分解され、Ｓ
ｉはＯ２ と反応してＳｉＯ２ を形成し、その大部分
は石英管４内壁に付着する。したがって、石英マッフル
２内にはＳｉが除かれたＦのみが供給され、このＦはＳ
ｉＯ２ ガラス微粒子体１２内に拡散されてフッ素ドー
プＳｉＯ２ クラッドを形成する。
素系ガス、例えばＳｉＦ４ とＯ２ は石英マッフル２
の側壁に添った石英管４内を通過するが、そのときＳｉ
Ｆ４ はヒータ５の熱によりＳｉとＦとに分解され、Ｓ
ｉはＯ２ と反応してＳｉＯ２ を形成し、その大部分
は石英管４内壁に付着する。したがって、石英マッフル
２内にはＳｉが除かれたＦのみが供給され、このＦはＳ
ｉＯ２ ガラス微粒子体１２内に拡散されてフッ素ドー
プＳｉＯ２ クラッドを形成する。
【０００９】（具体例）光ファイバ母材の元になるロッ
ド１を、その軸の周りに５ｒｐｍで回転させつつ、３０
０ｍ／分の速度で石英マッフル２内に上方から導入した
。石英マッフル２内には開口３からＨｅガスを６リット
ル、石英管４を介してＳｉＦ４ ０．７リットル、Ｏ２
０．７リットルを供給した。また、ヒータ５による石
英マッフル２内の最高温度を１３００℃とした。
ド１を、その軸の周りに５ｒｐｍで回転させつつ、３０
０ｍ／分の速度で石英マッフル２内に上方から導入した
。石英マッフル２内には開口３からＨｅガスを６リット
ル、石英管４を介してＳｉＦ４ ０．７リットル、Ｏ２
０．７リットルを供給した。また、ヒータ５による石
英マッフル２内の最高温度を１３００℃とした。
【００１０】こうして直径９ｍｍのＳｉＯ２ コア用ロ
ッドの周りに１１５ｍｍ厚さのクラッド用フッ素ドープ
ＳｉＯ２ 層を有する光ファイバ母材を得、これを線引
きし直径１２５μｍの光ファイバとし、その上にＵＶ樹
脂をコーテイングした。この光ファイバの波長１．５５
μｍでの伝送損失は０．２０ｄＢ／ｋｍであり、従来の
それが平均０．２２ｄＢ／ｋｍであるのに比較して優れ
たものであった。これは、フッ素含有ガスとして用いら
れるＳｉＦ４のＳｉによる影響を除いたためと考えられ
る。
ッドの周りに１１５ｍｍ厚さのクラッド用フッ素ドープ
ＳｉＯ２ 層を有する光ファイバ母材を得、これを線引
きし直径１２５μｍの光ファイバとし、その上にＵＶ樹
脂をコーテイングした。この光ファイバの波長１．５５
μｍでの伝送損失は０．２０ｄＢ／ｋｍであり、従来の
それが平均０．２２ｄＢ／ｋｍであるのに比較して優れ
たものであった。これは、フッ素含有ガスとして用いら
れるＳｉＦ４のＳｉによる影響を除いたためと考えられ
る。
【００１１】
【発明の効果】以上のように、この発明方法によればＳ
ｉＯ２ 微粒子体内にその透明ガラス化時にフッ素をド
ープしてクラッドとするにあたって、Ｓｉを含むフッ素
系ガス中のＳｉがクラッド内に混入するのを防止しうる
ので、得られる光ファイバはレイリー散乱の小さなもの
となり伝送損失特性の優れたものが得られる。
ｉＯ２ 微粒子体内にその透明ガラス化時にフッ素をド
ープしてクラッドとするにあたって、Ｓｉを含むフッ素
系ガス中のＳｉがクラッド内に混入するのを防止しうる
ので、得られる光ファイバはレイリー散乱の小さなもの
となり伝送損失特性の優れたものが得られる。
【図１】この発明方法を実施するための装置の概略図で
ある。
ある。
１ 光ファイバ母材の元になるロッド２ 石英マッ
フル ３ 石英マッフルの下部開口 ４ 石英管 ５ ヒータ １０ コア用ロッド １２ ＳｉＯ２ ガラス微粒子体
フル ３ 石英マッフルの下部開口 ４ 石英管 ５ ヒータ １０ コア用ロッド １２ ＳｉＯ２ ガラス微粒子体
Claims (2)
- 【請求項１】 コアとなるガラスロツドの周りにＳｉ
Ｏ２ からなるガラス微粒子体を形成し、このガラス微
粒子体をＳｉを含むフッ素系ガス雰囲気で透明ガラス化
して、フッ素ドープＳｉＯ２ クラッドとする光ファイ
バ母材の製造方法において、予めＳｉを含むフッ素系ガ
スをＯ２ と反応させることを特徴とする光ファイバ母
材の製造方法。 - 【請求項２】 Ｓｉを含むフッ素系ガスのＯ２ との
反応を透明ガラス化の熱を利用して行うことを特徴とす
る光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6236791A JPH04292433A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6236791A JPH04292433A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04292433A true JPH04292433A (ja) | 1992-10-16 |
Family
ID=13198078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6236791A Pending JPH04292433A (ja) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04292433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103663958A (zh) * | 2013-09-24 | 2014-03-26 | 江苏通鼎光电股份有限公司 | 一种制备低水峰光纤预制棒的方法 |
| IT201800009920A1 (it) | 2018-10-30 | 2020-04-30 | Prysmian Spa | Metodo per fabbricare una preforma di vetro per fibre ottiche |
-
1991
- 1991-03-05 JP JP6236791A patent/JPH04292433A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103663958A (zh) * | 2013-09-24 | 2014-03-26 | 江苏通鼎光电股份有限公司 | 一种制备低水峰光纤预制棒的方法 |
| IT201800009920A1 (it) | 2018-10-30 | 2020-04-30 | Prysmian Spa | Metodo per fabbricare una preforma di vetro per fibre ottiche |
| US11186515B2 (en) | 2018-10-30 | 2021-11-30 | Prysmian S.P.A. | Method for manufacturing a glass preform for optical fibers |
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