JPH04280991A - Local plating device - Google Patents

Local plating device

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Publication number
JPH04280991A
JPH04280991A JP4342891A JP4342891A JPH04280991A JP H04280991 A JPH04280991 A JP H04280991A JP 4342891 A JP4342891 A JP 4342891A JP 4342891 A JP4342891 A JP 4342891A JP H04280991 A JPH04280991 A JP H04280991A
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JP
Japan
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plating
laser
jet
nozzle
plated
Prior art date
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Pending
Application number
JP4342891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Morita
毅 森田
Minoru Fujita
実 藤田
Masatoshi Sunamoto
昌利 砂本
Osamu Hayashi
修 林
Susumu Hoshinouchi
星之内 進
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4342891A priority Critical patent/JPH04280991A/en
Priority to US07/845,950 priority patent/US5292418A/en
Priority to GB9204936A priority patent/GB2253413B/en
Priority to DE4207197A priority patent/DE4207197C2/en
Publication of JPH04280991A publication Critical patent/JPH04280991A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To form a bump for connecting the inner lead of TAB and a semiconductor chip with high quality and precision. CONSTITUTION:A fiber 12 is introduced into a nozzle 11 for forming the jet 4a of a plating soln. 4, and the part to be plated is directly irradiated with a laser beam 9 from the selected part of the fiber 12 without totally reflecting the beam in the jet 4a.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】請求項1ないし請求項4に係る発
明は、例えばTAB(Tape Automated 
Bonding)のインナーリードと半導体チップとを
接続するためのバンプなど、接点や電極を電子機器部品
の一部にめっきして形成するための局部めっき装置に関
するものである。
[Industrial Application Field] The inventions according to claims 1 to 4 are, for example, TAB (Tape Automated
The present invention relates to a local plating device for plating and forming contacts and electrodes on parts of electronic equipment components, such as bumps for connecting inner leads of bonding and semiconductor chips.

【0002】0002

【従来の技術】図5は例えば特公昭60−45278号
公報に示された従来の電気端子の局部めっき方法を示す
断面図である。図において、陰極1の表面には、電気端
子などの被めっき材2が設けられている。この被めっき
材2の周囲にはマスク3が設けられている。また、めっ
き液の噴流4aを形成するノズル5が、被めっき材2に
対向して設けられている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 is a sectional view showing a conventional local plating method for electrical terminals, which is disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 60-45278. In the figure, a material to be plated 2 such as an electrical terminal is provided on the surface of a cathode 1. A mask 3 is provided around the material 2 to be plated. Further, a nozzle 5 that forms a jet stream 4a of plating solution is provided facing the material to be plated 2.

【0003】このような従来の噴流式の局部めっき方法
においては、陰極1と図示しない陽極との間に電圧を印
加して、めっきを行う箇所にめっき液の噴流4aを吹き
出させていた。この方法により、被めっき材2ごとにマ
スキングすることなく、高速で局部めっきを行うことが
可能となった。
In such a conventional jet-type local plating method, a voltage is applied between the cathode 1 and an anode (not shown) to blow out a jet 4a of plating solution onto the area to be plated. With this method, it became possible to perform local plating at high speed without masking each material 2 to be plated.

【0004】次に、噴流式めっき法を改善するためにな
された従来のレーザ援用ジェットめっき法(Laser
−Enhanced Jet Plating)につい
て説明する。図6は例えば『エレクトロケミカル・サイ
エンス・アンド・テクノロジー』(J.Electro
chem.Soc: “Electrochemica
l Science And Technology”
, Vol.132)1985年11月、第2575頁
〜第2581頁に示された従来のレーザ援用ジェットめ
っき法を示す断面図である。図において、ノズル5を有
するめっき槽6は、レーザ9を透過する石英で構成され
ている。めっき槽6内には、陽極7が設けられている。 また、めっき槽6には、エアブレンダ6a及びめっき液
送液口6bが設けられている。めっき槽6の外部には、
レンズ8が設けられており、このレンズ8によりめっき
液4のノズル5近傍でレーザ9の焦点が結ばれるように
なっている。
Next, the conventional laser-assisted jet plating method was developed to improve the jet plating method.
-Enhanced Jet Plating) will be explained. Figure 6, for example, is from ``Electrochemical Science and Technology'' (J.Electro
chem. Soc: “Electrochemica
lScience And Technology”
, Vol. 132) It is a sectional view showing the conventional laser-assisted jet plating method shown in November 1985, pages 2575 to 2581. In the figure, a plating bath 6 having a nozzle 5 is made of quartz through which a laser 9 passes. An anode 7 is provided within the plating tank 6. Furthermore, the plating tank 6 is provided with an air blender 6a and a plating solution feeding port 6b. Outside the plating tank 6,
A lens 8 is provided, and the lens 8 focuses the laser 9 near the nozzle 5 of the plating solution 4.

【0005】この方法では、陽極7と陰極1との間に電
圧を印加して、めっき部にめっき液4の噴流4aを吹き
出させるとともに、レーザ9をレンズ8によりめっき液
4内に集束させている。めっき液4とその周囲の大気と
の屈折率の差によって、照射されたレーザ9は、噴流4
a内で全反射しながら被めっき材2のめっきされる箇所
に到達する。レーザ9が照射された被めっき材2は部分
的に高温になるため、めっき速度が増大するとともに、
緻密なめっき被膜が得られる。
In this method, a voltage is applied between the anode 7 and the cathode 1 to blow out a jet 4a of the plating solution 4 onto the plating area, and a laser 9 is focused into the plating solution 4 by a lens 8. There is. Due to the difference in refractive index between the plating solution 4 and the surrounding atmosphere, the irradiated laser 9 is
It reaches the part of the material to be plated 2 to be plated while being totally reflected within a. The plated material 2 irradiated with the laser 9 becomes partially hot, so the plating speed increases and
A dense plating film can be obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記のようなレーザを
用いない従来の噴流式めっき法では、粒状のめっき被膜
になりやすく、めっき被膜と被めっき材2との間の界面
でクラックを発生する場合があるなどの問題点があった
。また、上記のようなレーザ援用ジェットめっき法では
、噴流4aが乱れるとレーザ9が噴流4a内で全反射し
なくなり、めっき部に到達するレーザ出力に変動が生じ
、その結果めっき品質にばらつきが生じるという問題点
があった。
[Problem to be solved by the invention] In the conventional jet plating method that does not use a laser as described above, the plating film tends to be granular, and cracks occur at the interface between the plating film and the material to be plated 2. There were some problems, such as: In addition, in the laser-assisted jet plating method as described above, when the jet 4a is disturbed, the laser 9 is no longer totally reflected within the jet 4a, causing fluctuations in the laser output that reaches the plating area, resulting in variations in plating quality. There was a problem.

【0007】請求項1ないし請求項4に係る発明は、上
記のような問題点を解決することを課題としてなされた
ものであり、めっき部に到達するレーザ出力を安定させ
、めっき品質を均一にすることができる局部めっき装置
を得ることを目的とする。
The inventions according to claims 1 to 4 have been made with the aim of solving the above-mentioned problems, and are aimed at stabilizing the laser output reaching the plating part and making the plating quality uniform. The purpose is to obtain a local plating device that can perform the following steps.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の局
部めっき装置は、めっき液の噴流を形成するためのノズ
ルの内部に、めっき部に対してレーザを直接照射するた
めのファイバを導入したものである。請求項2に係る発
明の局部めっき装置は、めっき部に対してレーザを直接
照射するためのファイバを、めっき液の噴流を形成する
ためのノズルの外部にノズルとは別個に設けたものであ
る。請求項3に係る発明の局部めっき装置は、めっき液
噴流を形成するためのノズルとして、レーザを透過する
材料からなるレーザ透過ノズルを用い、このレーザ透過
ノズルを通してめっき部にレーザを直接照射するように
したものである。請求項4に係る発明の局部めっき装置
は、レーザを透過する材料からなっており、レーザを内
部で全反射させて伝送してめっき部に対して直接照射す
るためのレーザ透過マスクを、被めっき材のめっき部の
周囲に設けたものである。
[Means for Solving the Problems] The local plating device of the invention according to claim 1 introduces a fiber for directly irradiating a laser beam onto a plating area inside a nozzle for forming a jet of plating solution. This is what I did. The local plating device of the invention according to claim 2 is one in which a fiber for directly irradiating the plating portion with a laser is provided outside the nozzle and separately from the nozzle for forming a jet of plating solution. . The local plating apparatus of the invention according to claim 3 uses a laser transmission nozzle made of a material that transmits the laser as a nozzle for forming a plating solution jet, and directly irradiates the plating portion with the laser through the laser transmission nozzle. This is what I did. The local plating device of the invention according to claim 4 is made of a material that transmits the laser, and the laser transmission mask is used to completely reflect the laser internally and transmit it to directly irradiate the plating area. It is installed around the plated part of the material.

【0009】[0009]

【作用】請求項1に係る発明においては、ノズル内に導
入されたファイバの先端部から、めっき液の噴流内で全
反射させることなく、めっき部にレーザを直接照射する
。請求項2に係る発明においては、ノズル外に別個に設
けられたファイバの先端部から、めっき液の噴流内で全
反射させることなく、めっき部にレーザを直接照射する
。請求項3に係る発明においては、レーザ透過ノズルの
壁部内で全反射させてレーザを伝送し、そのレーザ透過
ノズルの端部から、めっき液の噴流内で全反射させるこ
となく、めっき部にレーザを直接照射する。請求項4に
係る発明においては、レーザ透過マスク内で全反射させ
てレーザを伝送し、そのレーザ透過マスクの端部から、
めっき液の噴流内で全反射させることなく、めっき部に
レーザを直接照射する。
In the invention according to claim 1, the laser is directly irradiated onto the plating portion from the tip of the fiber introduced into the nozzle without being totally reflected within the jet of plating solution. In the invention according to claim 2, the laser is directly irradiated onto the plating portion from the tip of the fiber provided separately outside the nozzle without causing total reflection within the jet of the plating solution. In the invention according to claim 3, the laser is transmitted through total reflection within the wall of the laser transmission nozzle, and the laser is transmitted from the end of the laser transmission nozzle to the plating portion without being totally reflected within the jet of the plating solution. irradiate directly. In the invention according to claim 4, the laser is transmitted by total reflection within the laser transmission mask, and from the end of the laser transmission mask,
Laser is directly irradiated onto the plating area without total reflection within the jet of plating solution.

【0010】0010

【実施例】以下、請求項1に係る発明の実施例を図につ
いて説明する。図1は請求項1に係る発明の一実施例(
第1実施例)による局部めっき装置を示す構成図であり
、図6と同一又は相当部分には同一符号を付し、その説
明を省略する。図において、被めっき材2に対向して設
けられたノズル11には、ファイバ導入口11aが設け
られている。このファイバ導入口11aを通して、ノズ
ル11内にはファイバ12が導入されている。このファ
イバ12の先端部は、ノズル11の先端部に位置してい
る。また、ファイバ12の基端部は、レーザ入射光学系
13を介してレーザ発振器14に接続されている。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the invention according to claim 1 will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of the invention according to claim 1 (
7 is a configuration diagram showing a local plating apparatus according to the first embodiment, in which the same or equivalent parts as in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and the explanation thereof will be omitted. In the figure, a nozzle 11 provided facing the material to be plated 2 is provided with a fiber introduction port 11a. A fiber 12 is introduced into the nozzle 11 through this fiber introduction port 11a. The tip of this fiber 12 is located at the tip of the nozzle 11. Further, the base end of the fiber 12 is connected to a laser oscillator 14 via a laser input optical system 13.

【0011】上記のように構成された局部めっき装置に
おいては、噴流4aに電流が流れるように、陰極1と陽
極(図示せず)との間に電圧が印加され、めっき液4が
ノズル11の先端部から被めっき材2のめっき部に噴射
される。また、レーザ発振器14で発振されたレーザ9
は、ファイバ12内で全反射するように、レーザ入射光
学系13によりファイバ12に入射される。入射された
レーザ9は、ファイバ12内を伝送され、めっき液4の
噴射と同時に或は任意の時間遅れをもって、又は間欠的
にめっきされる箇所、即ちめっき部に照射される。これ
により、めっき速度が増大するとともに、緻密なめっき
被膜が得られる。また、この局部めっき装置では、噴流
4a内でレーザ9を全反射させる必要がなく、ファイバ
12の先端部からめっきされる箇所にレーザ9が直接照
射されるので、噴流4aが乱れた場合にも、めっき部に
到達するレーザ9の出力は常に安定し、従ってめっき品
質のばらつきが抑えられる。
In the local plating apparatus configured as described above, a voltage is applied between the cathode 1 and the anode (not shown) so that a current flows through the jet 4a, and the plating solution 4 flows through the nozzle 11. It is sprayed from the tip onto the plating portion of the material to be plated 2. In addition, the laser 9 oscillated by the laser oscillator 14
is input into the fiber 12 by the laser input optical system 13 so as to be totally reflected within the fiber 12. The incident laser beam 9 is transmitted through the fiber 12 and is irradiated onto a portion to be plated, that is, a plating portion, simultaneously with the injection of the plating solution 4, with an arbitrary time delay, or intermittently. This increases the plating speed and provides a dense plating film. In addition, in this local plating device, there is no need to totally reflect the laser 9 within the jet 4a, and the laser 9 is directly irradiated from the tip of the fiber 12 to the area to be plated, so even if the jet 4a is disturbed, The output of the laser 9 that reaches the plating portion is always stable, so variations in plating quality are suppressed.

【0012】上記実施例において用いたレーザ9は、Y
AGレーザの基本波,第2高調波及びアルゴンイオンレ
ーザであり、発振出力は20Wないし40Wであった。 また、発振時間は、連続波で1秒ないし2秒、パルス波
で2秒ないし3秒であった。めっき液4としては、シア
ン系の金めっき液を用い、金含有量が12g/lであっ
た。めっきの電流密度は、8A/cm2ないし15A/
cm2であった。ノズル11の先端部と被めっき材2と
の間の間隔は1mmないし5mmであったが、ファイバ
12から照射されるレーザ9は発散角度を有しているた
め、間隔が狭い方が小さな径のめっき金属部15を形成
することができた。例えば、上記間隔が1mmのときに
は、めっき金属部15の直径が1.03mm、めっき金
属部15の厚さは15μmないし35μmとなった。
The laser 9 used in the above embodiment is Y
It was an AG laser fundamental wave, second harmonic, and argon ion laser, and the oscillation output was 20W to 40W. Further, the oscillation time was 1 to 2 seconds for continuous waves and 2 to 3 seconds for pulsed waves. As plating solution 4, a cyan-based gold plating solution was used, and the gold content was 12 g/l. The current density of plating is 8A/cm2 to 15A/cm2.
It was cm2. The distance between the tip of the nozzle 11 and the material to be plated 2 was 1 mm to 5 mm, but since the laser 9 irradiated from the fiber 12 has a divergence angle, the narrower the distance, the smaller the diameter. The plated metal portion 15 could be formed. For example, when the above-mentioned interval was 1 mm, the diameter of the plated metal portion 15 was 1.03 mm, and the thickness of the plated metal portion 15 was 15 μm to 35 μm.

【0013】なお、上記実施例ではファイバ12をノズ
ル11の中心に配置しており、かつノズル11の先端部
を絞り込むことによって、めっき液4の流れを噴流4a
の中心方向にも向けさせ、中抜けのない噴流4aを実現
している。従って、ファイバ12の配置位置によってノ
ズル11の形状を変更する必要があるのは言うまでもな
い。
In the above embodiment, the fiber 12 is arranged at the center of the nozzle 11, and by constricting the tip of the nozzle 11, the flow of the plating solution 4 is made into a jet 4a.
The jet stream 4a is also directed toward the center of the jet stream 4a, thereby realizing a jet stream 4a without hollow holes. Therefore, it goes without saying that the shape of the nozzle 11 needs to be changed depending on the location of the fiber 12.

【0014】次に、請求項2に係る発明の実施例を図に
ついて説明する。図2は請求項2に係る発明の一実施例
(第2実施例)による局部めっき装置を示す構成図であ
る。図において、レーザ9を伝達してめっき部に照射す
るファイバ12は、その先端部がめっき部に直角に対向
している。ファイバ12の近傍には、それぞれめっき部
に対してめっき液4の噴流4aを吹き付ける第1及び第
2のノズル21,22が、ファイバ12を挟むように配
置されている。第1及び第2のノズル21,22の先端
部は、それぞれめっき部に所定の角度で対向している。 また、ファイバ12及び各ノズル21,22には、それ
ぞれを独立して移動させるための可動機構(図示せず)
が設けられている。
Next, an embodiment of the invention according to claim 2 will be explained with reference to the drawings. FIG. 2 is a configuration diagram showing a local plating apparatus according to an embodiment (second embodiment) of the invention according to claim 2. In the figure, a fiber 12 that transmits the laser beam 9 and irradiates the plated portion has its tip facing the plated portion at right angles. In the vicinity of the fiber 12, first and second nozzles 21 and 22, each of which sprays a jet stream 4a of the plating solution 4 onto the plating portion, are arranged so as to sandwich the fiber 12 therebetween. The tips of the first and second nozzles 21 and 22 each face the plating portion at a predetermined angle. Further, the fiber 12 and each nozzle 21, 22 are provided with a movable mechanism (not shown) for independently moving each nozzle.
is provided.

【0015】このような局部めっき装置においては、噴
流4aに電流が流れるように、陰極1と陽極(図示せず
)との間に電圧が印加され、めっき液4が各ノズル21
,22の先端部から被めっき材2のめっき部に噴射され
る。これとともに、ファイバ12の先端部からレーザ9
がめっき部に直接照射される。このときのレーザ9の種
類,照射方法,発振出力及び発振時間等は、第1実施例
と同様である。また、めっき液4の種類やめっきの電流
密度についても第1実施例と同様である。この実施例の
局部めっき装置でも、めっき部にレーザ9が直接照射さ
れるので、図1のものと同様の効果が得られる。また、
ファイバ12及び各ノズル21,22を独立して移動さ
せることにより、めっき噴流条件とレーザ9のパワー密
度条件とを簡単に独立して制御できる。
In such a local plating apparatus, a voltage is applied between the cathode 1 and the anode (not shown) so that a current flows through the jet stream 4a, and the plating solution 4 is supplied to each nozzle 21.
, 22 onto the plating portion of the material to be plated 2. At the same time, the laser 9 is emitted from the tip of the fiber 12.
is irradiated directly onto the plating area. The type of laser 9, irradiation method, oscillation output, oscillation time, etc. at this time are the same as in the first embodiment. Further, the type of plating solution 4 and the current density for plating are also the same as in the first embodiment. Also in the local plating apparatus of this embodiment, since the laser 9 is directly irradiated onto the plating area, the same effect as that in FIG. 1 can be obtained. Also,
By moving the fiber 12 and each nozzle 21, 22 independently, the plating jet conditions and the power density conditions of the laser 9 can be easily and independently controlled.

【0016】次に、請求項3に係る発明の実施例を図に
ついて説明する。図3は請求項3に係る発明の一実施例
(第3実施例)による局部めっき装置を示す構成図であ
る。図において、めっき液4を送液するための送液筒2
3の先端部には、めっき部に対してめっき液4の噴流4
aを吹き付けるためのレーザ透過ノズル24が接続され
ている。送液筒23は、レーザ発振器14で発振される
レーザ9の波長に対して非透過性の材料、例えば焼結ア
ルミナからなっている。また、レーザ透過ノズル24は
、レーザ9を透過する材料、例えば溶融石英からなって
おり、その入射端面24a及び出射端面24bは、それ
ぞれレーザ9に対して光学的に平滑に加工されている。 さらに、レーザ透過ノズル24の内周面には、レーザ9
の伝送効率を高めるために金めっきを施してもよい。さ
らにまた、出射端面24bは、レーザ9が一点に集中す
るように絞り込まれている。
Next, an embodiment of the invention according to claim 3 will be explained with reference to the drawings. FIG. 3 is a configuration diagram showing a local plating apparatus according to an embodiment (third embodiment) of the invention according to claim 3. In the figure, a liquid feeding tube 2 for feeding plating solution 4 is shown.
At the tip of 3, a jet 4 of plating solution 4 is applied to the plating part.
A laser transmission nozzle 24 for spraying a is connected. The liquid sending tube 23 is made of a material that is opaque to the wavelength of the laser 9 emitted by the laser oscillator 14, such as sintered alumina. Further, the laser transmission nozzle 24 is made of a material that transmits the laser 9, such as fused silica, and its entrance end face 24a and exit end face 24b are each processed to be optically smooth with respect to the laser 9. Furthermore, a laser beam 9 is provided on the inner peripheral surface of the laser transmission nozzle 24.
Gold plating may be applied to increase the transmission efficiency. Furthermore, the emission end face 24b is narrowed down so that the laser beam 9 is concentrated at one point.

【0017】上記のように構成された局部めっき装置に
おいては、噴流4aに対する電圧の印加方法,噴流4a
の噴射方法,レーザ9の種類、めっき液4の種類及びめ
っきの電流密度などは、第1実施例と同様である。レー
ザ発振器14で発振されたレーザ9は、レーザ入射光学
系13によって、レーザ透過ノズル24の端面の一部に
設けられた入射端面24aからレーザ透過ノズル24内
に入射される。入射されたレーザ9は、レーザ透過ノズ
ル24の壁部内を全反射しながら伝送され、もう一方の
端面である出射端面24bから出射される。
In the local plating apparatus configured as described above, the method of applying voltage to the jet 4a, the method of applying voltage to the jet 4a,
The injection method, the type of laser 9, the type of plating solution 4, the plating current density, etc. are the same as in the first embodiment. The laser 9 oscillated by the laser oscillator 14 is incident into the laser transmission nozzle 24 from an entrance end face 24 a provided on a part of the end face of the laser transmission nozzle 24 by the laser entrance optical system 13 . The incident laser beam 9 is transmitted while being totally reflected within the wall of the laser transmission nozzle 24, and is emitted from the other end surface, the output end surface 24b.

【0018】この実施例の局部めっき装置では、レーザ
9はレーザ透過ノズル24の壁部内を伝送され、めっき
液4内で全反射することなく、めっき部に直接照射され
るので、図1のものと同様の効果が得られる。なお、上
記第3実施例の場合、ファイバを用いるよりもレーザ9
の伝送効率がやや低いため、第1実施例に比較してレー
ザ発振出力或はレーザ発振時間を20%〜30%増加さ
せる必要があった。
In the local plating apparatus of this embodiment, the laser beam 9 is transmitted through the wall of the laser transmission nozzle 24 and directly irradiates the plating area without being totally reflected within the plating solution 4. The same effect can be obtained. Note that in the case of the third embodiment, the laser 9 is used rather than using a fiber.
Since the transmission efficiency of the second embodiment is rather low, it was necessary to increase the laser oscillation output or the laser oscillation time by 20% to 30% compared to the first embodiment.

【0019】次に、請求項4に係る発明の実施例を図に
ついて説明する。図4は請求項4に係る発明の一実施例
(第4実施例)による局部めっき装置を示す構成図であ
る。図において、被めっき材2のめっき部の周囲には、
レーザ9を透過する材料、例えば溶融石英からなるレー
ザ透過マスク25及び26が設けられている。これらの
レーザ透過マスク25,26は、被めっき材2を局部的
に覆うものである。
Next, an embodiment of the invention according to claim 4 will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a configuration diagram showing a local plating apparatus according to an embodiment (fourth embodiment) of the invention according to claim 4. In the figure, around the plating part of the plated material 2,
Laser-transmissive masks 25 and 26 made of a material transparent to the laser 9, for example fused silica, are provided. These laser transmission masks 25 and 26 are for locally covering the material 2 to be plated.

【0020】上記のような局部めっき装置においては、
噴流4aに対する電圧の印加方法,噴流4aの噴射方法
,レーザ9の種類,めっき液4の種類及びめっきの電流
密度などは、第1実施例と同様である。レーザ発振器1
4で発振されたレーザ9は、レーザ入射光学系13によ
って、レーザ透過マスク25の端面の一部に設けられた
入射端面25aからレーザ透過マスク25内に入射され
る。入射されたレーザ9は、レーザ透過マスク25内を
全反射しながら伝送され、もう一方の端面である出射端
面25bから出射される。
[0020] In the above-mentioned local plating apparatus,
The method of applying voltage to the jet 4a, the method of ejecting the jet 4a, the type of laser 9, the type of plating solution 4, the plating current density, etc. are the same as in the first embodiment. Laser oscillator 1
The laser 9 oscillated in step 4 is input into the laser transmission mask 25 by the laser incidence optical system 13 from the incidence end face 25 a provided on a part of the end face of the laser transmission mask 25 . The incident laser beam 9 is transmitted through the laser transmission mask 25 while being totally reflected, and is emitted from the other end surface, the output end surface 25b.

【0021】この実施例の局部めっき装置では、レーザ
9はレーザ透過マスク25内を伝送され、めっき液4内
で全反射することなく、めっき部に直接照射されるので
、図1のものと同様の効果が得られる。なお、上記第4
実施例の場合、ファイバを用いるよりもレーザ9の伝送
効率がやや低いため、レーザ透過マスク25の幅にもよ
るが、第1実施例に比較してレーザ発振出力或はレーザ
発振時間を30%〜40%増加させる必要があった。ま
た、各発明ともノズルやファイバの個数及び形状は特に
限定されるものではない。
In the local plating apparatus of this embodiment, the laser beam 9 is transmitted through the laser transmission mask 25 and directly irradiates the plating area without being totally reflected in the plating solution 4, so that it is similar to that in FIG. The effect of this can be obtained. In addition, the above 4th
In the case of this embodiment, since the transmission efficiency of the laser 9 is slightly lower than that of using a fiber, the laser oscillation output or laser oscillation time is reduced by 30% compared to the first embodiment, although it depends on the width of the laser transmission mask 25. needed to be increased by ~40%. Further, in each invention, the number and shape of nozzles and fibers are not particularly limited.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明の局部めっき装置は、ファイバをノズル内に導入し、
ファイバの先端部から、めっき液の噴流内で全反射させ
ることなく、めっき部にレーザを直接照射するようにし
たので、噴流が乱れたときにも、めっき部に到達するレ
ーザ出力を安定させることができ、めっき品質のばらつ
きを抑えて均一に向上させることができるという効果を
奏する。また、請求項2に係る発明の局部めっき装置は
、めっき部に対してレーザを直接照射するためのファイ
バをノズルの外部にノズルとは別個に設けたので、請求
項1に係る発明の効果に加えて、めっき液の噴流条件と
レーザのパワー密度条件とを独立に制御しやすくなると
いう効果も奏する。さらに、請求項3に係る発明の局部
めっき装置は、レーザを透過する材料からなるレーザ透
過ノズルを用い、このレーザ透過ノズルを通してめっき
部にレーザを直接照射するようにしたので、請求項1に
係る発明の効果に加えて、装置構成が簡単になるという
効果も奏する。さらにまた、請求項4に係る発明の局部
めっき装置は、レーザを透過する材料からなり、レーザ
を内部で全反射させて伝送してめっき部に直接照射する
レーザ透過マスクを、被めっき材のめっき部の周囲に設
けたので、請求項1に係る発明の効果に加えて、装置構
成が簡単になるという効果も奏する。
Effects of the Invention As explained above, the local plating apparatus of the invention according to claim 1 introduces a fiber into a nozzle,
Since the laser is directly irradiated from the tip of the fiber to the plating area without total reflection within the jet of plating solution, the laser output reaching the plating area can be stabilized even when the jet is turbulent. This has the effect of suppressing variations in plating quality and uniformly improving it. In addition, the local plating apparatus of the invention according to claim 2 has a fiber for directly irradiating the plating portion with a laser outside the nozzle and is separate from the nozzle, so that the effect of the invention according to claim 1 is not achieved. In addition, there is also the effect that it becomes easier to independently control the jet flow conditions of the plating solution and the power density conditions of the laser. Furthermore, the local plating apparatus of the invention according to claim 3 uses a laser transmission nozzle made of a material that transmits laser, and the laser is directly irradiated to the plating area through this laser transmission nozzle. In addition to the effects of the invention, there is also the effect of simplifying the device configuration. Furthermore, the local plating apparatus of the invention according to claim 4 is provided with a laser transmission mask that is made of a material that transmits laser and that completely internally reflects the laser and transmits it to directly irradiate the plating area. Since it is provided around the section, in addition to the effect of the invention according to claim 1, there is also an effect that the device configuration is simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】請求項1に係る発明の一実施例を示す構成図で
ある。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of the invention according to claim 1.

【図2】請求項2に係る発明の一実施例を示す構成図で
ある。
FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of the invention according to claim 2.

【図3】請求項3に係る発明の一実施例を示す構成図で
ある。
FIG. 3 is a configuration diagram showing an embodiment of the invention according to claim 3.

【図4】請求項4に係る発明の一実施例を示す構成図で
ある。
FIG. 4 is a configuration diagram showing an embodiment of the invention according to claim 4.

【図5】従来の噴流式局部めっき方法を説明するための
断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a conventional jet-type local plating method.

【図6】従来のレーザ援用ジェットめっき方法を説明す
るための断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a conventional laser-assisted jet plating method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2    被めっき材 4    めっき液 4a  噴流 9    レーザ 11    ノズル 12    ファイバ 21    第1のノズル 22    第2のノズル 24    レーザ透過ノズル 25    レーザ透過マスク 2 Plated material 4 Plating solution 4a Jet stream 9 Laser 11 Nozzle 12 Fiber 21 First nozzle 22 Second nozzle 24 Laser transmission nozzle 25 Laser transmission mask

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  被めっき材のめっき部に対してめっき
液の噴流を吹き付けながらレーザを照射する局部めっき
装置において、前記噴流を形成するノズル内に、前記め
っき部に対して前記レーザを直接照射するためのファイ
バが導入されていることを特徴とする局部めっき装置。
1. In a local plating device that irradiates a laser while spraying a jet of plating solution onto a plating portion of a material to be plated, the laser is directly irradiated onto the plating portion within a nozzle that forms the jet. A local plating device characterized in that a fiber is introduced for the purpose of plating.
【請求項2】  被めっき材のめっき部に対してめっき
液の噴流を吹き付けながらレーザを照射する局部めっき
装置において、前記噴流を形成するノズルの外部に、前
記めっき部に対して前記レーザを直接照射するためのフ
ァイバが、前記ノズルとは別に設けられていることを特
徴とする局部めっき装置。
2. In a local plating device that irradiates a laser while spraying a jet of plating solution onto a plating part of a material to be plated, the laser is directly applied to the plating part outside the nozzle that forms the jet. A local plating device characterized in that a fiber for irradiation is provided separately from the nozzle.
【請求項3】  被めっき材のめっき部に対してめっき
液の噴流を吹き付けながらレーザを照射する局部めっき
装置において、前記レーザを透過する材料からなってお
り、前記噴流を形成するとともに、前記レーザを壁部内
で全反射させて伝送して前記めっき部に対して直接照射
するためのレーザ透過ノズルを備えていることを特徴と
する局部めっき装置。
3. A local plating device that irradiates a plating part of a material to be plated with a laser while spraying a jet of a plating solution, the device being made of a material that transmits the laser, and forming the jet and irradiating the plating solution with a laser. 1. A local plating apparatus comprising a laser transmission nozzle for totally reflecting and transmitting a laser beam within a wall portion and directly irradiating the plating portion.
【請求項4】  被めっき材のめっき部に対してめっき
液の噴流を吹き付けながらレーザを照射する局部めっき
装置において、前記被めっき材の前記めっき部の周囲に
設けられているとともに、前記レーザを透過する材料か
らなっており、前記レーザを内部で全反射させて伝送し
て前記めっき部に対して直接照射するためのレーザ透過
マスクを備えていることを特徴とする局部めっき装置。
4. A local plating device that irradiates a laser beam while spraying a jet of plating solution onto a plated portion of a material to be plated, wherein the device is provided around the plated portion of the material to be plated, and that A local plating apparatus comprising a laser transmission mask made of a transparent material and configured to completely internally reflect and transmit the laser beam to directly irradiate the plating area.
JP4342891A 1991-03-08 1991-03-08 Local plating device Pending JPH04280991A (en)

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JP4342891A JPH04280991A (en) 1991-03-08 1991-03-08 Local plating device
US07/845,950 US5292418A (en) 1991-03-08 1992-03-04 Local laser plating apparatus
GB9204936A GB2253413B (en) 1991-03-08 1992-03-06 Locally plating apparatus
DE4207197A DE4207197C2 (en) 1991-03-08 1992-03-06 Local coating device

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