JPH0427849A - 外観検査装置 - Google Patents

外観検査装置

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Publication number
JPH0427849A
JPH0427849A JP2132933A JP13293390A JPH0427849A JP H0427849 A JPH0427849 A JP H0427849A JP 2132933 A JP2132933 A JP 2132933A JP 13293390 A JP13293390 A JP 13293390A JP H0427849 A JPH0427849 A JP H0427849A
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JP
Japan
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height
brightness
waveform
window
reference waveform
Prior art date
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Pending
Application number
JP2132933A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Hizuka
哲男 肥塚
Giichi Kakigi
柿木 義一
Shinji Hashinami
伸治 橋波
Shigeki Taniguchi
茂樹 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Testing Or Calibration Of Command Recording Devices (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【概要】
プリント基板に部品が実装されたボード等の外観検査を
行う外観検査装置に関し、 ウィンドの管理を容易にすることを目的とし、試料表面
の高さ及び明るさを検出する高さ・明るさ検出手段と、
検出された該高さデータが格納される高さ記憶手段と、
検出された該明るさデータが格納される明るさ記憶手段
と、該高さ記憶手段及び該明るさ記憶手段に対し、長尺
形の検査領域であるウィンドを設定するウィンド設定手
段と、標準試料について該高さ記憶手段に格納されたデ
ータのうち、該ウィンド内の高さデータを読み出して、
該ウィンドの長手方向に沿った高さ基準波形を生成する
高さ基準波形生成手段と、該高さ基準波形が格納される
高さ基準波形記憶手段と、検査する試料について該高さ
記憶手段に格納されたデータのうち、該ウィンド内の高
さデータを該ウィンドの長手方向に沿った高さ波形とし
て読み出し、格納されている該高さ基準波形との一致度
を求めて、高さ波形の良否を判定し、その結果を出力す
る高さ波形マツチング手段と、標準試料について該明る
さ記憶手段に格納されたデータのうち、該ウィンド内の
明るさデータを読み出して、該ウィンドの長手方向に沿
った明るさ基準波形を生成する明るさ基準波形生成手段
と、該明るさ基準波形が格納される明るさ基準波形記憶
手段と、検査する試料について該明るさ記憶手段に格納
されたデータのうち、該ウィンド内の明るさデータを該
ウィンドの長手方向に沿った明るさ波形として読み出し
、格納されている該明るさ基準波形との一致度を求めて
、明るさ波形の良否を判定し、その結果を出力する明る
さ波形マツチング手段とを備えて構成する。
【産業上の利用分野】
本発明は、プリント基板に部品が実装されたボード等の
外観検査を行う外観検査装置に関する。
【従来の技術】
例えば第10図に示すようなLS I 10のリード1
1〜16を外観検査装置で検査する場合、従来では、検
査位置及び検査目的に応じて多数のウィンドを設定して
いた。 第10図において、ウィンド111.121.131.
141.151及び161はそれぞれリ−)’ 11−
16のM部高さを検査するためのものであり、ウィンド
112.122.132.142.152及び162は
それぞれリード11〜16の先端部高さを検査するため
のものであり、ウィンド113.123.133.14
3.153及び163はぞれぞれリード11〜16の先
端位置及び半田21〜26の高さ及び明るさを検査する
ためのものである。 良品のLS I 10について、これらの各ウィンド毎
に検査目的に応じた種類の基準値を作成し、これを、検
査するLSIl0のウィンド内の高さデータ又は/及び
明るさデータと比較して良否判定を行っていた。
【発明が解決しようとする課題】
しかし、検査位置及び検査目的に応じて多数のウィンド
を設定しなければならず、しかも、ウィンド毎に検査目
的に応じた種類の基準値を算出し、これに応じて、検査
対象のウィンド内の高さデータと胡るさデータの両者又
はどちらか一方と比較して良否判定する必要があった。 そのうえ、実装部品の種類やメーカー、或は製造のロフ
ト等に応じて、ウィンドの変更や追加があった場合には
、その都度に比較基準値を新たに作成する必要があった
。このように、従来ではウィンドの管理が煩雑であった
。 本発明の目的は、このような問題点に鑑み、ウィンドの
管理が容易な外観検査装置を提供することにある。
【課題を解決するた給の手段】
第1図は本発明の原理構成を示す。 図中、1は高さ・明るさ検出手段であり、試料表面2の
高さ及び明るさを検出する。 3Aは高さ記憶手段であり、検出された該高さデータが
格納される。 3Bは明るさ記憶手段であり、検出された該明るさデー
タが格納される。 4はウィンド設定手段であり、高さ記憶手段3A及び明
るさ記憶手段3Bに対し、長尺形の検査領域であるウィ
ンドを設定する。 5Aは高さ基準波形生成手段であり、標準試料について
高さ記憶手段3Aに格納されたデータのうち、該ウィン
ド内の高さデータを読み出して、該ウィンドの長手方向
に沿った高さ基準波形を生成する。 6Aは高さ基準波形記憶手段であり、該高さ基準波形が
格納される。 7Aは高さ波形マツチング手段であり、検査する試料に
ついて高さ記憶手段3Aに格納されたデータのうち、該
ウィンド内の高さデータを該ウィンドの長手方向に沿っ
た高さ波形として読み出し、格納されている該高さ基準
波形との一致度を求めて、高さ波形の良否を判定し、そ
の結果を出力する。 5Bは明るさ基準波形生成手段であり、標準試料につい
て明るさ記憶手段3Bに格納されたデータのうち、該ウ
ィンド内の明るさデータを読み出して、該ウィンドの長
手方向に沿った明るさ基準波形を生成する。 6Bは明るさ基準波形記憶手段であり、該明るさ基準波
形が格納される。 7Bは明るさ波形マツチング手段であり、検査する試料
について明るさ記憶手段3Bに格納されたデータのうち
、該ウィンド内の明るさデータを該ウィンドの長手方向
に沿った明るさ波形として読み出し、格納されている該
明るさ基準波形との一致度を求めて、明るさ波形の良否
を判定し、その結果を出力する。
【作用】
本発明では、基準波形生成時には、長尺形の検査領域で
あるウィンドを設定し、ウィンド内の、良品についての
高さデータ及び明るさデータを記憶手段3A及び3Bか
ら読み出して、ウィンドの長手方向に沿った高さ基準波
形及び明るさ基準波形を生成する。また、外観検査時に
は、ウィンド内の高さデータ及び明るさデータをウィン
ドの長手方向に沿った高さ波形及び明るさ波形として記
憶手段3A及び3Bから読み出し、これらと高さ基準波
形及び明るさ基準波形との一致度を求めて、高さ波形及
び明るさ波形の良否を判定する。 したがって、従来複数個設定していたウィンドを、これ
らを含む1つの長尺形ウィンドとし、検査目的によらず
統一的に、高さ波形及び明るさ波形について基準波形と
の一致度を求めればよく、また、ウィンド設定後に実装
部品の種類やメーカ、或は製造のロフト等に応じて、ウ
ィンドの追加や変更を行なう必要がなくなる。このため
、ウィンドの管理が容易になる。
【実施例】
以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説明する。 第3図は外観検査装置の高さ・明るさ検出部を示す。 レーザー27から放射されたレーザービーム28は、レ
ーザースキャナ29で、プリント基板上に略垂直に投光
されかつ第3図紙面垂直方向に走査される。この1走査
毎に、プリント基板を搭載した不図示のX−Yステージ
が第3図左右方向にステップ駆動される。 光照射点に形成された光スポラ)Pは、その明るさ及び
高さが、光軸を光走査方向に垂直に向けて配置した高さ
・明るさ検出器3oで検出される。 この高さ・明るさ検出器30は、構成要素31〜37を
備えている。 光スポラ)Pは、結像レンズ31でPSD32上に結像
され、PSD32の一対の出力電流は、それぞれアンプ
33.34で増幅されかつ電圧に変換された後、A/D
変換器35.36でデジタル値ASBに変換される。演
算回路37は、これらA、、Bを受けて、明るさ(A+
B)及び高さ(A−B)/ (A+B)を演算し出力す
る。 第21!lは外観検査装置の全体構成を示す。 マイクロコンピュータ40のハードウェア構成は周知の
構成であり、第2図ではそのソフトウェア構成を機能ブ
ロック41〜50で示す。このマイクロコンピュータ4
0には、高さ・明るさ検出器30、ウィンド設定用のマ
ウス等の入力装置51及びデイスプレィ装置52、並び
に、不良位置出力用のプロッタ53が接続されている。 高さ・明るさ検出器30から出力された高さデータ及び
明るさデータはそれぞれ、第3回のレーザースキャナ2
9から出力される走査クロックにrEJMして、マイク
ロコンピュータ40の高さ記憶!B41及び明るさ記憶
部42に格納される。一方、実装部品データ記憶部43
には、部品実装の際に用いられるデータ、すなわち、各
実装部品の取付は位置、取付は方向、種類、形状等のデ
ータが格納されている。 ウィンド設定部44は、実装部品データ記憶部43に格
納された各種実装部品の形状データを図形データに変換
してデイスプレィ装置52へ供給し、実装部品図を表示
させる。作業者は、この表示部品を見ながら、入力装置
51を操作してウィンドを設定する。ウィンド設定部4
4は、この設定されたウィンドの位置及び大きさを記憶
しておく。 第6図は、LSIl0のリード11〜16について設定
されたウィンドWll〜W16を示す。 ウィンドWll〜W16は長尺形であり、各リード11
〜16につき、その長手方向に沿、って1つだけ設定さ
れており、一端部は、リード11〜16の先端部に融着
された半田21〜26から外部に突出している。すなわ
ち、ウィンドWllは、第10図に示す従来のウィンド
111〜113を全て含む形状となっている。W12〜
W16についても同様である。 ここで、外観検査装置には、基準波形生成モードと外観
検査モードとがあり、最初に基準波形生成モードについ
て説明する。 この基準波形生成モードでは、良品の標準的なボードに
ついて光走査を行い、その表面全体の高さデータ及び明
るさデータをそれぞれ高さ記憶部41及び明るさ記憶部
42へ格納させる。この後、高さ基準波形生成部45は
、高さ記憶部41に格納されている高さデータのうち、
ウィンド設定部44に設定されているウィンドの内側の
高さデータを読み出し、第4図に示す処理を行って、部
品の種類毎に高さ基準波形を生成し、これを高さ基準波
形記憶部46に格納する。 第4図は、第6図に示すようなウィンドWll〜W16
内の高さデータから、リード11〜16について1つの
高さ基準波形を生成する手順を示す。第6図では、ウィ
ンドWllのみについてウィンドWllの長手方向に沿
ったX軸を示すが、他のウィンドW12〜W16につい
ても同様にX軸を設定する。ウィンドの個数はこの例で
は6であるが、一般にnとする。また、各ウィンドのサ
イズはすべて、X軸方向がa十i画素(0≦X≦a)で
、これに垂直な幅方向がm画素とする。 (60)初期設定として、位置X及び位置Xでの幅方向
の高さ合計値SHを0とし、第6図の左から1番目のウ
ィンドを示す1を1とする。 (61)SHに、第iウィンド内の位置Xでの幅方向j
番目の画素の高さHljを加えた値を新たなSHとし、
これをj=1〜mについて繰り返す。 (62)iをインクリメントし、 (63)i≦nであれば上記ステップ61へ戻る。 i>nとなれば、 (64)xをインクリメントする。 (65)x>6であれば処理を終了し、X≦aであれば
、 (66)第1〜nウインド内の位置Xでの高さの平均値
S H/ m nをH5(x)とし、また、SHをクリ
アする。 (67)iを1とし、ステップ61へ戻る。 このようにして、高さ基準波形H3(x)が0≦X≦a
の範囲で生成される。。 明るさ基準波形生成部47は、明るさ配憶部42に格納
されている明るさデータについて、高さ基準波形生成部
45と全く同様にして明るさ基準波形を生成し、これを
明るさ基準波形記憶部48に格納する。 第7A図は、測定対象としての、LSIl0のリード1
1及びリード11の先端に融着された半田21を示す。 第7B図は、第6図の各ウィンドW1.1〜W16内の
高さデータのX軸に沿った波形を重ねて示す。この高さ
波形の位置Xにおける高さは、X軸に直角な方向のウィ
ンド内高さデータを平均した値である。上記高さ基準波
形は、各ウィンドに対応したこの高さ波形を各位置Xに
ついて平均した波形である。同様に第7C図は、第6図
の各ウィンドWll〜W16内の明るさデータのX軸に
沿った波形を示す。この明るさ波形の位置Xにおける高
さは、X軸に直角な方向のウィンド内明るさデータを平
均した値である。上記明るさ基準波形は、各ウィンドに
対応したこの明るさ波形を各位置Xについて平均した波
形である。 次に、外観検査モードについて説明する。 このモードでは、第2図において、検査対象のボードに
つき光走査して、高さデータ及び明るさデータをそれぞ
れ高さ記憶部41及び明るさ記憶部42へ格納させる。 この後、高さ波形マツチング部49は、高さ記憶部41
に格納されている高さデータのうち、ウィンド設定部4
4に設定されているウィンドの内側の高さデータをX軸
に沿った高さ波形として読み出し、高さ基準波形配憶部
46からこのウィンドに対応した高さ基準波形を読み出
し、各ウィンド毎に、第5図に示すような高さ波形マツ
チング処理を行う。 (70)第6図の左からi番目のウィンドを示すiを1
に初期設定し、 (71)位置x1位置Xでの幅方向の高さ合計値SH及
び不一致度Tを0に初期設定する。 (72)SHに、第1ウインド内の位置Xでの幅方向j
番目の画素の高さHl、を加えた値を新たなSHとし、
これをj=1〜mについて繰り返す。 (73)第1ウインド内の位置Xでの幅方向の高さ平均
値S H/ mをH(x)とし、また、SHをクリアす
る。 (74)IH(x) −H−(x)Iを△Hとし、(7
5)不一致度TにΔHを加えた値を新たなTとする。 (76)位置Xをインクリメントし、 (77)x≦aであれば上記ステップ72へ戻る。 X>aであれば次のステップへ進む。 (78,79)不一致度TがT≧T、であれば、高さ不
良と判定し、この不良の位置をプロッタ53に供給して
出力する。T、は不一致度の許容最大値である。 T<TSであれば、 (80)iをインクリメントし、 (81)i≦nであれば上記ステップ71へ戻る。 innとなれば、ウィンドWll〜W16についての高
さ波形マツチング処理を終了する。 明るさ波形マツチング部50は明るさ記憶部42に格納
されている明るさデータ及び明るさ基準波形記憶部48
に格納されている明るさ基準波形について、高さ波形マ
ツチング!B49と全く同様にして不一致度Tを算出し
、Tが基準値以上であれば、明るさ不良と判定し、この
不良の位置をプロッタ53に供給して出力する。 第8図は、LSIl0が本来の方向から僅か傾斜してい
る場合を示す。 この場合、例えばウィンドWll及びW13について、
高さ波形及び明るさ波形を測定すると、それぞれ第9A
図及び第9B図に示す如く、2つのほぼ等しい波形が互
いにX方向ヘシフトした形になる。 そこで、このような場合、基準波形生成モードにおいて
は、例えば各ウィンドWll〜W16内でリード先端位
置を検出し、この先端位置がある一定の位置X=X0と
なるように、ウィンドW11〜W16をその長手方向に
移動させる。その後、第4図に示す処理を開始する。ま
た、外観検査モードにおいても、上記基準波形生成モー
ドと同様にしてウィンドWll〜W16を移動させ、ま
たは、基準波形をX軸圧及び負の方向に1画素ずつずら
し、その各々の基準波形について第5図のステップ71
〜77の処理を行い、最小となるTの値をステップ78
において用いる。
【発明の効果】
以上説明した如く、本発明に係る外観検査装置では、従
来複数個設定していたウィンドを、これらを含む1つの
長尺形ウィンドとし、検査目的によらず統一的に高さ波
形及び明るさ波形について基準波形との一致度を求めれ
ばよく、また、ウィンド設定後に実装部品の種類やメー
カー、或は製造のロフト等に応じて、ウィンドの追加や
変更を行なう必要がなくなるので、ウィンドの管理が容
易になるという優れた効果を奏し、外観検査装置の操作
の容易化に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る外観検査装置の原理構成を示すブ
ロック図である。 第2図乃至第9B図は本発明の一実施例に係り、第2図
は外観検査装置の全体構成を示すブロック図、 第3図は外観検査装置の高さ・明るさ検出部の構成を示
すブロック図、 第4図は第2図の高さ基準波形生成部45における処理
手順を示すフローチャート、 第5図は第2図の高さ波形マツチング部49における処
理手順を示すフローチャート、第6図はLSIのリード
に設定されるウィンドを示す図、 第7A図は測定対象としてのLSIのリードを示す側面
図、 第7B図は第6図のウィンドWll〜W16内の各リー
ドの高さ波形図、 第7C図は第6図のウィンドWll〜W16内の各リー
ドの明るさ波形図、 第8図はLSIが本来の方向から少し傾いている場合の
、LSIのリードに設定されるウィンドを示す図、 第9A図は第8図の2つのウィンドにおけるリードの高
さ波形図、 第9B図は第8図の2つのウィンドにおけるリードの明
るさ波形図である。 第10図はLSIのリードに設定される従来のウィンド
を示す図である。 図中、 10はLSl 11〜16はリード 21〜26は半田 111〜113.121〜123.131〜133.1
41〜143.151〜153.161〜163、Wl
l〜W16はウィンド 27はレーザー 29をレーザースキャナ 30は高さ・明るさ検出器 31は結像レンズ 32はPSD 40はマイクロコンピュータ 51は入力装置 52はデイスプレィ装置 53はブロッタ 第4図 第5図 LSIのリードに設定されるウィンド 第6図 位置X 位1x

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  試料表面(2)の高さ及び明るさを検出する高さ・明
    るさ検出手段(1)と、 検出された該高さデータが格納される高さ記憶手段(3
    A)と、 検出された該明るさデータが格納される明るさ記憶手段
    (3B)と、 該高さ記憶手段及び該明るさ記憶手段に対し、長尺形の
    検査領域であるウインドを設定するウインド設定手段(
    4)と、 標準試料について該高さ記憶手段に格納されたデータの
    うち、該ウインド内の高さデータを読み出して、該ウイ
    ンドの長手方向に沿った高さ基準波形を生成する高さ基
    準波形生成手段(5A)と、該高さ基準波形が格納され
    る高さ基準波形記憶検査する試料について該高さ記憶手
    段に格納されたデータのうち、該ウインド内の高さデー
    タを該ウインドの長手方向に沿った高さ波形として読み
    出し、格納されている該高さ基準波形との一致度を求め
    て、高さ波形の良否を判定し、その結果を出力する高さ
    波形マッチング手段(7A)と、標準試料について該明
    るさ記憶手段に格納されたデータのうち、該ウインド内
    の明るさデータを読み出して、該ウインドの長手方向に
    沿った明るさ基準波形を生成する明るさ基準波形生成手
    段(5B)と、 該明るさ基準波形が格納される明るさ基準波形記憶手段
    (6B)と、 検査する試料について該明るさ記憶手段に格納されたデ
    ータのうち、該ウインド内の明るさデータを該ウインド
    の長手方向に沿った明るさ波形として読み出し、格納さ
    れている該明るさ基準波形との一致度を求めて、明るさ
    波形の良否を判定し、その結果を出力する明るさ波形マ
    ッチング手段(7B)と、 を有することを特徴とする外観検査装置。
JP2132933A 1990-05-23 1990-05-23 外観検査装置 Pending JPH0427849A (ja)

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JP2132933A JPH0427849A (ja) 1990-05-23 1990-05-23 外観検査装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013011566A (ja) * 2011-06-30 2013-01-17 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd 変位センサシステム、センサ用コントローラ及び表示制御プログラム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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