JPH04276327A - 光記録媒体用基板および光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体用基板および
それを用いた光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ポリカーボネートは軽く、透明性
が良く光学特性が優れているという利点があるため光記
録媒体用基板材料として広く用いられている。しかしな
がら、ポリカーボネートを使用してインジェクション成
形法により光カード記録媒体用基板を作製する場合、カ
ード状に薄く作成することがむずかしくカード化には適
さない。したがって、光カード記録媒体用基板材料とし
て、ポリカーボネートを使用する場合は、一般に押し出
し成形法が利用されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】一方、光ディスク又は
光カードなどの光記録媒体用基板上には記録層が設けら
れているが、記録層を有機染料又は顔料を用いて形成す
る方法としては、例えばスパッター，真空蒸着等の乾式
法や、スピンコート，ロールコーター等の湿式法が好ま
しい。具体的には、溶媒に染料又は顔料を溶解した溶液
を基板表面に塗布した後、溶液を蒸発させて記録膜とし
て形成する方法が行なわれている。塗布方法としては、
通常スピンコート、ロールコート、オフセット印刷など
が用いられている。

【０００４】しかしながら、押出し成形法により作製さ
れたポリカーボネート基板に記録層として有機染料を使
用したものを用いた場合には、ポリカーボネート基板表
面において、過度の低分子成分の残留により記録層の反
射率、記録特性等の熱的安定性が悪くなり、信頼性の点
で問題があった。

【０００５】本発明は、このような従来技術の問題を解
決するためになされたものであり、ポリカーボネート基
板に含有されるポリスチレン換算分子量が５００未満の
低分子量成分の含有量を１重量％未満とすることにより
、基板上に形成される記録層の有機染料と低分子成分の
相互作用を防ぎ、高温高湿の条件においても反射率およ
びコントラストの特性の低下を防止した光記録媒体用基
板およびそれを用いた光記録媒体を提供することを目的
とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、押出し
成形法により作製されたポリカーボネートよりなる光記
録媒体用基板において、前記ポリカーボネートに含有さ
れている分子量５００未満の成分の含有量が１重量％未
満であることを特徴とする光記録媒体用基板、および前
記光記録媒体用基板上に有機染料からなる記録層を有す
ることを特徴とする光記録媒体である。

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光記録媒体用基板は、押出し成形法により作製されたポ
リカーボネートよりなる基板であって、前記ポリカーボ
ネート中に含有されている分子量５００未満の成分が１
重量％未満、好ましくは　　　　重量％未満であるもの
が用いられる。すなわち、ポリカーボネート中に含有さ
れている分子量５００以上の成分を９９重量％以上、好
ましくは　　　　重量％以上含有しているポリカーボネ
ートが用いられる。なお、本発明における分子量の値は
、ポリスチレン換算値を示す。

【０００８】分子量５００未満の成分の中には、未反応
モノマーや残存する重合開始剤、オリゴマー成分等が含
まれる。ポリカーボネート中に含有されている分子量５
００未満の成分が１重量％を越えると、基板上に形成さ
れる記録層の有機染料と、基板の低分子成分の相互作用
により記録層の反射率等の特性の低下を引き起こすため
に好ましくない。

【０００９】また、本発明の光記録媒体は、前記光記録
媒体用基板上に、有機染料からなる記録層を設けたもの
である。記録層に用いられる有機染料として、特に制限
することなく広範囲の染料を使用することができるが、
例えばポリメチン系染料，アズレン系染料，スクアリウ
ム系染料，シアニン系染料，ピリリウム系染料，トリフ
ェニルメタン系染料，クロコニウム系染料，フタロシア
ニン系染料等が挙げられる。

【００１０】光記録媒体用基板上に形成された有機染料
からなる記録層の上には、接着剤を用いて保護基材を貼
り合わせて記録層を保護する。接着剤としては、特に制
限することなく通常使用されているものを用いることが
でき、例えば酢酸ビニル，アクリル酸エステル，塩化ビ
ニル，エチレン，アクリル酸，アクリルアミドなどのビ
ニルモノマーの重合体及び共重合体、ポリアミド，ポリ
エステルなどの熱可塑性接着剤、天然ゴム，ニトリルゴ
ム，クロロゴム，シリコンゴムなどのゴム系接着剤が挙
げられる。

【００１１】保護基材としては、ポリメチルメタクリレ
ート，ポリカーボネート，ポリオレフィン，ポリスルフ
ォンなどの透明なプラスチックが用いられる。

【００１２】

【実施例】以下実施例を示し本発明をさらに具体的に説
明する。 実施例１ 鏡面仕上したガラス原盤にフォトレジストを塗布し、通
常のフォトリソ工程により光カードパターンを描き、現
象処理後、凹凸パターンを形成し、その上にＮｉをスパ
ッタ成膜した後、電鋳し、裏面を研磨仕上げしてガラス
原盤から剥離してスタンパを作成した。

【００１３】次いで、ロール径３００ｍｍ中の鉄製ロー
ルにＣｒメッキし、さらに鏡面仕上げしたロールに、前
記スタンパをねじ止めして成形用スタンパロールを作成
した。このスタンパロールを押し出し成形機（日立造船
製、ＳＨＴ９０）に取り付けて、２ｍ／分の送り速度で
、ダイ温度２８０℃、ロール温度１３０℃の条件でポリ
カーボネート（帝人化成製、Ｌ−１２５０）を精製した
ものを、厚さ０．４ｍｍ、幅８０ｃｍに押し出した。

【００１４】ポリカーボネートの精製は、非溶剤添加に
よる沈澱法を用いて行なった。ポリカーボネートに対す
る非溶剤としては、アルコール類や脂肪族炭化水素が知
られているので、これらが沈澱法における添加非溶剤と
して用いられる。その他、ポリカーボネートに対して幾
分親和性を有するケトン類やエステル類も沈澱剤として
用いられる。これらの沈澱剤を、激しくかきまぜられて
いるポリカーボネート溶液に加えると、ポリカーボネー
トは細粉状に分離してくるのでこれをロ別する。このよ
うな非溶剤を用いる沈澱法は、低分子量物、着色不純物
、原料モノマー、溶剤などがポリマーから除去されるた
め精製法として有効である。

【００１５】以上のようにして、押し出した基板のグル
ーブ面上に、下記の化１式に示されるポリメチン色素の
ジアセトンアルコール溶液（濃度：２．５重量％）をグ
ラビアコート法により塗布し、グルーブ面上に厚さ１０
００Åの記録層を形成した。記録層の形成された基板と
、保護基板として厚さ０．３ｍｍのポリカーボネート基
板とをエチレン−酢酸ビニル共重合体系ホットメルト接
着剤（ヒロダイン７５００、ヒロダイン社製）を用いて
ロールラミネートネーターで接着温度１１０℃にて接着
した。これらをカード状にカッティングし、光カードを
作製した。

【００１６】

【化１】

【００１７】作成した光カードを、送り速度０．０６ｍ
／ｓｅｃで送りながら、波長８３０ｎｍの半導体レーザ
ーを用い、記録層上のスポット径３μｍφ、読み出しパ
ワー３．５ｍＷ、パルス５０μｓｅｃで記録を行ない、
読出しパワー０．２ｍＷで再生し、そのコントラスト比
［（Ａ−Ｂ）／Ａ：Ａ＝未記録部の信号強度、Ｂ＝記録
部の信号強度］、及び反射率（未記録部の信号強度より
換算）を測定した。

【００１８】さらに、高速液体クロマトグラフ（ウォー
ターズ製、１５０Ｃ）にて基板のポリカーボネートの分
子量分布を測定し、分子量５００（ポリスチレン換算値
）未満の成分の含有量（重量％）を測定した結果を表１
に示す。

【００１９】分子量分布の測定は、ＴＨＦ（キシダ化学
製、特級）溶媒に約０．１重量％の割合でポリカーボネ
ートを溶かし、昭和電工製、Ｓｈｏｄｅｘ　　ＫＦ−８
０１，８０２，８０３，８０４，８０５，８０６，８０
７の７本のカラムを接続したものを用いて、ＴＨＦ（同
上）を流速１ｃｃ／ｍｉｎで流し、ＲＩ検出器を用いて
測定した。検量線は、標準ポリスチレンを用いて作成し
た。

【００２０】さらに、この光カードを６５℃、８５％Ｒ
Ｈの環境条件下で２０００時間の加速試験を行ない、上
記と同様にコントラストと反射率の測定を行なった。そ
の結果を表２に示す。

【００２１】比較例１ 前記実施例１と同様に、ポリカーボネート（帝人化成製
、Ｌ−１２５０）未精製のものを押し出し成型した基板
のグルーブ面上に、前記化１の色素を同様に塗布し光カ
ードを作製した。

【００２２】基板の分子量分布より求めた分子量５００
（ポリスチレン換算値）未満の成分の含有量（重量％）
を測定した結果を表１に示す。

【００２３】得られた光カードを、実施例１と同様に波
長８３０ｎｍの半導体レーザーを用いて記録したものに
ついて、コントラストおよび反射率を測定した結果を表
２に示す。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【表２】

【００２６】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、押
出し成形法により作製されたポリカーボネートよりなる
基板において、ポリカーボネート中に含有されている分
子量５００未満の低分子量成分の含有量を１重量％未満
とすることにより、基板上に形成される記録層の有機染
料と低分子量成分の相互作用を防ぎ、高温高湿の条件に
おいても反射率およびコントラストの特性が低下するこ
とを防止できる効果が得られる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　押出し成形法により作製されたポリカ
   ーボネートよりなる光記録媒体用基板において、前記ポ
   リカーボネートに含有されている分子量５００未満の成
   分の含有量が１重量％未満であることを特徴とする光記
   録媒体用基板。
2. 【請求項２】　　請求項１記載の光記録媒体用基板上に
   有機染料からなる記録層を有することを特徴とする光記
   録媒体。