JPH0427186A - 円偏光ｃｏ↓２レーザービームの発生方法 - Google Patents
円偏光ｃｏ↓２レーザービームの発生方法Info
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- JPH0427186A JPH0427186A JP13218790A JP13218790A JPH0427186A JP H0427186 A JPH0427186 A JP H0427186A JP 13218790 A JP13218790 A JP 13218790A JP 13218790 A JP13218790 A JP 13218790A JP H0427186 A JPH0427186 A JP H0427186A
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、分子法レーザーウラン濃縮法等において利用
される円偏光ＣＯ２レーザービームの発生方法に係り、
特に、別の微弱強度の円偏光レーザーを用いて高出力の
円偏光ＣＯ２レーザービームを発生させる方法に関する
。
される円偏光ＣＯ２レーザービームの発生方法に係り、
特に、別の微弱強度の円偏光レーザーを用いて高出力の
円偏光ＣＯ２レーザービームを発生させる方法に関する
。
（従来技術とその問題点）
一般に、円偏光化された高出力のｃｏ２レーザービーム
を得るために、横励起方式大気圧（以下、ｒＴＥＡＪと
言う） ＣＯ２レーザー発振器からのレーザービームを
円部化素子を用いて円偏光化する方法が用いられている
。
を得るために、横励起方式大気圧（以下、ｒＴＥＡＪと
言う） ＣＯ２レーザー発振器からのレーザービームを
円部化素子を用いて円偏光化する方法が用いられている
。
このとき用いられる円偏光化素子としては、ＣｄＳなど
の結晶の複屈折を利用するλ１４波長板、反射型の円偏
光板、ＫＢｒなどのフレネル・ロム（Ｐｒｅｓｎｅｌ
ｒｈｏｍｂ）などが利用されている。
の結晶の複屈折を利用するλ１４波長板、反射型の円偏
光板、ＫＢｒなどのフレネル・ロム（Ｐｒｅｓｎｅｌ
ｒｈｏｍｂ）などが利用されている。
しかしながら、これらの円偏光化素子は極めて高価なう
えに、強度の大きいものを製作しにくく、通常、ビーム
径３０ａｍ程度のＴＥＡ ００２レ一ザー発振器からの
レーザービームを通過させると破壊してしまうという問
題がある。
えに、強度の大きいものを製作しにくく、通常、ビーム
径３０ａｍ程度のＴＥＡ ００２レ一ザー発振器からの
レーザービームを通過させると破壊してしまうという問
題がある。
このため、分子法レーザーウラン濃縮法等において利用
されるビーム径５０１１１％ ５〜６Ｊｕｌｅ程度の
高出力の円偏光ＣＯ２レーザービームを得る方法として
、第４図に示したような方法が検討されている。
されるビーム径５０１１１％ ５〜６Ｊｕｌｅ程度の
高出力の円偏光ＣＯ２レーザービームを得る方法として
、第４図に示したような方法が検討されている。
すなわち、第４図に示すように、ＣＷ−ＣＯ２レーザー
発振器４１からのビーム径５■の弱いビームを、ＫＣｌ
板のブリュースター窓を内臓する別の発振器４２で偏光
面を直線偏光に調整した後、円偏光化素子４３により円
偏光のレーザービームに変換し、これをまずＴＥＡ増幅
器４４で１〜２Ｊｕｌｅ程度にまで出力増幅し、次いで
ＴＥＡ増幅器４５により ５〜８Ｊｕｌｅにまで出力増
幅して、所望の高出力の円偏光レーザービームを得る方
法である。
発振器４１からのビーム径５■の弱いビームを、ＫＣｌ
板のブリュースター窓を内臓する別の発振器４２で偏光
面を直線偏光に調整した後、円偏光化素子４３により円
偏光のレーザービームに変換し、これをまずＴＥＡ増幅
器４４で１〜２Ｊｕｌｅ程度にまで出力増幅し、次いで
ＴＥＡ増幅器４５により ５〜８Ｊｕｌｅにまで出力増
幅して、所望の高出力の円偏光レーザービームを得る方
法である。
なお、Ｍはレーザービーム光路を形成するための全反射
鏡または部分反射鏡を示す。
鏡または部分反射鏡を示す。
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、このような方法では、余分の発振器や増
幅器を必要とするため装置が高価になってしまうという
問題があった。
幅器を必要とするため装置が高価になってしまうという
問題があった。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
上記の問題点を解決するために、本発明は、円偏光化素
子を用いずに、円偏光化された微弱強度の別のレーザー
を利用するものであって、ＴＥＡ−００２レ一ザー発振
器に、微弱強度の円偏光レーザーを注入してモードマツ
チングさせることにより、高出力の円偏光ＣＯ２レーザ
ーを発振させることを特徴とする。
子を用いずに、円偏光化された微弱強度の別のレーザー
を利用するものであって、ＴＥＡ−００２レ一ザー発振
器に、微弱強度の円偏光レーザーを注入してモードマツ
チングさせることにより、高出力の円偏光ＣＯ２レーザ
ーを発振させることを特徴とする。
（作 用）
本発明においては、微弱強度の円偏光レーザー注入光が
高出力ＣＯ２レーザーの発振開始時に支配的な役割を担
うことになり、注入レーザー光の周波数で偏光面も円偏
光成分のものが急速に成長するため、ＴＥＡ−ＣＯ２レ
ーザー発振器からは波長純度の高い円偏光の高出力ＣＯ
２レーザービームが発生する。
高出力ＣＯ２レーザーの発振開始時に支配的な役割を担
うことになり、注入レーザー光の周波数で偏光面も円偏
光成分のものが急速に成長するため、ＴＥＡ−ＣＯ２レ
ーザー発振器からは波長純度の高い円偏光の高出力ＣＯ
２レーザービームが発生する。
（実施例）
次ぎに、第１図を参照して、本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明を実施するために用いた装置の一例を
示すもので、注入光源１１として、単一縦モードのｃｗ
−ｃｏ２レーザー装置１２とパルス−ＣＯ２レーザー装
置１３が用いられている。これらの装置から出力される
ｃ０２レーザーは、いずれもＰＺＴ （圧電素子）１４
．１５ニよッテ１ｏＰ（２ｏ）ニ調整しλへ波長板から
成る円偏光化素子１６によって円偏光化し、この円偏光
レーザーを減衰器２３を介してＴＥＡ−Ｃｏ ２レ一ザ
ー発振器１７のＫＣＩブリュスター窓に入射するように
されている。
示すもので、注入光源１１として、単一縦モードのｃｗ
−ｃｏ２レーザー装置１２とパルス−ＣＯ２レーザー装
置１３が用いられている。これらの装置から出力される
ｃ０２レーザーは、いずれもＰＺＴ （圧電素子）１４
．１５ニよッテ１ｏＰ（２ｏ）ニ調整しλへ波長板から
成る円偏光化素子１６によって円偏光化し、この円偏光
レーザーを減衰器２３を介してＴＥＡ−Ｃｏ ２レ一ザ
ー発振器１７のＫＣＩブリュスター窓に入射するように
されている。
符号１８は、放電のリターン電流をモニターするための
コイルであり、これによって発振開始の遅れ時間を検出
する。また、発生したＣＯ２レーザービームの偏光度の
測定のため偏光分析器１９が、波形の測定のために帯域
５００ＭＨｚのオシロスコープ２０がそれぞれ用いられ
ている。なお、２１はエネルギーメーター ２２は２０
０ＭＨｚのオシロスコープ、２４は高圧電源、２５は出
力安定化装置、２６はフォトンドラッグを示している。
コイルであり、これによって発振開始の遅れ時間を検出
する。また、発生したＣＯ２レーザービームの偏光度の
測定のため偏光分析器１９が、波形の測定のために帯域
５００ＭＨｚのオシロスコープ２０がそれぞれ用いられ
ている。なお、２１はエネルギーメーター ２２は２０
０ＭＨｚのオシロスコープ、２４は高圧電源、２５は出
力安定化装置、２６はフォトンドラッグを示している。
この実施例では、注入光源１１から出力され、ＰＺＴ（
圧電素子）１４．１５によって調整された出力２００ｓ
Ｊｕｌｅのｌ０Ｐ（２０）のｃｏ２レーザーをこの円偏
光化素子１６によって円偏光化した後、円偏光レーザー
を減衰器２３を介してＴＥＡ−ＣＯ２レ一ザー発振器１
７のＫＣｌ板に入射し、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザー１７を
ｌ０Ｐ（２０）にモードマツチングさせて発振させるこ
とにより、５Ｊｕｌｅの高出力ＣＯ２レーザービームが
得られた。
圧電素子）１４．１５によって調整された出力２００ｓ
Ｊｕｌｅのｌ０Ｐ（２０）のｃｏ２レーザーをこの円偏
光化素子１６によって円偏光化した後、円偏光レーザー
を減衰器２３を介してＴＥＡ−ＣＯ２レ一ザー発振器１
７のＫＣｌ板に入射し、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザー１７を
ｌ０Ｐ（２０）にモードマツチングさせて発振させるこ
とにより、５Ｊｕｌｅの高出力ＣＯ２レーザービームが
得られた。
第２図に得られた高出力ＣＯ２レーザービームの波形を
示す。（ａ）図に注入前のフリーランニングしている時
の波形を、（ｂ）図に注入によって円偏光化されたシン
グルモードの波形を示す。また、第３図に直線偏光と円
偏光の注入光をそれぞれ入射した場合の偏光度を偏光分
析器の回転角に対する強度変化で示す。図中、Ｑは円偏
光、・は直線偏光を示す。
示す。（ａ）図に注入前のフリーランニングしている時
の波形を、（ｂ）図に注入によって円偏光化されたシン
グルモードの波形を示す。また、第３図に直線偏光と円
偏光の注入光をそれぞれ入射した場合の偏光度を偏光分
析器の回転角に対する強度変化で示す。図中、Ｑは円偏
光、・は直線偏光を示す。
これらの図から、それぞれ注入した円偏光レーザーに対
応した偏光度をもったＣＯ２レーザービームが得られて
いることがわかる。
応した偏光度をもったＣＯ２レーザービームが得られて
いることがわかる。
本実施例では注入光をＣｗとパルスで比較したが、いず
れの場合も同様な高出力の円偏光レーザービームを発生
させることができた。
れの場合も同様な高出力の円偏光レーザービームを発生
させることができた。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、微弱強度の円偏
光レーザーの注入によって、高出力強度の円偏光ＣＯ２
レーザービームを得ることができるので、余分な発振器
や増幅器を設備する必要がない。また、円偏光化素子を
直接用いないので、円偏光化素子自体の強度限界からの
制約によるＣＯ２レーザービームの出力強度が限定され
るという問題もなくなる。
光レーザーの注入によって、高出力強度の円偏光ＣＯ２
レーザービームを得ることができるので、余分な発振器
や増幅器を設備する必要がない。また、円偏光化素子を
直接用いないので、円偏光化素子自体の強度限界からの
制約によるＣＯ２レーザービームの出力強度が限定され
るという問題もなくなる。
したがって、上述したような高出力の円偏光ＣＯ２レー
ザービームを必要とする分野において極めて有用である
。
ザービームを必要とする分野において極めて有用である
。
第１図は本発明を実施するために用いた装置の系統図、
第２図、第３図はそれぞれ本発明の実施例で得られた高
出力ＣＯ２レーザービームの波形と偏光性を示す図、第
４図は従来の円偏光ＣＯ２レーザービームを得るための
装置の系統図である。 １１・・・・・・・・・注入光源、１２・・・・・・・
・・ＣＭ−ＣＯ２レーザー装置、１３・・・・・・・・
・パルス−ＣＯ２レーザー装置、１４．１５・・・・・
・・・・ＰＺＴ 、 １６・・・・・・・・・円偏光化
素子、１７・・・・・・・・・ＴＥＡ−Ｃｏ ２レ一ザ
ー発振器。 代理人弁理士 須 山 佐 − 同 井 上 誠 −第２図 ｌｙ ０円社 ・直線偏光 第 第４図
第２図、第３図はそれぞれ本発明の実施例で得られた高
出力ＣＯ２レーザービームの波形と偏光性を示す図、第
４図は従来の円偏光ＣＯ２レーザービームを得るための
装置の系統図である。 １１・・・・・・・・・注入光源、１２・・・・・・・
・・ＣＭ−ＣＯ２レーザー装置、１３・・・・・・・・
・パルス−ＣＯ２レーザー装置、１４．１５・・・・・
・・・・ＰＺＴ 、 １６・・・・・・・・・円偏光化
素子、１７・・・・・・・・・ＴＥＡ−Ｃｏ ２レ一ザ
ー発振器。 代理人弁理士 須 山 佐 − 同 井 上 誠 −第２図 ｌｙ ０円社 ・直線偏光 第 第４図
Claims (1)
- 横励起方式大気圧ＣＯ＿２レーザー発振器に、円偏光レ
ーザーを注入してモードマッチングさせることにより、
円偏光のＣＯ＿２レーザービームを発振させることを特
徴とする円偏光ＣＯ＿２レーザービームの発生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13218790A JP2526304B2 (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | 円偏光ｃｏ▲下２▼レ―ザ―ビ―ムの発生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13218790A JP2526304B2 (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | 円偏光ｃｏ▲下２▼レ―ザ―ビ―ムの発生方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0427186A true JPH0427186A (ja) | 1992-01-30 |
| JP2526304B2 JP2526304B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=15075432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13218790A Expired - Lifetime JP2526304B2 (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | 円偏光ｃｏ▲下２▼レ―ザ―ビ―ムの発生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2526304B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-22 JP JP13218790A patent/JP2526304B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2526304B2 (ja) | 1996-08-21 |
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