JPH04269812A - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板Info
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- JPH04269812A JPH04269812A JP3050259A JP5025991A JPH04269812A JP H04269812 A JPH04269812 A JP H04269812A JP 3050259 A JP3050259 A JP 3050259A JP 5025991 A JP5025991 A JP 5025991A JP H04269812 A JPH04269812 A JP H04269812A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属性磁性膜を蒸着す
るための非磁性の磁気ヘッド用非磁性基板に関するもの
である。
るための非磁性の磁気ヘッド用非磁性基板に関するもの
である。
【0002】
【従来技術】従来この種の用途のものとしては、チタン
酸バリウム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用さ
れていた。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体
と大きく異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥
離しやすく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラ
ックが発生することがあった。
酸バリウム、チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用さ
れていた。しかしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体
と大きく異なっていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥
離しやすく、また熱膨張率の差により応力が発生しクラ
ックが発生することがあった。
【0003】さらに、従来の材料は硬さが低く、特に高
保磁力テ−プ(いわゆるメタルテ−プ)が使用された場
合には、非磁性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性
が異なり、磁気テ−プとの摺動により発生する摩擦のた
めに偏摩耗等を引き起こし、磁気特性に変化をきたすと
いう問題があった。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッ
ドの寿命が短くなること、あるいは非磁性基板の変形や
割れ及び剥離を引き起こすといった欠点が顕著であった
。
保磁力テ−プ(いわゆるメタルテ−プ)が使用された場
合には、非磁性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性
が異なり、磁気テ−プとの摺動により発生する摩擦のた
めに偏摩耗等を引き起こし、磁気特性に変化をきたすと
いう問題があった。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッ
ドの寿命が短くなること、あるいは非磁性基板の変形や
割れ及び剥離を引き起こすといった欠点が顕著であった
。
【0004】本発明者等は上記の欠点を解決すべく酸化
物系セラミックスについて研究を進め、CoO及びNi
OまたはNiOを基本組成とした酸化物が有効であると
して既に開示した。(特開平01−287811、特開
平02−168602、特願平01−214206)さ
らに硬度や密度の向上を図るための添加材を検討し、C
oO、NiOを基本組成として、酸化マンガン、二酸化
チタン、アルミナ、カルシアのうち1種以上を0.1〜
5wt%添加した場合、及び1〜5wt%のイットリア
、0.1〜1%の窒化チタン、0.3〜2wt%の酸化
ホウ素のうち1種以上を添加した場合、あるいは1〜5
wt%の二酸化ケイ素を添加した場合の有効性を確認し
これらを開示した。(特開平02−94408、特願平
01−159622、特願平01−214208)
物系セラミックスについて研究を進め、CoO及びNi
OまたはNiOを基本組成とした酸化物が有効であると
して既に開示した。(特開平01−287811、特開
平02−168602、特願平01−214206)さ
らに硬度や密度の向上を図るための添加材を検討し、C
oO、NiOを基本組成として、酸化マンガン、二酸化
チタン、アルミナ、カルシアのうち1種以上を0.1〜
5wt%添加した場合、及び1〜5wt%のイットリア
、0.1〜1%の窒化チタン、0.3〜2wt%の酸化
ホウ素のうち1種以上を添加した場合、あるいは1〜5
wt%の二酸化ケイ素を添加した場合の有効性を確認し
これらを開示した。(特開平02−94408、特願平
01−159622、特願平01−214208)
【0
005】
005】
【問題点を解決するための手段】以上の問題点を解決す
るために、本発明者等はCoO及びNiOあるいはNi
Oを基本組成とした添加材の検討を更に続けた結果、該
組成物に対して周期表4b,5b,6b族の元素の硼化
物のうち少なくとも一種を0.1〜5wt%添加した場
合にも、上記の欠点を解決することを見い出した。従っ
て、本発明の目的は、具体的には蒸着した磁性膜構造体
に近い熱膨張率を有し、ビッカ−ス硬度が高く、さらに
他のヘッド構成材料間で過度の化学的侵食反応を起こさ
ない材料を提供することである。
るために、本発明者等はCoO及びNiOあるいはNi
Oを基本組成とした添加材の検討を更に続けた結果、該
組成物に対して周期表4b,5b,6b族の元素の硼化
物のうち少なくとも一種を0.1〜5wt%添加した場
合にも、上記の欠点を解決することを見い出した。従っ
て、本発明の目的は、具体的には蒸着した磁性膜構造体
に近い熱膨張率を有し、ビッカ−ス硬度が高く、さらに
他のヘッド構成材料間で過度の化学的侵食反応を起こさ
ない材料を提供することである。
【0006】
【発明の構成】即ち、本発明は、CoO及びNiOある
いはNiOを基本組成として、該組成物に対して周期表
4b,5b,6b族の元素の硼化物のうち少なくとも一
種を0.1〜5wt%添加したことを特徴とする磁気ヘ
ッド用非磁性基板を提供する。
いはNiOを基本組成として、該組成物に対して周期表
4b,5b,6b族の元素の硼化物のうち少なくとも一
種を0.1〜5wt%添加したことを特徴とする磁気ヘ
ッド用非磁性基板を提供する。
【0007】
【発明の具体的説明】本発明の理解を容易にするため具
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、NiO単独の酸
化物あるいはNiOとCoOの複合酸化物を意味し、例
えば、CoO/NiO(モル比)=0/100〜80/
20で、より好ましくは、CoO/NiO(モル比)=
3/97〜60/40である。
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、NiO単独の酸
化物あるいはNiOとCoOの複合酸化物を意味し、例
えば、CoO/NiO(モル比)=0/100〜80/
20で、より好ましくは、CoO/NiO(モル比)=
3/97〜60/40である。
【0008】上記組成物に対して、本発明は、周期表4
b,5b,6b族の元素の硼化物のうち少なくとも一種
を0.1〜5wt%添加する。周期表4b族(Ti,Z
r,Hf),5b族(V,Nb,Ta),6b族(Cr
,Mo,W)の元素の硼化物は、例えば、硼化ジルコニ
ウム、硼化タングステン、硼化クロム等である。これら
の物質は、粒成長抑制効果のある物質で、0.1wt%
以上の添加により粒径を抑制し、緻密化を進行させる。 しかも、それ自体が高硬度であるため、硬度の向上が期
待できる。しかしながら熱膨張率がNiO、CoOより
低く、添加量が5wt%を超えると、熱膨張率の調整が
困難となる。添加は、単独あるいは既に開示している添
加材との組み合わせも有効である。所望の硬度、熱膨張
率に対応した組み合わせを採用するのが望ましい。
b,5b,6b族の元素の硼化物のうち少なくとも一種
を0.1〜5wt%添加する。周期表4b族(Ti,Z
r,Hf),5b族(V,Nb,Ta),6b族(Cr
,Mo,W)の元素の硼化物は、例えば、硼化ジルコニ
ウム、硼化タングステン、硼化クロム等である。これら
の物質は、粒成長抑制効果のある物質で、0.1wt%
以上の添加により粒径を抑制し、緻密化を進行させる。 しかも、それ自体が高硬度であるため、硬度の向上が期
待できる。しかしながら熱膨張率がNiO、CoOより
低く、添加量が5wt%を超えると、熱膨張率の調整が
困難となる。添加は、単独あるいは既に開示している添
加材との組み合わせも有効である。所望の硬度、熱膨張
率に対応した組み合わせを採用するのが望ましい。
【0009】次に、基板の製造方法について記す。市販
の酸化物、硼化物を原料として、所望組成になるよう秤
量し、ボ−ルミルにより混合する。混合は例えばエタノ
−ル中湿式ボ−ルミルで10〜30時間行なう。乾燥後
、CIP成形し、例えばAr中850〜1100℃で仮
焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、100〜200μ
mの篩で篩分けを行なう。仮焼粉はさらに例えばエタノ
−ル中湿式ボ−ルミルで20〜72時間処理し、1μm
以下に微粉砕する。これを造粒後、CIP成形し、例え
ば酸素中1230〜1400℃で焼結し、その後、HI
P処理を行なう。HIP処理条件は、80〜120MP
a、1200〜1350℃、1〜2時間が望ましい。
の酸化物、硼化物を原料として、所望組成になるよう秤
量し、ボ−ルミルにより混合する。混合は例えばエタノ
−ル中湿式ボ−ルミルで10〜30時間行なう。乾燥後
、CIP成形し、例えばAr中850〜1100℃で仮
焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、100〜200μ
mの篩で篩分けを行なう。仮焼粉はさらに例えばエタノ
−ル中湿式ボ−ルミルで20〜72時間処理し、1μm
以下に微粉砕する。これを造粒後、CIP成形し、例え
ば酸素中1230〜1400℃で焼結し、その後、HI
P処理を行なう。HIP処理条件は、80〜120MP
a、1200〜1350℃、1〜2時間が望ましい。
【0010】このようにして得られた焼結体は、緻密で
岩塩型構造を有し、テ−プの摺動による摩擦やエッヂ部
の欠けが少なく従来の材料よりも優れていることが確認
できた。
岩塩型構造を有し、テ−プの摺動による摩擦やエッヂ部
の欠けが少なく従来の材料よりも優れていることが確認
できた。
【0011】以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例1】CoO、NiOを原料にCoO/NiO(
モル比)=35/65組成となるように調整し、これに
添加材として硼化ジルコニウムを表1のように混合した
。混合は、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで20時間行な
った。この混合粉をAr中1000℃で仮焼後、エタノ
−ルの湿式ボ−ルミルで40時間粉砕した。この粉砕粉
をCIP成形後酸素中1350℃で焼結した。これを1
250℃、100MPa、1時間のHIP処理を行なっ
た。焼結体の相対密度は、99%を超える値であった。
モル比)=35/65組成となるように調整し、これに
添加材として硼化ジルコニウムを表1のように混合した
。混合は、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで20時間行な
った。この混合粉をAr中1000℃で仮焼後、エタノ
−ルの湿式ボ−ルミルで40時間粉砕した。この粉砕粉
をCIP成形後酸素中1350℃で焼結した。これを1
250℃、100MPa、1時間のHIP処理を行なっ
た。焼結体の相対密度は、99%を超える値であった。
【0012】この実施例による焼結体の物性値を表1に
示す。物性値としては、熱膨張率(α:μm/m℃)と
ビッカース硬度(Hv)を選択した。
示す。物性値としては、熱膨張率(α:μm/m℃)と
ビッカース硬度(Hv)を選択した。
【0013】比較例として、従来の材料であるチタン酸
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
【表1】
熱膨張率は基本組成でほぼ決定され、本実施例の場
合、13.8±0.2μm/m℃となる。この数値は磁
性膜構造体とほぼ等価である。従って、表1より硼化物
の添加量は5wt%以内であることがわかった。
合、13.8±0.2μm/m℃となる。この数値は磁
性膜構造体とほぼ等価である。従って、表1より硼化物
の添加量は5wt%以内であることがわかった。
【0014】
【実施例2】CoO、NiOを原料にCoO/NiO(
モル比)=35/65組成となるように調整し、これに
添加材として硼化クロムを表2のように混合した。混合
は、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで20時間行なった。 この混合粉をAr中1000℃で仮焼後、エタノ−ルの
湿式ボ−ルミルで40時間粉砕した。この粉砕粉をCI
P成形後酸素中1350℃で焼結した。これを1250
℃、100MPa、1時間のHIP処理を行なった。焼
結体の相対密度は、99%を超える値であった。
モル比)=35/65組成となるように調整し、これに
添加材として硼化クロムを表2のように混合した。混合
は、エタノ−ル中湿式ボ−ルミルで20時間行なった。 この混合粉をAr中1000℃で仮焼後、エタノ−ルの
湿式ボ−ルミルで40時間粉砕した。この粉砕粉をCI
P成形後酸素中1350℃で焼結した。これを1250
℃、100MPa、1時間のHIP処理を行なった。焼
結体の相対密度は、99%を超える値であった。
【0015】この実施例による焼結体の物性値を表2に
示す。物性値としては、熱膨張率(α:μm/m℃)、
ビッカース硬度(Hv)を選択した。
示す。物性値としては、熱膨張率(α:μm/m℃)、
ビッカース硬度(Hv)を選択した。
【0016】比較例として、従来の材料であるチタン酸
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
バリウムと基本組成は同じで添加材の量を変えた場合の
物性値を併記した。
【表2】
熱膨張率は基本組成でほぼ決定され、本実施例の場
合、13.8±0.2μm/m℃となる。この数値は磁
性膜構造体とほぼ等価である。従って、表2より硼化物
の添加量は5wt%以内であることがわかった。
合、13.8±0.2μm/m℃となる。この数値は磁
性膜構造体とほぼ等価である。従って、表2より硼化物
の添加量は5wt%以内であることがわかった。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、(1)本組成の非
磁性基板は、熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同
等の特性を得ることができる。このため、磁性膜構造体
の剥離やクラックの発生を著しく防止できる。
磁性基板は、熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同
等の特性を得ることができる。このため、磁性膜構造体
の剥離やクラックの発生を著しく防止できる。
【0018】(2)さらに、硬度を高めることにより磁
気ヘッドの短寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑え
ることができ、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれ
ている利点がある。
気ヘッドの短寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑え
ることができ、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれ
ている利点がある。
Claims (1)
- 【請求項1】 CoO及びNiOあるいはNiOを基
本組成として、該組成物に対して周期表4b,5b,6
b族の元素の硼化物のうち少なくとも一種を0.1〜5
wt%添加したことを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基
板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3050259A JPH04269812A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3050259A JPH04269812A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04269812A true JPH04269812A (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=12853984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3050259A Pending JPH04269812A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04269812A (ja) |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3050259A patent/JPH04269812A/ja active Pending
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