JPH0491402A - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板Info
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- JPH0491402A JPH0491402A JP2203941A JP20394190A JPH0491402A JP H0491402 A JPH0491402 A JP H0491402A JP 2203941 A JP2203941 A JP 2203941A JP 20394190 A JP20394190 A JP 20394190A JP H0491402 A JPH0491402 A JP H0491402A
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Landscapes
- Hard Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
叉里勿夜五立互
本発明は、金属性磁性膜を蒸着するための非磁性の磁気
ヘッド用非磁性基板に関するものである。
ヘッド用非磁性基板に関するものである。
且米五登
従来この種の用途のものとしては、チタン酸バリウム、
チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されていた。し
かしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大きく異な
っていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しやすく、
また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが発生す
ることがあった。
チタン酸カルシウム、アルミナ等が使用されていた。し
かしながら、その熱膨張率が磁性膜構造体と大きく異な
っていたため、蒸着した磁性膜構造体が剥離しやすく、
また熱膨張率の差により応力が発生しクラックが発生す
ることがあった。
さらに、従来の材料は硬さが低く、特に高保磁力テープ
（いわゆるメタルテープ）が使用された場合には、非磁
性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、磁
気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗等
を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題があ
った。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が短
くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥離
を引き起こすといった欠点が顕著であった。
（いわゆるメタルテープ）が使用された場合には、非磁
性基板が磁性膜構造体と硬度及び耐摩耗性が異なり、磁
気テープとの摺動により発生する摩擦のために偏摩耗等
を引き起こし、磁気特性に変化をきたすという問題があ
った。特に硬度が低い場合には、磁気ヘッドの寿命が短
くなること、あるいは非磁性基板の変形や割れ及び剥離
を引き起こすといった欠点が顕著であった。
本発明者等は上記の欠点を解決すべく酸化物系セラミッ
クスについて研究を進め、Ｃ００及びＮｉＯまたはＮｉ
Ｏを基本組成とした酸化物が有効であるとして既に開示
した。
クスについて研究を進め、Ｃ００及びＮｉＯまたはＮｉ
Ｏを基本組成とした酸化物が有効であるとして既に開示
した。
（特願昭６３−４３０２８．特願平０１−３５１５０、
特願平Ｏさらに硬度や密度の向上を図るための添加材を
検討し、ＣａＯ、ＮｉＯを基本組成として、ＭｎＯ，、
ＡＩ、Ｏ，、ＣａＯのうち１種以上を０．１〜５ｗｔ％
添加した場合、及び１〜５ ｗ ｔ％のＹ、 Ｏ，，０
，１〜１％のＴｉＮ１０．３〜２ｗｔ％のＢ２Ｏ，のう
ち１種以上を添加した場合の有効性を確認しこれらを開
示した。（特開平０２−９４４０８．特願平０ｌ−１５
９６が必要となってきた。
特願平Ｏさらに硬度や密度の向上を図るための添加材を
検討し、ＣａＯ、ＮｉＯを基本組成として、ＭｎＯ，、
ＡＩ、Ｏ，、ＣａＯのうち１種以上を０．１〜５ｗｔ％
添加した場合、及び１〜５ ｗ ｔ％のＹ、 Ｏ，，０
，１〜１％のＴｉＮ１０．３〜２ｗｔ％のＢ２Ｏ，のう
ち１種以上を添加した場合の有効性を確認しこれらを開
示した。（特開平０２−９４４０８．特願平０ｌ−１５
９６が必要となってきた。
ＮｉＯを基本組成とした場合の添加材の例としては、Ｎ
ｉＯが９０〜９８モル％で、残部が部分安定化ジルコニ
ア又はＴ ｉ Ｏ，である組成物が開示されている。（
特開平０２−８０３５９）シかしながら、この場合のＴ
ｉ Ｏ，の添加量は２ｗｔ％を越え、その熱膨張率が
１３０〜１４１ Ｘ １０ ’となり、これ以上の熱膨
張率を有する磁性膜構造体に対応する材料が必要となっ
てきた。
ｉＯが９０〜９８モル％で、残部が部分安定化ジルコニ
ア又はＴ ｉ Ｏ，である組成物が開示されている。（
特開平０２−８０３５９）シかしながら、この場合のＴ
ｉ Ｏ，の添加量は２ｗｔ％を越え、その熱膨張率が
１３０〜１４１ Ｘ １０ ’となり、これ以上の熱膨
張率を有する磁性膜構造体に対応する材料が必要となっ
てきた。
以上の欠点について発明者等は、鋭意検討した結果以下
の発明をなした。
の発明をなした。
発明の構成
即ち、本発明は、Ｔ ｉ Ｏ，を００１〜２ｗｔ％含み
残部ＮｉＯからなることを特徴とする磁気ヘッド用非磁
性基板に関する。
残部ＮｉＯからなることを特徴とする磁気ヘッド用非磁
性基板に関する。
発明の詳細な説明
本発明は、具体的には１４５Ｘ１０°７／℃以上の熱膨
張率を有し、ビッカース硬度６００以上の特性を持ち、
さらに他のヘッド構成材料間で過度の化学的侵食反応を
起こさない材料を提供することが目的である。
張率を有し、ビッカース硬度６００以上の特性を持ち、
さらに他のヘッド構成材料間で過度の化学的侵食反応を
起こさない材料を提供することが目的である。
本発明者等は、かかる観点からＮｉＯを基本成分とした
場合の添加材を検討し、Ｔｉｅ。
場合の添加材を検討し、Ｔｉｅ。
を０．１〜２ｗｔ％含み残部ＮｉＯからなる場合に密度
及び硬度が向上することを見い出した。
及び硬度が向上することを見い出した。
Ｔ ｉ Ｏ，はそれ自体が高硬度のため、添加により硬
度の増加が期待できる。しかしながらあまり添加すると
熱膨張率がＮｉＯより低くなるため、添加量は２ｗｔ％
以内に抑えることを要する。
度の増加が期待できる。しかしながらあまり添加すると
熱膨張率がＮｉＯより低くなるため、添加量は２ｗｔ％
以内に抑えることを要する。
添加は、単独あるいは各々の組み合わせでも良好であり
、既に開示している添加材との組み合わせも有効である
。所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用す
るのが望ましい。
、既に開示している添加材との組み合わせも有効である
。所望の硬度、熱膨張率に対応した組み合わせを採用す
るのが望ましい。
以下、その製法を記す。
市販原料粉（Ｎ ｉ Ｏ）に所望量のＴｉｅ。
を添加し、ボールミルにより混合する。混合は例えばエ
タノール中湿式ボールミルで１０〜３０時間行なう。
タノール中湿式ボールミルで１０〜３０時間行なう。
乾燥後、ＣＩＰ成形し、例えばＡｒ中８５０〜１１００
℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜２
００μｍの篩で篩分けを行なう。
℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１００〜２
００μｍの篩で篩分けを行なう。
仮焼粉はさらに例えばエタノール中湿式ボールミルで２
０〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。
０〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。
これを造粒後、ＣＩＰ成形し、例えばＯ３中１２３０〜
１４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理を行なう。Ｈ
ＩＰ処理条件は、８００〜１２００ ｋｇ ／ ｃｎｆ
、１２００〜１３５０℃、１〜２時間が望ましい。
１４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理を行なう。Ｈ
ＩＰ処理条件は、８００〜１２００ ｋｇ ／ ｃｎｆ
、１２００〜１３５０℃、１〜２時間が望ましい。
このようにして得られた焼結体は、緻密で岩塩型構造を
有し、テープの摺動による摩擦やエッチ部の欠けが少な
〈従来の材料よりも優れていることが確認できた。
有し、テープの摺動による摩擦やエッチ部の欠けが少な
〈従来の材料よりも優れていることが確認できた。
［実施例１コ
ＮｉＯを原料にＴ ｉ Ｏ，を表１の割合で添− ら
− 加し混合した。これをＡｒ中１０００℃で仮焼後、エタ
ノールの湿式ボールミルで２２時間粉砕した。この粉砕
粉を造粒後、ＣＩＰ成形しＯ３中１３５０℃で焼結した
。なお、ＨＩＰ処理を行なわなくとも焼結体の密度は高
い値であった。
− 加し混合した。これをＡｒ中１０００℃で仮焼後、エタ
ノールの湿式ボールミルで２２時間粉砕した。この粉砕
粉を造粒後、ＣＩＰ成形しＯ３中１３５０℃で焼結した
。なお、ＨＩＰ処理を行なわなくとも焼結体の密度は高
い値であった。
焼結体の相対密度、ビッカース硬度（Ｈｖ）、熱膨張率
（α）を表１に示す。表中には、表１ 比較例としてＴ ｉ Ｏ，を含まないもの、ＴｉＯ３が
２ｗｔ％以上の３ｗｔ％、５ｗｔ％のものチタン酸バリ
ウムの特性をそれぞれ併記した。
（α）を表１に示す。表中には、表１ 比較例としてＴ ｉ Ｏ，を含まないもの、ＴｉＯ３が
２ｗｔ％以上の３ｗｔ％、５ｗｔ％のものチタン酸バリ
ウムの特性をそれぞれ併記した。
注；αの単位は、
０−７を省略する。
ＩＬの」Ｌ」
以上説明したように、（１）本組成の非磁性基板は、熱
膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特性を得る
ことができる。
膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特性を得る
ことができる。
このため、磁性膜構造体の剥離やクラックの発生を著し
く防止できる。
く防止できる。
（２）さらに、硬度を高めることにより磁気ヘッドの短
寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑えることができ
、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれている利点が
ある。
寿命化や非磁性基板の変形、割れ等を抑えることができ
、ヘッドの耐摩耗性、耐久性に特にすぐれている利点が
ある。
Claims (1)
- ＴｉＯ＿２を０．１〜２ｗｔ％含み残部ＮｉＯからなる
ことを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2203941A JPH0491402A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2203941A JPH0491402A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0491402A true JPH0491402A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16482218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2203941A Pending JPH0491402A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 磁気ヘッド用非磁性基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0491402A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8421302B2 (en) | 2009-09-29 | 2013-04-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Rotating electrical machine and coil |
-
1990
- 1990-08-02 JP JP2203941A patent/JPH0491402A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8421302B2 (en) | 2009-09-29 | 2013-04-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Rotating electrical machine and coil |
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