JPH04264512A - 光学装置及びこの光学装置が組込まれる画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、文字或いは画像等の
情報を処理する装置に係り、特に、光ビ−ムを偏向させ
ることで、情報を読取る装置或いは情報を再生する装置
、及び、これらの装置に組込まれる光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、デジタルＰＰＣ複写機及びレ−
ザプリンタ装置等の画像形成装置、レーザ刻印装置、或
いは、印刷原版製造装置等には、光源からの光ビ−ムを
対象物に照射するための光学装置が利用されている。こ
の場合、上記光ビ−ムは、光ビ−ムを連続的に変化され
る角度、且つ、所望の方向に反射できる偏向装置によっ
て、対象物の所望の位置に概ね直線として偏向される。

【０００３】上記光学装置は、光ビ−ムを発生する半導
体レ−ザ素子及びこのレ−ザ素子が発生する光ビ−ムの
光量を検知するためのモニタダイオードが一体的に組立
てられた光源、上記レ−ザ素子から発生される光ビ−ム
に所望の特性を与える光学レンズ群、上記所望の特性が
与えられた光ビ−ムを対象物に向かって偏向させる偏向
装置、及び、光ビ−ムを対象物の所望の位置に結像させ
る結像レンズ等を有している。また、この光学装置は、
上記対象物の第一の方向即ち主走査方向に偏向される光
ビ−ムにおける、副走査方向即ち主走査方向に直交する
方向に関する偏向開始位置即ち偏向開始時期を一致させ
るための水平同期検出装置を同一装置内に備えている。

【０００４】レ−ザ素子から発生された光ビ−ムは、光
学レンズ群を介して所望のビ−ム形状に整えられ、偏向
装置によって対象物に向かって偏向されて、結像レンズ
を介して対象物上の所望の位置に結像される。

【０００５】上記偏向装置によって偏向された光ビ−ム
の一部は、偏向装置から対象物までの光路（対象物の面
上における非画像領域）内の所定の位置に設けられた光
検出素子例えばフォトダイオードに対して上記偏向装置
の偏向周期に応じて周期的に入射され、光ビ−ムの偏向
開始位置或いは偏向開始時期即ち水平同期信号として検
出される。このフォトダイオードからの信号は、レ−ザ
素子を駆動する回路にフィ−ドバックされ、レ−ザ素子
から発生される次の光ビ−ムに関する偏向開始位置或い
は偏向開始時期を一致させるために利用され、光ビ−ム
の水平同期が整合される（合わせられる）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述した光学装置では
、光ビ−ムの水平同期を合わせるため水平同期を検出装
置、即ち、上記フォトダイオード、このフォトダイオ−
ドからの信号を制御回路或いは他の基準信号と同期させ
る回路等に転送する転送回路、それぞれの回路或いは素
子を結線する配線部材、及び、ノイズ対策部材等が配置
されることから装置が大型化する問題がある。また、こ
の水平同期検出装置は、光学装置に組込まれるレ−ザ駆
動回路或いは光偏向装置駆動回路等の電気部品とは別に
配置されることから、部品点数が増加しコストが増大す
る問題がある。この発明の目的は、光学装置に組込まれ
る水平同期検出装置を除去することにより、装置の小形
化及びコストの低減をはかるものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明は、上述問題点
に基づきなされたもので、光源と、この光源からの光ビ
−ムを対象物へ向かわせる偏向手段と、この偏向手段か
ら上記対象物へ向かう上記光ビ−ムに集束力を与えると
ともに、上記光ビ−ムに与えられた上記偏向角と上記対
象物上における光軸との間の距離とを比例させつつ結像
させる手段と、前記光源の近傍に配置され、前記光源か
ら発生される光量の変化を検出する手段と、前記偏向手
段から上記対象物へ向かう上記光ビ−ムの光路中であっ
て、上記光ビ−ムにおける主走査方向と上記光軸とを含
む面内の画像領域外、且つ、上記対象物上における上記
光ビ−ムが結像される位置であって、上記結像手段によ
って上記光ビ−ムに与えられた条件が満足される領域に
配置され、前記偏向手段によって偏向された上記光ビ−
ムの一部を前記結像手段及び前記偏向手段を介して前記
検出手段に向かって反射させる手段とを有する光学装置
を提供するものである。また、この発明によれば、光源
と、この光源からの光ビ−ムを対象物へ向かって偏向す
る手段と、この偏向手段によって偏向された上記光ビ−
ムを上記対象物に結像させる手段と、前記光源の近傍に
配置され、前記光源から発生される光量の変化を検出す
る手段と、前記偏向手段から前記結像手段へ向かう上記
光ビ−ムの光路中であって、主走査方向及び光軸を含む
面内、且つ、画像領域外に配置され、前記偏向手段によ
って偏向された上記光ビ−ムの一部を前記結像手段及び
前記偏向手段を介して前記検出手段に向かって反射させ
る手段とを有する光学手段と、上記光ビ−ムを利用して
上記対象物上に画像を形成する手段と、上記検出手段に
よって検出された反射光ビ−ムに基づいて前記画像形成
手段における画像形成の開始時期を規定する制御手段と
を含む画像形成装置が提供される。

【０００８】

【作用】光源からの光ビームは、偏向装置によって対象
物に向かって偏向される。この光ビ−ムの一部は、上記
偏向装置の偏向に対応して、光ビ−ムの主走査方向及び
副走査方向における到達位置を検出するために所定の位
置に設けられた反射装置に、周期的に導かれる。この周
期的な光ビ−ムは、上記反射装置によって反射され、実
質的に同一光路を介して光源に戻されて、光源と一体に
組立てられているモニタダイオードへ導かれる。モニタ
ダイオ−ドでは、上記反射光ビ−ムが入射される毎に、
モニタ出力を周期的に変化させる。このモニタダイオ−
ドの出力と所定の基準値とが比較されて、上記光ビ−ム
における偏向開始位置即ち偏向開始時期が検出される。 即ち、対象物に向かって偏向される光ビ−ムの水平同期
が検出される。従って、光学装置における光ビ−ムの水
平同期を検出する検出機構及び検出機構を形成する部材
が省略できる。

【０００９】

【実施例】以下に、図面を参照してこの発明の実施例を
説明する。

【００１０】図１によれば、画像形成装置例えば静電複
写プロセスが利用されているプリンタ装置２は、後述す
る走査対象物即ち感光体６０に対して記録すべき情報に
応じてＯＮ，ＯＦＦされたレ−ザビ−ムＬを提供するた
めの光学装置１０、及び、この光学装置１０からのレ−
ザビ−ムＬによって、記録すべき情報が電荷分布パタ−
ンの変化として提供される上記感光体６０を有する画像
形成部４を含んでいる。画像形成部４の内部には、上記
感光体６０を取巻くように、感光体６０に所定の電位を
与える帯電装置６２、上記感光体６０に形成された静電
潜像に顕像剤Ｔを供給し、上記静電潜像を顕像化する現
像装置６４、上記感光体６０上の顕像剤Ｔ（画像）を被
転写材Ｐ、例えば、複写用紙或いはフィルム等に転写す
る転写装置６６、上記感光体６０上に残った（転写され
なかった）上記顕像剤Ｔを除去するとともに、感光体６
０における電荷分布パタ−ンを概ね初期状態に戻すため
のクリ−ニング装置６８が配置されている。

【００１１】尚、上記感光体６０における転写装置６６
との接点即ち転写領域Ｓの上流（この図１では右側）及
び下流（この図１では左側）には、上記被転写材Ｐを上
記転写領域Ｓに供給する給紙機構６及び上記転写領域Ｓ
を介して顕像剤Ｔ（画像）が転写された転写材Ｐに上記
顕像剤Ｔを固着させるための定着装置８が、それぞれ配
置されている。また、上記プリンタ装置２は、上記感光
体６０、現像装置６４或いは給紙機構６等に加えて、こ
れらの装置或いは機構を付勢すためのる図示しない駆動
装置、及び、上記光学装置１０或いは上記駆動装置等に
電力を供給する図示しない電源ユニットを含んでいる。

【００１２】以下に、この画像形成装置即ちプリンタ装
置２の動作を簡単に説明する。図示しない画像情報出力
装置例えば電子計算機、ワ−ドプロセッサ等から出力さ
れた画像情報は、図示しないＣＰＵによって画像信号或
いは制御信号等に変換されて上記各装置及び機構に供給
される。ここで、上記それぞれの信号に応じて各装置及
び機構が駆動され、感光体６０に画像が形成され、被転
写材Ｐに転写されて、画像情報として出力される。

【００１３】より詳細には、帯電装置６２によって所望
の電位が与えられている上記感光体６０に対して、光学
装置１０から後述するビ−ム変調回路を介して、記録す
べき画像情報に従って強度変調され、即ち、記録すべき
情報に応じてＯＮ／ＯＦＦされているレ−ザビ−ムＬが
感光体６０の軸と平行な方向即ち主走査方向に沿って照
射される。レ−ザビ−ムＬが照射されることで、上記感
光体６０の表面における上記電荷の分布パタ−ンが変化
されて、静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像
装置６４から顕像剤即ちトナ−Ｔが供給されることで可
視化即ち現像されて、上記感光体６０にトナ−像（画像
）として再生される。このとき、感光体６０は、上記主
走査方向と直交する副走査方向に所定の速度で回転され
ることから、感光体６０の面上に画像が連続して形成さ
れる。

【００１４】上記感光体６０の回転即ち感光体６０に形
成された画像の移動に同期されて、給紙機構６から被転
写材即ち複写用紙Ｐが上記転写領域Ｓに給送される。こ
の用紙Ｐには、転写装置６６から感光体６０に印加され
る電圧によって、上記感光体６０上の上記画像即ちトナ
−Ｔが用紙Ｐに転写される。上記トナ−Ｔが転写され、
トナ−Ｔが静電的に付着している状態の用紙Ｐは、定着
装置８へ搬送される。用紙Ｐ及びトナ−Ｔは、定着８に
よって加熱及び加圧されることから、上記トナ−Ｔは用
紙Ｐに溶融定着されて、プリンタ装置２の外部へ排出さ
れる。図２〜図４には、図１における画像形成装置に組
込まれる光学装置の一実施例が示されている。

【００１５】光学装置１０は、レ−ザビ−ムＬを発生す
るレ−ザ素子１２ａ及びこのレ−ザ素子１２ａの背面か
ら発生されるモニタ光を検出するモニタダイオ−ド１２
ｂが一体的に組立てられている光源１２（図６に詳述す
る）、この光源１２から発生されるレ−ザビ−ムＬを所
望のビ−ム形状に整えるレンズ群、即ち、コリメ−トレ
ンズ２０、第１プラスチックレンズ２２、第２プラスチ
ックレンズ２４、及び、所望の方向に回転可能に形成さ
れた多面鏡２６（この実施例では、４面の反射面２６ａ
〜２６ｄが配置されている）を有し、レ−ザビ−ムＬを
像担持体即ち走査対象物６０に向かって偏向する偏向装
置２８を含んでいる。この光学装置１０はまた、偏向装
置２８（多面鏡２６）即ち反射面２６ａ〜２６ｄの回転
によって所望の角速度で偏向されたレ−ザビ−ムＬを上
記走査対象物即ち感光体６０に結像させる第３プラスチ
ックレンズ３０、このレンズ３０から所望の速度で偏向
された上記レ−ザビ−ムＬを上記感光体６０に向かって
折返す折返しミラ−３２、及び、上記感光体へ向かうレ
−ザビ−ムＬの一部をレ−ザビ−ムＬの水平同期を検出
するために光源１２に向かって反射させる水平同期検出
ミラ−３４を含んでいる。この水平同期検出ミラ−３４
は、光学装置１０における上記所望の位置に、一体に或
いは別部材によって形成されている。尚、上記折返しミ
ラ−３２の一端部には、上記感光体６０へ向かうレ−ザ
ビ−ムＬの一部を上記水平同期検出ミラ−３４に向かっ
て反射させるための反射面３２ａが形成されている。ま
た、上記第３プラスチックレンズ３０には、感光体６０
に結像されたレ−ザビ−ムＬの位置と光軸Ｏとの間の距
離即ち像高をｈ、焦点距離をｆ、偏向装置２８における
反射面２６の回転によって偏向されたレ−ザビ−ムＬと
光軸Ｏとのなす角をθとするとき、ｈ＝ｆθを満足でき
る光学特性が与えられている。

【００１６】上記光源１２からのレ−ザビ−ムＬは、上
記レンズ群即ちガラスレンズ２０、第１プラスチックレ
ンズ２２、及び、第２プラスチックレンズ２４を通過す
ることで、例えば、レ−ザビ−ムＬにおけるビ−ム断面
形状、ビ−ム径等が所望の特性に整えられる。このレ−
ザビ−ムＬは、偏向装置２８に一体に組立てられている
多面鏡２６によって反射され、上記第３プラスチックレ
ンズ３０を介して上記角度θと上記像高ｈとが比例され
る。このレンズ３０を通過したレ−ザビ−ムＬは、折返
しミラ−３２によって折返されて、上記感光体６０の所
望の位置、即ち、感光体６０の軸と平行な方向に実質的
に直線として導かれる。尚、この偏向装置２８では、上
記多面鏡２８即ち反射面２６ａ〜２６ｄにかえて、ガリ
バノミラ−が利用されてもよい。また、フォログラム偏
向装置が利用されても良い。

【００１７】より詳細には、上記レ−ザビ−ムＬは、ガ
ラスレンズ２０によって平行ビ−ムにされる。一方、第
１プラスチックレンズ２２を介して、第１の方向即ち主
走査方向断面が平行ビ−ムに、主走査方向に直交する副
走査方向におけるビ−ム断面が集束ビ−ムに変換される
。 レンズ２２を通過したレ−ザビ−ムＬは、第２プラスチ
ックレンズ２４によって、上記主走査方向及び副走査方
向ともに、さらに集束性が与えられる。尚、レンズ３０
は、既に説明したように、偏向装置２８によって偏向さ
れた上記レ−ザビ−ムＬが感光体６０上のどこに結像さ
れた場合であっても、感光体６０上におけるビ−ム径を
概ね均一にできるレンズである。上記第３プラスチック
レンズ３０によって、上記感光体６０上のレ−ザビ−ム
Ｌが到達される位置ｈと上記レ−ザビ−ムＬと光軸Ｏと
のなす角θとが比例するよう、例えば、レンズ３０にお
ける中心（光軸Ｏ）付近では、短い焦点距離が与えられ
、レンズ３０の周辺（レンズ端部）付近では、長い焦点
距離が与えられる。

【００１８】上記偏向装置２８の反射面２６ａ，２６ｂ
，２６ｃ，２６ｄで反射されたレ−ザビ−ムＬの一部は
、上記折返しミラ−３２の一端部に配置されている上記
反射面３２ａによって上記水平同期検出ミラ−３４へ導
かれる。このレ−ザビ−ムＬの一部は、上記水平同期検
出ミラ−３４によって、概ね入射時と同じ方向に反射さ
れて、上記レ−ザビ−ムＬが偏向される周期毎に、上記
光源１２に組込まれているモニタダイオ−ド１２ｂに向
かって反射される。

【００１９】この水平同期検出ミラ−３４は、既に説明
したように、このレ−ザビ−ムＬが画像として照射され
、或いは、画像が存在しているとして規定されている領
域よりも外側の領域に配置されている。

【００２０】より詳細には、水平同期検出ミラ−３４が
配置される位置は、上記ｈ＝ｆθを満足する第３プラス
チックレンズ３０によって規定される上記ｈと上記偏向
装置２８の反射面２６との間の距離に実質的に等しい位
置である。また、この位置は、上記偏向装置２８の各反
射面（２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ）に関する各反
射面と光軸Ｏとの主走査方向における角度のズレ（反射
面の面倒れ）に起因するレ−ザビ−ムＬの振れ（揺れ）
が最小になる位置、即ち、感光体６０上に結像される上
記レ−ザビ−ムＬが主走査方向において結像されるべき
所定ラインからの変位（ズレ）が最小となる位置である
。尚、上記ミラ−３４が配置される位置は、以下に述べ
る位置であってもよい。即ち、ミラ−３４は、上記ｈ＝
ｆθに関連するパラメ−タであって、ｄｈ／ｄθ＝ｆ，
ｄｆ／ｄθ＝０及びｆ＝一定の条件で示されるｆθ特性
が所望の値を満足する位置であってもよい。

【００２１】図５によれば、上記水平同期検出ミラ−３
４の位置及び光学素子２０，２２，２４，２６及び３０
等の位置関係が模式的に示されている。図５から明らか
なように、光源即ちレ−ザ素子１２と感光体６０は、距
離Ｄで配置されている。このレ−ザ１２と感光体６０と
の間には、レ−ザ１２の側から、ガラスレンズ２０、第
１及び第２プラスチックレンズ２２，２４、偏向装置２
８即ち反射面２６ａ〜２６ｄ、第３プラスチックレンズ
３０及び折返しミラ−３２が順に配置されている。

【００２２】偏向装置２８に含まれている多面鏡２６即
ち反射面２６ａ〜２６ｄは、レ−ザ１２　（レンズ２４
）　からのレ−ザビ−ムＬを光軸Ｏを中心として両側（
主走査方向）に偏向できる。この場合、反射面２６ａ〜
２６ｄにおける光軸Ｏと感光体６０における光軸Ｏとの
間の距離は、最も短くなる。一方、上記感光体６０上の
レ−ザビ−ムＬが到達されるべき位置が上記光軸Ｏから
離れるにつれて、上記反射面２６ａ〜２６ｄと上記感光
体６０との間の距離は長くなる。 このことから、レンズ３０に要求される屈折力は、既に
説明したように光軸Ｏ上において最も強く、感光体６０
における周辺部に向かうにつれて弱く規定される。即ち
、レンズ３０における屈折力は、上記偏向装置２８即ち
反射面２６ａ〜２６ｄの回転角に拘らず、レ−ザビ−ム
Ｌが結像される位置ｈを比例させることのできる焦点距
離ｆが規定される。

【００２３】以上のことから、上記水平同期検出ミラ−
３４は、 ａ）上記ｈ＝ｆθを満たす領域のいづれかであって、ｂ
）感光体６０上に規定されるレ−ザビ−ムＬの軌跡に一
致されるとともに、 ｃ）ｄｈ／ｄθ＝ｆ，ｄｆ／ｄθ＝０及びｆ＝一定の条
件が満足される、即ちｆθ特性が良好な位置に配置され
る。

【００２４】尚、折返しミラ−３２の一部である反射面
３２ａは、水平同期検出ミラ−３４に対して上記ａ）〜
ｃ）を満足させるようレ−ザビ−ムＬを反射できる位置
に配置される。また、ミラ−３４の位置は、上記ａ）〜
ｃ）の全てを満足し、或いは、いづれかを満足する位置
であってもよいことはいうまでもない。図６には、図２
〜図４に示されている光学装置に組込まれる光源につい
て詳述されている。

【００２５】光源１２は、レ−ザ素子１２ａ、この素子
１２ａに密着配置され、素子１２ａが発生する熱を放熱
するヒ−トシンク１４、素子１２ａの裏面から放射され
るモニタビ−ムを検出するモニタダイオ−ド１２ｂ、上
記素子１２ａ、ヒ−トシンク１４及びモニタダイオ−ド
１２ａを収容するケ−ス１６、及び、これらの素子を防
塵のため密閉するカバ−ガラス１８を備えている。

【００２６】図７によれば、プリンタ装置２は、光学装
置１０の内部或いは光学装置１０の近傍に、この光学装
置１０に含まれている光源１２から発生されるレ−ザビ
−ムＬの光量を制御するレ−ザビ−ム光量制御装置（以
下ビ−ムコントロ−ラとする）４８を有している。この
ビ−ムコントロ−ラ４８は、上記レ−ザ素子１２ａを付
勢するためのレ−ザ駆動電流Ｉｄを供給するためのレ−
ザ駆動回路（以下、レ−ザドライバとする）５０、上記
モニタダイオ−ド１２ｂから出力されるモニタ電流Ｉｍ
を利用してレ−ザビ−ムＬに関する比較的長周期の光量
の変化を検出するためのビ−ム光量検出回路（以下光量
検出回路）５２、この光量検出回路５２からの出力Ｓｉ
と図示しない基準電圧入力点から入力される所望の基準
値と比較することで、上記レ−ザドライバ５０からレ−
ザ素子１２ａに供給されるレ−ザ駆動電流Ｉｄの大きさ
を制御する自動光量制御回路（Ａ．Ｐ．Ｃ．＝Ａｕｔｏ
ｍａｔｉｃ　Ｐｏｗｅｒ　Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）５４
を含んでいる。また、上記ビ−ムコントロ−ラ４８には
、上記感光体６０へ向かうレ−ザビ−ムＬの一部であっ
て、上記偏向装置２８の各反射面２６ａ，２６ｂ，２６
ｃ，２６ｄによって偏向され、上記水平同期検出ミラ−
３４で反射されて、上記モニタダイオ−ド１２ｂに対し
て戻される反射レ−ザビ−ムｌを検出するための位置検
出回路５６、及び、この位置検出回路５６からの出力信
号Ｓｐに基づいて水平同期を監視するとともに、上記Ａ
．Ｐ．Ｃ．５４及びレ−ザドライバ５０に対して、上記
レ−ザ素子１２ａを付勢するためのタイミング信号Ｓｔ
を供給するレ−ザビ−ム変調回路５８が配置されている
。上記位置検出回路５６では、上記水平同期検出ミラ−
３４を介して反射される上記レ−ザ素子１２ａにおける
光量の変化に比べて比較的短周期で変化する上記反射レ
−ザビ−ムｌが検出される。尚、上記レ−ザビ−ム検出
回路５２の検出感度は上記位置検出回路５６よりも高く
設定されている。上記レ−ザビ−ム検出回路５２では、
上記モニタ電流Ｉｍに含まれている上記位置検出回路５
６で検出される反射レ−ザビ−ムｌの周期に比べて比較
的長い周期を有しているレ−ザ素子１２ａからの発光量
の変動が検出される。また、上記光学装置１０には、上
記偏向装置２８の一部分であって、多面鏡２６を所望の
速度で回転させるモ−タ２８ａが組込まれていることか
ら、このビ−ムコントロ−ラ４８には、上記モ−タ２８
ａを付勢するためのモ−タ駆動回路４６も一体に組込ま
れている。

【００２７】尚、この発明のプリンタ装置２では、上記
ビ−ムコントロ−ラ４８及びモ−タドライバ４６は、上
記光学装置１０の外部に配置される例が示されているが
、光学装置１０に一体に組込まれても良いことはいうま
でもない。また、上記ビ−ムコントロ−ラ４８は、プリ
ンタ装置２を制御するための図示しない主制御装置に組
込まれてもよい。

【００２８】次に、図２〜図４を用いて光学装置１０に
おけるレ−ザビ−ムＬの光学的動作を説明する。光源１
２即ちレ−ザ素子１２ａから発生されたレ−ザビ−ムＬ
は、ガラスレンズ２０によってコリメ−トされる。この
レ−ザビ−ムＬは、第１プラスチックレンズ２２及び第
２プラスチックレンズ２４によって集束性を有するビ−
ムに変換され、偏向装置２８即ち多面鏡２６へ導かれる
。上記レ−ザビ−ムＬは、多面鏡２６即ち反射面２６ａ
，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄの回転によって偏向され、第
３プラスチックレンズ３０へ入射される。このレンズ３
０へ導かれた上記レ−ザビ−ムＬは、上記レンズ３０に
よってｈ＝ｆθを満足させるよう集束性が与えられると
ともに、上記折返しミラ−３２及びこの折返しミラ−の
一端部に配置されている反射面３２ａによって、それぞ
れ、上記感光体６０及び水平同期検出ミラ−３４に向か
って反射される。

【００２９】上記折返しミラ−３２で反射されたレ−ザ
ビ−ムＬは、透明な材質、例えば、ガラス、プラスチッ
クなどによって形成され、プリンタ装置２における画像
形成部４で利用される顕像剤Ｔ、埃またはゴミ等が上記
レンズ群及びミラ−群に付着することを防止するための
防塵カバ−３６を通過して上記感光体６０へ結像される
。

【００３０】尚、上記防塵カバ−３６は、上記感光体６
０に固有の吸収感度に対して有害な波長を有するレ−ザ
ビ−ムを遮断するために、特定の波長のみを透過させる
フィルタガラスが利用されても良い。

【００３１】一方、折返しミラ−３２の一端部に配置さ
れている反射面３２ａによって上記感光体６０とは異な
る方向即ち水平同期検出ミラ−３４に向かって反射され
た上記多面鏡２６即ち各反射面２６ａ，２６ｂ，２６ｃ
，２６ｄの回転に対応して周期的に反射ミラ−３４へ導
かれる上記レ−ザビ−ムＬは、レ−ザビ−ムＬをレ−ザ
素子１２ａから上記反射ミラ−３４へ導く光路とほぼ同
一の光路を介してモニタダイオ−ド１２ｂへ戻される。

【００３２】より詳細には、上記レ−ザビ−ムＬは、偏
向装置２８即ち多面鏡２６によって主走査方向の偏向開
始点から偏向終了点までの１ラインに亘って偏向される
際に、この１ラインの延長線上（主走査方向に関する）
の画像領域外の所定の位置に配置されている上記反射ミ
ラ−３４によって、１ライン或いは１スキャン毎に１回
だけ反射される。従って、上記ミラ−３４で反射された
レ−ザビ−ムｌを上記光源１２に一体に組込まれている
モニタダイオ−ド１２ｂで拾い出すことで、感光体６０
に向かって偏向されるレ−ザビ−ムＬの水平同期を検出
することが可能になる。

【００３３】レ−ザ素子１２ａから発生された記録信号
すべき情報に基づいて強度変調されているレ−ザビ−ム
Ｌは、ガラスレンズ２０、第１及び第２のプラスチック
レンズ２２及び２４を通過し、偏向装置２８によって偏
向され、第３プラスチックレンズ３０及び折返しミラ−
３４によって感光体６０の所望の位置に結像される。ま
た、上記折返しミラ−３２は、その一端部即ち感光体６
０へ向かう主走査方向及び光軸を含む面、且つ、画像領
域外の部分が、異なる角度を有する反射面３２ａに形成
されている。従って、レ−ザビ−ムＬの一部は、反射面
３２ａを介して、モニタダイオ−ド１２ｂに向かってレ
−ザビ−ムＬを反射させるための反射ミラ−３４に向か
って周期的に反射される。このことから、この反射ミラ
−３４に導かれたレ−ザビ−ムＬは、反射レ−ザビ−ム
ｌとなって、再び、折返しミラ−３２ａ（３２）、第３
プラスチックレンズ３０、偏向装置２８、第２及び第１
プラスチックレンズ２４，２２、及び、ガラスレンズ２
０を経由して、偏向装置２８即ち多面鏡２６の偏向動作
毎に、上記モニタダイオ−ド１２ｂに周期的に戻される
。

【００３４】上記レ−ザ素子１２ａには、レ−ザドライ
バ５２によって、記録すべき情報に応じて強度が変化さ
れているレ−ザ駆動電流Ｉｄが供給される。この駆動電
流Ｉｄに応じてレ−ザ素子１２ａから連続的に変化され
ているレ−ザビ−ムＬが発生される。同時に、このレ−
ザ素子１２ａの背面からレ−ザビ−ムＬの温度変化によ
る発光量の変動に対応し、比較的長周期で変動するモニ
タレ−ザビ−ムが発生される。このモニタビ−ムは、モ
ニタダイオ−ド１２ｂで検出されて、比較的長周期で変
動するモニタ電流Ｉｍｆが発生される。ところで、この
モニタダイオ−ド１２ｂには、上記レ−ザ素子１２ａか
ら上記感光体６０へ向かう光路中に配置されている折返
しミラ−３２の一部である反射面３２ａ及びこの反射面
３２ａに対してレ−ザビ−ムＬを周期的に反射させる水
平同期検出ミラ−３４によって反射された周期的な反射
レ−ザビ−ムｌも導かれる。従って、上記モニタダイオ
−ド１２ｂから出力される上記モニタ電流Ｉｍには、上
記水平同期検出ミラ−３４によって導かれ、上記偏向装
置２８によるレ−ザビ−ムＬの偏向動作に対応した比較
的短周期で変動する反射レ−ザビ−ムｌに基づいて発生
されるモニタ電流Ｉｍｒも含まれる。換言すると、上記
モニタダイオ−ド１２ｂから出力されるモニタ電流Ｉｍ
は、上記レ−ザ素子１２ａから発生されたレ−ザビ−ム
Ｌに対応した比較的長周期で変動する電流Ｉｍｆと上記
反射レ−ザビ−ムｌが入射されることで発生される比較
的短周期で変動する電流Ｉｍｒとによって構成される。

【００３５】上記レ−ザビ−ム検出回路５２によって検
出された上記レ−ザ素子１２ａの発光量変化を著す光量
信号Ｓｉは、レ−ザ素子１２ａから発生される光量を調
整するためのＡ．Ｐ．Ｃ．５４に対して出力される。上
記光量信号Ｓｉは、このＡ．Ｐ．Ｃ．５４によって、図
示しない基準値入力点から入力された所望の基準値と比
較され、レ−ザ素子１２ａから発光されるレ−ザビ−ム
Ｌの発光量を制御するための光量制御信号Ｓｃに変換さ
れる。この光量制御信号Ｓｃは、レ−ザドライバ５２へ
供給され、レ−ザ駆動電流Ｉｄの大きさが変化されて、
レ−ザ素子１２ａから発光されるレ−ザビ−ムＬに関す
る比較的長周期の変動を低減させるために利用される。

【００３６】一方、位置検出回路５６では、上記偏向装
置２８による偏向動作に対応した反射レ−ザビ−ムｌが
反射ミラ−３４からモニタダイオ−ド１２ｂへ戻された
ことが検出され、レ−ザビ−ム位置信号（以下位置信号
とする）Ｓｐがレ−ザビ−ム変調回路５８へ出力される
。この位置信号Ｓｐは、モニタダイオ−ド１２ｂへ戻さ
れたレ−ザビ−ムｌの位置が主走査方向及び副走査方向
における偏向開始位置即ち偏向開始時期を検出するため
に配置されている水平同期検出ミラ−３４に到達したこ
とを示すことから、レ−ザビ−ムＬに関する偏向開始時
期即ち水平同期が検出される。レ−ザビ−ム変調回路５
８は、上記位置信号Ｓｐを基準にして、上記Ａ．Ｐ．Ｃ
．５４及びレ−ザドライバ５２を駆動させるタイミング
信号Ｓｔ２を発生させる時期を規定するとともに、上記
タイミング信号Ｓｔ２を供給する。また、このレ−ザビ
−ム変調回路５８は、上記位置信号Ｓｐに基づいて上記
Ａ．Ｐ．Ｃ．５４におけるサンプルホ−ルド（多くのプ
リンタ装置では、この種のＡ．Ｐ．Ｃ．によるレ−ザビ
−ムＬの光量の安定化は、感光体６０に対してレ−ザビ
−ムＬが照射される時間であって、１ライン分或いは１
ペ−ジ分を露光する間の時間は、ホ−ルド＝固定される
）のためのタイミング信号Ｓｔ１　として利用される。 換言すれば、上記Ａ．Ｐ．Ｃ．５４におけるサンプルホ
−ルドのタイミングも上記ミラ−３４からの反射レ−ザ
ビ−ムｌに基づいて規定される。この結果、上記レ−ザ
ドライバ５２が駆動され、次のライン（主走査方向に関
する）を露光するためのレ−ザビ−ムＬを光源１２から
発生させるために利用される。尚、上記位置検出回路５
６は、上記レ−ザ素子１２ａに基づいて発生され、比較
的長周期で変動するモニタ電流Ｉｍｆを遮断するための
フィルタを有している。従って、上記反射レ−ザビ−ム
ｌがモニタダイオ−ド１２ｂへ戻されたことが位置検出
回路５６によって確実に検出される。このことから、レ
−ザ素子１２ａから感光体６０へ向かうレ−ザビ−ムＬ
の水平同期が位置検出回路５６によって容易に検出され
る。

【００３７】以上説明したように、レ−ザ素子１２ａか
ら感光体６０へ向かうレ−ザビ−ムＬの一部を（光源１
２として）レ−ザ素子１２ａと一体に組立てられている
モニタダイオ−ド１２ｂで検出し、位置信号Ｓｐを発生
させることで、レ−ザビ−ムＬに関する偏向開始位置即
ち偏向開始時期が一致され、レ−ザビ−ムＬの水平同期
が整合される。

【００３８】図８（ａ）〜８（ｃ）から明らかなように
、上記モニタ電流Ｉｍにおける上記反射レ−ザビ−ムｌ
に基づく成分Ｉｍｒは、感光体６０へ向かうレ−ザビ−
ムＬに基づく成分Ｉｍｆに比べて極めて短い時間の範囲
で発生される。（水平同期検出ミラ−３４及びミラ−３
４に向かってレ−ザビ−ムＬを折返す反射面３２ａのそ
れぞれを光軸上に配置した実験装置によれば、上記Ｉｍ
ｒは、主走査方向における偏向周波数＝３４４Ｈｚ毎に
発生される。）

【００３９】より詳細には、上記モニタ
電流Ｉｍは、図８（ａ）に示されているような波形とし
て検出される。このモニタ電流Ｉｍは、図８（ｂ）及び
（ｃ）に示されているように、上記ミラ−３４からの反
射レ−ザビ−ムｌに基づく電流Ｉｍｒ、及びＡ．Ｐ．Ｃ
．５４における光量補償のための出力電流　Ｉｍｆに分
離できる。また、図８（ｄ）及び（ｅ）には、実際のレ
−ザビ−ム制御に利用されるタイミングの例が示されて
いる。図８（ｄ）は、上記１ライン乃至１ペ−ジ分の露
光に際して一定に維持されるＡ．Ｐ．Ｃ．５４の出力値
をホ−ルドさせるためのレベルを規定するための時間即
ちサンプリングタイミングを、図８（ｅ）は、感光体６
０に対して情報が露光される時間を、それぞれ示してい
る。

【００４０】ところで、上記図２〜４に示されている光
学装置では、上記複数の光学素子、例えば、ガラスレン
ズ２０、第１及び第２プラスチックレンズ２２，２４、
偏向装置２８及び第３プラスチックレンズ３０が有する
、入射及び出射瞳、レンズ群及びミラ−による収差等さ
まざまな光学特性による影響を受けることから、反射レ
−ザビ−ムｌの光路及び反射レ−ザビ−ムｌの径が変化
される虞れがある。

【００４１】一例を開示すると、上記光学装置において
、レンズ群に収差が存在する場合には、上記モニタダイ
オ−ド１２ｂへ戻される反射レ−ザビ−ムｌのビ−ム径
は、通常の光学装置に比較して大きなビ−ム径となる。 このことは、水平同期検出ミラ−３４から反射された反
射レ−ザビ−ムｌを上記モニタ電流Ｉｍに含まれている
短周期の変化として検出する際に、反射レ−ザビ−ムｌ
が反射された位置即ち水平同期を検出できる精度が僅か
に低下されることを示している。その一方で、反射レ−
ザビ−ムｌのビ−ム径が大きくなることから、上記位置
検出回路５６の感度を低く抑えることが可能となる。従
って、上記光学素子に固有の入射及び出射瞳、レンズ群
及びミラ−による収差等さまざまな光学特性を、実質的
に利用可能な範囲まで補正することで、比較的精度の低
い光学装置が利用される場合であっても、良好な水平同
期の検出が可能になる。図９には、図２乃至４に記載さ
れている光学装置の変形例が示されている。同一の素子
には、同一の符号を付して説明する。

【００４２】光学装置　１１０は、レ−ザビ−ムＬを発
生するレ−ザ素子１２ａ及びこのレ−ザ素子１２ａの背
面から発生されるモニタ光を検出するモニタダイオ−ド
１２ｂが一体的に組立てられている光源１２、この光源
１２から発生されるレ−ザビ−ムＬを所望のビ−ム形状
に整えるレンズ群、即ち、コリメ−トレンズ２０、第１
プラスチックレンズ２２、第２プラスチックレンズ２４
、及び、所望の方向に回転可能に形成された多面鏡２６
（４面の反射面２６ａ〜２６ｄ）を有し、レ−ザビ−ム
Ｌを像担持体即ち走査対象物６０に向かって偏向する偏
向装置２８を含んでいる。上記第１及び第２プラスチッ
クレンズ２２，２４には、上記感光体６０に向かうレ−
ザビ−ムＬに対して主走査方向或いは副走査方向のいづ
れか一方或いは両方向ともに、平行ビ−ムに維持させた
状態で偏向装置２８へ導くことのできる光学特性が与え
られている。

【００４３】この光学装置　１１０はまた、偏向装置２
８即ち多面鏡２６（反射面２６ａ〜２６ｄ）の回転によ
って所望の角速度で偏向されたレ−ザビ−ムＬを上記走
査対象物即ち感光体６０に結像させる第３プラスチック
レンズ３０、及び、このレンズ３０から所望の速度で偏
向された上記レ−ザビ−ムＬを上記感光体６０に向かっ
て折返す折返しミラ−３２を含んでいる。また、上記偏
向装置２８と上記第３プラスチックレンズ３０との間に
は、上記感光体６０へ向かうレ−ザビ−ムＬの一部をレ
−ザビ−ムＬの水平同期を検出するために光源１２に向
かって反射させる水平同期検出ミラ−　１３８が配置さ
れている。尚、光源１２には、図６に示されている素子
と実質的に同等の素子が利用されている。また、上記第
３プラスチックレンズ３０には、上記第１及び第２プラ
スチックレンズ２２，２４によって主走査方向或いは副
走査方向のいづれか一方或いは両方向が平行ビ−ムに維
持されている上記レ−ザビ−ムＬに対して集束性を与え
るとともに、上記感光体６０上に導かれたレ−ザビ−ム
Ｌの位置と光軸Ｏとの間の距離即ち像高をｈ、焦点距離
をｆ、偏向装置２８における反射面２６の回転によって
偏向されたレ−ザビ−ムＬと光軸Ｏとのなす角をθとす
るとき、ｈ＝ｆθを満足できる光学特性が与えられてい
る。

【００４４】光源１２即ちレ−ザ素子１２ａから発生さ
れたレ−ザビ−ムＬは、ガラスレンズ２０によってコリ
メ−トされる。このレ−ザビ−ムＬは、第１及び第２プ
ラスチックレンズ２２，２４によって主走査方向或いは
副走査方向の少なくとも一方が平行ビ−ムに変換され、
偏向装置２８即ち多面鏡２６へ導かれる。

【００４５】上記レ−ザビ−ムＬは、多面鏡２６即ち反
射面２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄの回転によって偏
向され、第３プラスチックレンズ３０へ入射される。こ
のレンズ３０へ導かれた上記レ−ザビ−ムＬは、上記レ
ンズ３０によってｈ＝ｆθを満足させるよう集束性が与
えられるとともに、上記折返しミラ−３２によって上記
感光体６０に向かって反射される。

【００４６】上記折返しミラ−３２で反射されたレ−ザ
ビ−ムＬは、透明な材質、例えば、ガラス、プラスチッ
クなどによって形成され、プリンタ装置２における画像
形成部４で利用される顕像剤Ｔ、埃またはゴミ等が上記
レンズ群及びミラ−群に付着することを防止するための
防塵カバ−３６を通過して上記感光体６０へ結像される
。

【００４７】一方、上記レ−ザビ−ムＬの一部は、上記
偏向装置２８と第３プラスチックレンズ３０との間に配
置されている水平同期検出ミラ−　１３８によって、上
記レ−ザビ−ムＬをレ−ザ素子１２ａから上記反射ミラ
−　１３８へ導く光路とほぼ同一の光路を介して上記多
面鏡２６即ち各反射面２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ
の回転に対応して周期的に、モニタダイオ−ド１２ｂへ
戻される。換言すると、上記レ−ザビ−ムＬは、偏向装
置２８即ち多面鏡２６によって主走査方向の偏向開始点
から偏向終了点までの１ラインに亘って偏向される際に
、上記反射ミラ−　１３８によって、１ライン毎に反射
される。従って、上記ミラ−　１３８で反射された反射
レ−ザビ−ムｌを上記光源１２に一体に組込まれている
モニタダイオ−ド１２ｂで拾い出すことで、感光体６０
に向かって偏向されるレ−ザビ−ムＬの水平同期を検出
することが可能になる。

【００４８】以上のことから、上記光学装置　１１０が
利用される場合には、上記光源１２から上記反射ミラ−
　１３８へ向かう光路と上記反射１３８から上記光源１
２へ戻る光路は、既に説明した図２〜４に示されている
光学装置１０に比較して短く形成される。このことは、
上記光源１２へ戻る反射レ−ザビ−ムｌの光量を十分に
確保できるとともに、上記光学素子群、例えば、ガラス
レンズ２０、第１及び第２プラスチックレンズ２２，２
４等による収差等の影響を受けにくく形成できる。

【００４９】図１０によれば、コンピュ−タ等に接続さ
れ、画像情報を入力するために利用される画像入力装置
即ち画像読取装置７０は、読取対象物、例えば、フィル
ム或いは透光性の原稿Ｄに含まれている画像情報を読出
すために利用されるレ−ザビ−ムＬを発生し、原稿Ｄに
向かって伝達する光学装置７２、透明な支持体例えばガ
ラスで形成され、上記原稿Ｄが載置される原稿載置台８
４、この載置台８４の一端部に配置され、上記光学装置
７２からのレ−ザビ−ムＬの一部を所望の方向に反射す
るためのビ−ム位置検出ミラ−８６、上記レ−ザビ−ム
Ｌによって照明されることで上記原稿載置台８４を透過
されたレ−ザビ−ムＬｊ即ち原稿Ｄに含まれている情報
を内部で拡散させて搬送するためのビ−ム伝達素子８８
、及び、この伝達素子８８を介して伝達されたレ−ザビ
−ムＬｊに応じて電気信号（画像情報に対応する）を発
生させるための光検出器９０を含んでいる。

【００５０】上記光学装置７２は、上記原稿Ｄを照明す
るためのレ−ザビ−ムＬを発生する光源７４、この光源
７４から発生されたレ−ザビ−ムＬに対して所望の特性
を与えるレンズ群７６、回転可能に形成された複数の反
射面７８ａ，７８ｂ，７８ｃ…を有し、上記レ−ザビ−
ムＬを所望の角度且つ所望の方向に反射（偏向）させる
偏向装置７８、この偏向装置７８を通過した上記レ−ザ
ビ−ムＬに集束性を与えるとともに、上記レ−ザビ−ム
Ｌに対して、上記レ−ザビ−ムＬが偏向される角度θと
上記レ−ザビ−ムＬが結像されるべき位置における光軸
Ｏとの距離ｈとを比例させるためのレンズ（一般にｆθ
レンズとよばれている）８０、及び、このレンズ８０を
通過したレ−ザビ−ムＬを所望の方向に導く折返しミラ
−８２を有している。 尚、上記光源７４は、レ−ザビ−ムＬを発生するレ−ザ
素子７４ａ及びレ−ザ素子７４ａから発生されたレ−ザ
ビ−ムＬにおける光量を監視するモニタダイオ−ド７４
ｂが一体に組立てられている。また、上記レンズ群７６
は、例えば、レ−ザビ−ムＬをコリメ−トするガラスレ
ンズ７６ａ、このガラスレンズ７６ａを通過した上記レ
−ザビ−ムＬに対して集束性を与えるプラスチックレン
ズ７６ｂを有している。

【００５１】上記光源７４即ちレ−ザ素子７４ａから発
生されたレ−ザビ−ムＬは、上記レンズ群７６によって
所望の特性が与えられる。このレ−ザビ−ムＬは、偏向
装置７８即ち４面の反射面７８ａ〜７８ｄによって等角
速度で偏向される。この偏向されたレ−ザビ−ムＬは、
ｆθレンズ８０及び折返しミラ−８２を介して原稿載置
台８４へ導かれ、原稿載置台８４に対して密着されてい
る原稿Ｄに照射される。

【００５２】上記レ−ザビ−ムＬは、原稿Ｄを透過する
ことによって、読取るべき画像情報に応じて強度変調さ
れたレ−ザビ−ムＬｊに変換される。このレ−ザビ−ム
Ｌｊは、上記原稿載置台８４を通過し、さらに、上記ビ
−ム伝達素子８８を介して上記光検出器９０へ導かれる
。上記レ−ザビ−ムＬｊは、上記光検出器９０によって
電気信号に変換され、さらに、図示しない情報処理部に
よって所望のデ−タに変換されて、図示しない記録装置
例えばホストコンピュ−タ等に出力される。

【００５３】尚、上記情報処理部は、例えば、上記光検
出器９２から出力されたアナログ信号を２値或いは所望
の形式で表されるコ−ドデ−タに変換するためのビット
変換装置、及び、このビット変換装置によって得られた
上記コ−ドデ−タを所望の伝達方式（手順）で出力する
出力回路等を含んでいる。

【００５４】ところで、この画像読取装置７０は、上記
図１に示されているこの発明の第一実施例と同様に、上
記ビ−ム位置検出ミラ−８６からモニタダイオ−ド７４
ｂに戻された反射レ−ザビ−ムＬｒによって、光源７４
から原稿Ｄへ向かうレ−ザビ−ムＬに関する水平同期が
検出できる。換言すると、上記原稿載置台８４は、その
一部が上記位置検出ミラ−８６として形成されているこ
とから、偏向装置７８における反射面７８ａ〜が回転さ
れる毎に、上記レ−ザビ−ムＬの一部がモニタダイオ−
ド７４ｂに向かって反射される。このモニタダイオ−ド
７４ｂに戻されたレ−ザビ−ムＬｒは、上記図５に示さ
れているようなビ−ム処理回路を介して、光源７４から
原稿Ｄに向かうレ−ザビ−ムＬの水平同期の検出に利用
される。従って、従来から利用されているレ−ザビ−ム
Ｌに関する水平同期を検出するための付加的装置及びこ
の装置を付勢するための電気回路等が除去できる。

【００５５】以上説明したようにこの発明によれば、レ
−ザビ−ムの位置を検出するために配置された反射ミラ
−によって、光源から対象物へ向かうレ−ザビ−ムの一
部が反射され、この反射されたレ−ザビ−ムが電気的に
検出されることで、上記光源から対象物へ向かうレ−ザ
ビ−ムの水平同期が検出される。

【００５６】このことは、レ−ザビ−ムの水平同期を検
出するために従来から利用されている（水平同期を検出
するための）専用のビ−ム検出器、この検出器によって
検出された信号を他の基準信号と同期させるために転送
する転送回路、それぞれの回路或いは素子を結線する配
線部材、及び、ノイズ対策部材等を省略可能にする。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
偏向装置の偏向に対応して対象物の結像面に向かう光ビ
−ムの一部は、偏向装置から対象物へ向かう主走査方向
及び光軸を含む面の画像領域外に配置された反射鏡によ
って、同一光学装置を介して光源装置に一体的に組立て
られているモニタダイオ−ドに、周期的に戻される。こ
のモニタダイオ−ドへ戻された光ビ−ムによって、モニ
タダイオ−ドから出力されるモニタ電流の変化が検出さ
れて、光ビ−ムの偏向開始位置或いは偏向開始時期即ち
水平同期が検出される。また、このモニタ電流の変化が
基準にされて、光ビ−ムを発生させる半導体レ−ザを駆
動する回路が駆動されて、水平同期が整合される。従っ
て、光ビ−ムの水平同期を検出するために配置されてい
た専用の光検出部、この検出部が検出した信号を制御回
路或いは他の基準信号と同期させる回路等に転送する転
送回路、それぞれの回路或いは素子を結線する配線部材
、及び、ノイズ対策部材が省略できる。従って、光学装
置を形成する光学素子及びノイズ対策部材の点数が低減
される。また、光学装置の構成が簡略化できることから
、装置の設計及び製造面に関するコスト、及び、複写装
置或いは読取装置等の装置全体のコストが大幅に低減で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例である光学装置が組込まれ
る画像形成装置を示す正面断面図。

【図２】図１における画像形成装置に組込まれる光学装
置を示す平面図。

【図３】図２における光学装置を光軸に沿って切断した
状態を示す断面図。

【図４】図２における光学装置を線Ａ−Ａに沿って切断
した状態を示す部分断面図。

【図５】図２〜４における光学装置に含まれている光学
素子の位置関係を、より具体的に示す模式図。

【図６】図２〜４における光学装置に含まれている光源
を詳細に示す正面図及び側面図。

【図７】図１における画像形成装置及び図２〜図６にお
ける光学装置を付勢するための電気回路の概略を示すブ
ロック図。

【図８】図２〜図６における光学装置によって水平同期
が検出できる原理、及び、図１における画像形成装置を
付勢するための主要タイミングを示すチャ−ト図。

【図９】図２〜図４における光学装置の変形例を示す平
面図。

【図１０】この発明の一実施例である光学装置が組込ま
れる画像読取装置の一例を示す概略図。

【符号の説明】

２…画像形成装置、１０…光学装置、１２…光源、１２
ａ…レ−ザ素子、１２ｂ…モニタダイオ−ド、１４…ヒ
−トシンク、１６…ケ−ス、１８…防塵ガラス、２０…
ガラスレンズ、２２，２４…プラスチックレンズ、２８
…偏向装置、３０…第３プラスチックレンズ、３２…折
返しミラ−、３２ａ…反射面、３４…水平同期検出（反
射）ミラ−、４８…レ−ザビ−ム光量制御装置、５０…
レ−ザ駆動回路、５２…ビ−ム光量検出回路、５４…自
動光量制御回路、５６…位置検出回路、５８…レ−ザ変
調制御回路、７０…画像読取装置、　１１０…光学装置
、　１３８…水平同期検出ミラ−。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　光源と、この光源からの光ビ−ムを対
   象物へ向かわせる偏向手段と、この偏向手段から上記対
   象物へ向かう上記光ビ−ムに集束力を与えるとともに、
   上記光ビ−ムに与えられた上記偏向角と上記対象物上に
   おける光軸との間の距離とを比例させつつ結像させる手
   段と、前記光源の近傍に配置され、前記光源から発生さ
   れる光量の変化を検出する手段と、前記偏向手段から上
   記対象物へ向かう上記光ビ−ムの光路中であって、上記
   光ビ−ムにおける主走査方向と上記光軸とを含む面内の
   画像領域外、且つ、上記対象物上における上記光ビ−ム
   が結像される位置であって、上記結像手段によって上記
   光ビ−ムに与えられた条件が満足される領域に配置され
   、前記偏向手段によって偏向された上記光ビ−ムの一部
   を前記結像手段及び前記偏向手段を介して前記検出手段
   に向かって反射させる手段とを有する光学装置。
2. 【請求項２】　　光源と、この光源からの光ビ−ムを対
   象物へ向かって偏向させる手段と、この偏向手段によっ
   て偏向された上記光ビ−ムを上記対象物上の所望の位置
   に結像させる手段と、前記光源の近傍に配置され、前記
   光源から発生される光量の変化を検出する手段と、前記
   偏向手段と前記結像手段の間であって、前記光ビ−ムの
   少なくとも一部が平行に伝達される領域に配置され、前
   記偏向手段によって偏向された上記光ビ−ムの一部を前
   記偏向手段を介して前記検出手段に向かって反射させる
   手段とを有する光学装置。
3. 【請求項３】　　光源と、この光源からの光ビ−ムを対
   象物へ向かって偏向する手段と、この偏向手段によって
   偏向された上記光ビ−ムを上記対象物に結像させる手段
   と、前記光源の近傍に配置され、前記光源から発生され
   る光量の変化を検出する手段と、前記偏向手段から前記
   結像手段へ向かう上記光ビ−ムの光路中であって、主走
   査方向及び光軸を含む面内、且つ、画像領域外に配置さ
   れ、前記偏向手段によって偏向された上記光ビ−ムの一
   部を前記結像手段及び前記偏向手段を介して前記検出手
   段に向かって反射させる手段とを有する光学手段と、上
   記光ビ−ムを利用して上記対象物上に画像を形成する手
   段と、上記検出手段によって検出された反射光ビ−ムに
   基づいて前記画像形成手段における画像形成の開始時期
   を規定する制御手段とを含む画像形成装置。