JPH04260344A - Inner lead bonding equipment - Google Patents

Inner lead bonding equipment

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JPH04260344A
JPH04260344A JP2131791A JP2131791A JPH04260344A JP H04260344 A JPH04260344 A JP H04260344A JP 2131791 A JP2131791 A JP 2131791A JP 2131791 A JP2131791 A JP 2131791A JP H04260344 A JPH04260344 A JP H04260344A
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bonding
stage
tool
inner lead
rotation
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Shigeki Fujita
茂樹 藤田
Shinkichi Yamada
信吉 山田
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Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To quantitatively measure the inclination of a bonding surface of a bonding tool to a bonding stage surface, by measuring the distances from a bonding stage to three or more measurement points positioned on the bonding surface of the bonding tool. CONSTITUTION:Points on a bonding surface 12 which are positioned on vertical lines of three measurement reference points on the bonding stage 22 side are turned into measurement points 271, 272, 273 of the bonding surface side 12. The lengths I1, I2, I3 between the measurement reference points 261, 262, 263 and the measurement points 271, 272, 273 are measured with a length measuring sensor 24. On the basis of the distances I1, I2, I3 at the measurement positions 261, 262, 263 of the length measuring sensor 24, the operation part of a controller 25 calculates the inclination of the bonding surface 12 to the bonding stage 22 surface. Further, correction values in the X, Y directions of the bonding surface 12 are calculated, and the bonding surface 12 of a bonding tool 11 is rotated and moved in the X, Y directions according to the correction values.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[発明の目的] [Purpose of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の電極と、
フィルムキャリアに形成されたインナリ―ドをボンディ
ングするインナリ―ドボンディング装置に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to an electrode of a semiconductor element,
The present invention relates to an inner lead bonding device for bonding inner leads formed on a film carrier.

【0002】0002

【従来の技術】従来のインナリ―ドボンディング装置と
して図3に示すようなものがある。1はフィルムキャリ
アテ―プであり、インナリ―ド2が搬送方向に所定の間
隔で形成されている。3はテ―プガイドであり、テ―プ
ガイド3の中央にボンディング位置である開孔部が設け
られ、図示しないテ―プ搬送機構により搬送されるフィ
ルムキャリアテ―プ1のインナリ―ド2をテ―プガイド
3下面に沿ってボンディング位置に導く。4はボンディ
ングステ―ジであり、テ―プガイド3開孔部下方に設け
られ、半導体素子5をボンディング位置に搭載する。6
はボンディングツ―ルであり、その低面には半導体素子
5の電極とインナリ―ド2を熱圧着により一括接合する
ボンディング面7を有する。ボンディング位置上方のツ
―ルア―ム8にツ―ルホルダ―9によりボンディングツ
―ル6は、昇降自在に固定されている。10はベ―スで
ありツ―ルア―ム8上部に位置し、ツ―ルア―ム8を支
持している。
2. Description of the Related Art A conventional internal lead bonding apparatus is shown in FIG. 1 is a film carrier tape, and inner leads 2 are formed at predetermined intervals in the transport direction. Reference numeral 3 designates a tape guide, which is provided with an opening at the center of the tape guide 3, which is a bonding position, and which guides the inner lead 2 of the film carrier tape 1, which is transported by a tape transport mechanism (not shown), to the tape guide 3. - Guide it to the bonding position along the bottom surface of the guide 3. A bonding stage 4 is provided below the opening of the tape guide 3 and mounts the semiconductor element 5 at a bonding position. 6
is a bonding tool, which has a bonding surface 7 on its lower surface for collectively bonding the electrodes of the semiconductor element 5 and the inner leads 2 by thermocompression bonding. A bonding tool 6 is fixed to a tool arm 8 above the bonding position by a tool holder 9 so as to be movable up and down. A base 10 is located above the tool arm 8 and supports the tool arm 8.

【0003】このように構成されたインナリ―ドボンデ
ィング装置は、図示しないテ―プ搬送機構により、フィ
ルムキャリアテ―プ1はテ―プガイド3の下面に沿って
搬送され、フィルムキャリアテ―プ1に形成されたイン
ナリ―ド2のボンディング部をテ―プガイド3中央の開
孔部に位置するボンディング位置に導く。図示しない移
載ア―ムにより移載された半導体素子5はボンディング
ステ―ジ4上のボンディング位置に位置決め保持される
。そしてボンディングツ―ル6がテ―プガイド3の開孔
部のボンディング位置に下降する。ボンディングツ―ル
6のボンディング面7により、半導体素子5の電極へイ
ンナリ―ド2を熱圧着し、一括接合する。インナリ―ド
2へ半導体素子5をボンディング後、テ―プ搬送機構に
よりフィルムキャリアテ―プ1は所定ピッチ4で搬送さ
れる。以下、この動作が繰り返し行われる。
[0003] In the inner lead bonding apparatus constructed as described above, the film carrier tape 1 is transported along the lower surface of the tape guide 3 by a tape transport mechanism (not shown), and the film carrier tape 1 is transported along the lower surface of the tape guide 3. The bonding portion of the inner lead 2 formed in the tape guide 3 is guided to the bonding position located in the central opening of the tape guide 3. The semiconductor element 5 transferred by a transfer arm (not shown) is positioned and held at a bonding position on the bonding stage 4. Then, the bonding tool 6 descends to the bonding position in the opening of the tape guide 3. The inner leads 2 are bonded by thermocompression to the electrodes of the semiconductor element 5 using the bonding surface 7 of the bonding tool 6, thereby collectively bonding them. After bonding the semiconductor element 5 to the inner lead 2, the film carrier tape 1 is transported at a predetermined pitch 4 by the tape transport mechanism. This operation is repeated thereafter.

【0004】このようなインナリ―ドボンディング装置
において、半導体素子5の電極とフィルムキャリアテ―
プ1のインナリ―ド2を良好に接続するため、ボンディ
ング面7で半導体素子5の電極とインナリ―ド2を均一
に加圧することが必要である。そのため、ボンディング
ツ―ル6のボンディング面7とボンディングステ―ジ4
面との平行度が要求される。
In such an internal bonding device, the electrode of the semiconductor element 5 and the film carrier tape are connected to each other.
In order to make a good connection between the inner leads 2 of the semiconductor element 5 and the inner leads 2, it is necessary to uniformly press the electrodes of the semiconductor element 5 and the inner leads 2 at the bonding surface 7. Therefore, the bonding surface 7 of the bonding tool 6 and the bonding stage 4
Parallelism with the surface is required.

【0005】この平行度を調整する方法としては、従来
ボンディングステ―ジ4面上にポリイミド等のシ―トを
置いて、ボンディングツ―ル6を下降して、加熱したボ
ンディング面7でシ―トを押圧する。その後、シ―ト上
の圧痕の状態を目視にて観察することにより、ボンディ
ングステ―ジ4面に対するボンディング面7の傾き具合
を調べる。そして、ボンディングツ―ル6を微動ネジで
動かすことによりこのボンディング面7の傾きを微調整
する。この一連の作業を繰り返すことにより、平行度を
調整していた。
Conventionally, as a method for adjusting the parallelism, a sheet of polyimide or the like is placed on the 4 surfaces of the bonding stage, the bonding tool 6 is lowered, and the sheet is placed on the heated bonding surface 7. Press the button. Thereafter, the inclination of the bonding surface 7 with respect to the surface of the bonding stage 4 is examined by visually observing the condition of the indentation on the sheet. Then, the inclination of the bonding surface 7 is finely adjusted by moving the bonding tool 6 with a fine adjustment screw. Parallelism was adjusted by repeating this series of operations.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような方法では、
ボンディング面7とボンディングステ―ジ4面との平行
度を圧痕状態を見る人の判断に依存しているので、平行
度の調整を容易にすることができず、時間がかかるとい
う問題点があった。さらに、平行度を数値的に知ること
ができず、そのため正確に平行度を調整することができ
ないという問題点があった。
[Problem to be solved by the invention] In such a method,
Since the parallelism between the bonding surface 7 and the bonding stage 4 surface depends on the judgment of the person viewing the indentation state, there is a problem that it is not easy to adjust the parallelism and it takes time. Ta. Furthermore, there is a problem in that the degree of parallelism cannot be known numerically, and therefore the degree of parallelism cannot be accurately adjusted.

【0007】そこで、本発明の目的は、ボンディングツ
―ルのボンディング面とボンディングステ―ジ面に対す
る傾きを定量的に数値測定することができるインナリ―
ドボンディング装置を提供することを目的とする。 [発明の構成]
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an inner tool that can quantitatively and numerically measure the inclination of a bonding tool with respect to a bonding surface and a bonding stage surface.
The purpose of the present invention is to provide a bonding device. [Structure of the invention]

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は以上の目的を達
成するために、インナリ―ドが形成されたフィルムキャ
リアを搬送する搬送手段と、ボンディング位置を有し、
搬送手段により搬送されるフィルムキャリアのインナリ
―ドをボンディング位置へ導くフィルムキャリアガイド
と、ボンディング位置に半導体素子を搭載支持するボン
ディングステ―ジと、
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above objects, the present invention has a conveyance means for conveying a film carrier on which an inner lead is formed, a bonding position,
a film carrier guide that guides the inner lead of the film carrier transported by the transport means to a bonding position; a bonding stage that mounts and supports a semiconductor element at the bonding position;

【0009】ボンディング位置の上方に昇降自在に設け
られ、ボンディング位置のフィルムキャリアのインナリ
―ドと、ボンディングステ―ジ上の半導体素子の電極を
熱圧着により接合するボンディングツ―ルとを有するイ
ンナリ―ドボンディング装置において、ボンディングス
テ―ジに取付けられ、ボンディングステ―ジと、ボンデ
ィングツ―ルのボンディング面上に位置する3点以上の
測定点との距離を測定する測長センサ―と、測長センサ
―の検出値に応じて、ボンディングステ―ジ面に対する
ボンディングツ―ルのボンディング面の平行度を調整す
る平行度調整手段とを設けることを特徴とする。
[0009] An inner lead is provided above the bonding position so as to be freely raised and lowered, and has a bonding tool for bonding the inner lead of the film carrier at the bonding position and the electrode of the semiconductor element on the bonding stage by thermocompression bonding. In the bonding device, a length measurement sensor is attached to the bonding stage and measures the distance between the bonding stage and three or more measurement points located on the bonding surface of the bonding tool; The present invention is characterized by providing a parallelism adjusting means for adjusting the parallelism of the bonding surface of the bonding tool with respect to the bonding stage surface in accordance with the detected value of the sensor.

【0010】0010

【作用】このように構成されたものにおいては、ボンデ
ィングステ―ジに取付けられた測長センサ―により、ボ
ンディングステ―ジとボンディングツ―ルのボンディン
グ面上の3つ以上の測定点との距離を測定する。測長セ
ンサ―の検出値に応じて、平行度調整手段によりボンデ
ィングステ―ジ面に対するボンディングツ―ルのボンデ
ィング面の平行度を調整する。
[Operation] With this structure, the distance between the bonding stage and three or more measurement points on the bonding surface of the bonding tool is determined by the length measurement sensor attached to the bonding stage. Measure. The parallelism of the bonding surface of the bonding tool with respect to the bonding stage surface is adjusted by the parallelism adjustment means in accordance with the detected value of the length measurement sensor.

【0011】[0011]

【実施例】本発明の実施例を図面を参照して説明する。 図2において、11はボンディングツ―ルであり、その
下端にはボンディング面12を有している。13はX方
向回転用ベ―スであり、その下方に、ツ―ルホルダ―1
4でボンディングツ―ル11を固定してある。15はY
方向回転用ベ―スであり、X方向回転用ベ―ス13の背
面に位置し、Y方向回転用ベ―ス15の正面に垂直にX
方向回転軸16が固定されている。このX方向回転軸1
6により、X方向回転用ベ―ス13をX方向に回転自在
に支持している。17はメインベ―スであり、Y方向回
転用ベ―ス15の右側に配置され、メインベ―ス15の
左側面上部側に垂直に固定されたY方向回転軸18によ
り、Y方向回転用ベ―ス15をY方向(図面に対して垂
直方向)に回転自在に支持している。19はX方向回転
用マイクロメ―タヘッドであり、メインベ―ス17の左
側面上部に配置固定されている。X方向回転用マイクロ
メ―タヘッド19でX方向回転用ヘッド13の右側面上
部を自在に押圧し、X方向回転軸16を中心にX方向回
転用ベ―スを回転させることができる。20はボ―ルプ
ランジャ―であり、メインベ―ス17の左側面側に配置
固定され、X方向回転用ベ―ス13の右側面下部側を常
時押圧して、X方向回転用ベ―ス13をX方向回転用マ
イクロメ―タヘッド19に常時接触させている。21は
Y方向回転用マイクロメ―タヘッドであり、メインベ―
ス17左側面に固定されて、Y方向回転用ベ―ス15の
正面右側下部をY方向回転用マイクロメ―タヘッド21
で自在に押圧して、Y方向回転軸18を中心に、Y方向
回転用ベ―ス15をY方向に回転させることができる。 Y方向回転用ベ―ス15を介し、Y方向回転用マイクロ
メ―タヘッド21の反対側には、ポ―ルプランジャ―が
設けてあり、Y方向回転用ベ―スを常時押圧して、Y方
向回転用ベ―ス15をY方向回転用マイクロメ―タヘッ
ド21に常時接触させている。22はボンディングステ
―ジであり、X,Y方向に移動可能なXYテ―ブル23
上に設置されている。24は測長センサ―であり、ボン
ディングステ―ジ22の側面に取付けられている。25
はコントロ―ラであり、XYテ―ブル23を自在にXY
方向に移動することができ、また測長センサ―24の測
定操作をすることもできる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Examples of the present invention will be described with reference to the drawings. In FIG. 2, a bonding tool 11 has a bonding surface 12 at its lower end. 13 is a base for rotation in the X direction, and below it is a tool holder 1.
4, the bonding tool 11 is fixed. 15 is Y
It is a base for rotation in the X direction, located on the back of the base 13 for rotation in the X direction, and perpendicular to the front of the base 15 for rotation in the Y direction.
A direction rotation shaft 16 is fixed. This X direction rotation axis 1
6 supports the X-direction rotation base 13 rotatably in the X-direction. Reference numeral 17 denotes a main base, which is arranged on the right side of the Y-direction rotation base 15, and is rotated by a Y-direction rotation shaft 18 fixed perpendicularly to the upper left side of the main base 15. The base 15 is rotatably supported in the Y direction (perpendicular to the drawing). Reference numeral 19 denotes a micrometer head for rotation in the X direction, which is arranged and fixed on the upper left side of the main base 17. The X-direction rotation micrometer head 19 can freely press the upper right side of the X-direction rotation head 13 to rotate the X-direction rotation base around the X-direction rotation shaft 16. A ball plunger 20 is arranged and fixed on the left side of the main base 17, and constantly presses the lower right side of the base 13 for rotation in the X direction. is in constant contact with the micrometer head 19 for rotation in the X direction. 21 is a micrometer head for rotation in the Y direction, and
The micrometer head 21 for rotation in the Y direction is fixed to the left side of the base 17, and the lower right front side of the base 15 for rotation in the Y direction is fixed to the left side surface.
The Y-direction rotation base 15 can be rotated in the Y-direction by pressing freely with the Y-direction rotation shaft 18 . A pole plunger is provided on the opposite side of the Y-direction rotation micrometer head 21 via the Y-direction rotation base 15, and constantly presses the Y-direction rotation base to rotate the Y-direction. The rotation base 15 is always in contact with the Y-direction rotation micrometer head 21. 22 is a bonding stage, and an XY table 23 movable in the X and Y directions.
is installed on top. 24 is a length measurement sensor, which is attached to the side surface of the bonding stage 22. 25
is a controller that freely controls XY table 23.
It is possible to move in this direction, and also to perform measurement operations on the length measurement sensor 24.

【0012】図3は測定原理を示す図であり、261 
,262 ,263 はボンディングステ―ジ22側の
測定基準点であり、コントロ―ラ25で予め設定されて
いる。XYテ―ブル23により、測長センサ―24を測
定基準点261 ,262 ,263 に順次移動させ
る。271,272 ,273 はボンディング面12
側の測定点であり、ボンディングツ―ル11下面のボン
ディング面12上に設けてある。それぞれの測定基準点
261 ,262 ,263 を始点とし、ボンディン
グステ―ジ22面に対して垂直線上のボンディング面1
2に3つの測定点271 ,272 ,273 は位置
している。
FIG. 3 is a diagram showing the measurement principle.
, 262 and 263 are measurement reference points on the bonding stage 22 side, which are set in advance by the controller 25. Using the XY table 23, the length measurement sensor 24 is sequentially moved to measurement reference points 261, 262, and 263. 271, 272, 273 are bonding surfaces 12
This is a measurement point on the side, and is provided on the bonding surface 12 on the lower surface of the bonding tool 11. Starting from each measurement reference point 261 , 262 , 263 , bonding surface 1 is perpendicular to bonding stage 22 surface.
Three measurement points 271 , 272 , 273 are located on 2.

【0013】このように構成されたインナリ―ドボンデ
ィング装置の動作を説明する。図1,図2において、コ
ントロ―ラ25でXYテ―ブル23を移動させて測長セ
ンサ―24を予め設定された3つの測定基準点261 
,262 ,263 に順次移動させる。そして、この
ボンディングステ―ジ22側の3つの測定基準点の垂直
線上に位置するボンディング面12の点がボンディング
面12側の測定点271 ,272 ,273 となる
。測長センサ―24により測定基準点261 ,262
 ,263 と測定点271 ,272 ,273 の
距離l1 ,l2 ,l3 を測定する。測長センサ―
24の測定位置261 (x1 ,y1 ),262 
(x2 ,y2 ),263 (x3 ,y3 )にお
ける距離l1 ,l2 ,l3 を基に、コントロ―ラ
25の演算部でボンディングステ−ジ22面に対するボ
ンディング面12の傾きを演算する。さらに平行状態に
するためのボンディング面12のX,Y方向への補正値
を演算して、コントロ―ラ25上の表示パネルに表示す
る。作業者は、コントロ―ラ25でX方向回転用マイク
ロメ―タヘッド18およびY方向回転用マイクロメ―タ
ヘッド21を補正値に基づいて移動操作し、X方向回転
用ベ―ス13およびY方向回転用ベ―ス15を回転させ
ることで、ボンディングツ―ル11のボンディング面1
2をX,Y方向へ補正値分回転移動させる。こうして、
ボンディング面12とボンディングステ―ジ22面の平
行度の微調整を行うことができる。
The operation of the internal lead bonding apparatus constructed as described above will be explained. In FIGS. 1 and 2, the length measurement sensor 24 is moved to three measurement reference points 261 that are set in advance by moving the XY table 23 using the controller 25.
, 262 , 263 sequentially. Points on the bonding surface 12 located on the vertical line of the three measurement reference points on the bonding stage 22 side become measurement points 271 , 272 , 273 on the bonding surface 12 side. Measurement reference points 261 and 262 are determined by the length measurement sensor 24.
, 263 and the measurement points 271 , 272 , 273 , distances l1 , l2 , l3 are measured. Length measurement sensor
24 measurement positions 261 (x1, y1), 262
Based on the distances l1, l2, l3 at (x2, y2), 263 (x3, y3), the calculation section of the controller 25 calculates the inclination of the bonding surface 12 with respect to the surface of the bonding stage 22. Furthermore, correction values for the bonding surface 12 in the X and Y directions for making it parallel are calculated and displayed on the display panel on the controller 25. The operator moves the micrometer head 18 for rotation in the X direction and the micrometer head 21 for rotation in the Y direction using the controller 25 based on the correction values, and moves the base 13 for rotation in the X direction and the base 13 for rotation in the Y direction. - By rotating the base 15, the bonding surface 1 of the bonding tool 11
2 by the correction value in the X and Y directions. thus,
The parallelism between the bonding surface 12 and the bonding stage 22 surface can be finely adjusted.

【0014】なお、X方向回転用マイクロメ―タヘッド
19及びY方向回転用マイクロメ―タヘッド20をそれ
ぞれサ―ボモ―タで駆動する。そして、これらのサ―ボ
モ―タをコントロ―ラからの指令により回転させること
で、X方向回転用マイクロメ―タヘッド19及びY方向
回転用マイクロメ―タヘッド21を移動させる。こうす
ると平行度の調整を自動的に行うことができる。
The micrometer head 19 for rotation in the X direction and the micrometer head 20 for rotation in the Y direction are each driven by a servo motor. By rotating these servo motors according to commands from the controller, the micrometer head 19 for rotation in the X direction and the micrometer head 21 for rotation in the Y direction are moved. In this way, parallelism can be adjusted automatically.

【0015】他の実施例として、測長センサ―のセンサ
―光の放射方向を変化させて、ボンディングステ―ジを
移動させることなく、ボンディング面の傾きを測定する
こともできる。
As another embodiment, the inclination of the bonding surface can be measured without moving the bonding stage by changing the emission direction of the sensor light of the length measurement sensor.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明によれば、ボンディングステ―ジ
面に対するボンディングツ―ルのボンディング面の傾き
を定量的に測定、調整ができるので、ボンディングステ
―ジ面に対してボンディング面を高精度に平行状態にす
ることが可能となる。そのため、ボンディング時に半導
体素子の電極とインナリ―ドを均一に加圧することがで
きるので安定した高品質のボンディングをすることので
きるインナリ―ドボンディング装置を提供することがで
きる。
According to the present invention, the inclination of the bonding surface of the bonding tool with respect to the bonding stage surface can be quantitatively measured and adjusted. It becomes possible to make it parallel to. Therefore, it is possible to uniformly apply pressure to the electrodes and inner leads of the semiconductor element during bonding, so it is possible to provide an inner lead bonding apparatus that can perform stable and high quality bonding.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の実施例を示すインナリ―ドボンディン
グ装置の要部外観図である。
FIG. 1 is an external view of main parts of an inner lead bonding apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例において、ボンディング面の傾
きを測定する測定基準点と測定点を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing measurement reference points and measurement points for measuring the inclination of a bonding surface in an embodiment of the present invention.

【図3】従来のインナリ―ドボンディング装置のボンデ
ィング部正面図である。
FIG. 3 is a front view of a bonding section of a conventional inner lead bonding device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…キャリアテ―プ、            2…イ
ンナリ―ド、3…テ―プガイド、    4…ボンディ
ングステ―ジ、5…半導体素子、          
      6…ボンディングツ―ル、7…ボンディン
グ面、            8…ツ―ルア―ム、9
…ツ―ルホルダ―、            10…ア
―ムベ―ス、11…ボンディングツ―ル、      
  12…ボンディング面、13…X方向回転用ベ―ス
、      14…ツ―ルホルダ―、15…Y方向回
転用ベ―ス、        16…X方向回転軸、1
7…メインベ―ス、              18
…Y方向回転軸、19…X方向回転用マイクロメ―タヘ
ッド、  20…ボ―ルプランジャ、21…Y方向回転
用マイクロメ―タヘッド、  22…ボンディングステ
―ジ、23…XYテ―ブル、            
  24…測長センサ―、25…コントロ―ラ、   
           261 ,262 ,263 
…測定基準点、271 ,272 ,273 …測定点
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Carrier tape, 2...Inner lead, 3...Tape guide, 4...Bonding stage, 5...Semiconductor element,
6... Bonding tool, 7... Bonding surface, 8... Tool arm, 9
...Tool holder, 10...Arm base, 11...Bonding tool,
12... Bonding surface, 13... Base for rotation in the X direction, 14... Tool holder, 15... Base for rotation in the Y direction, 16... Rotation axis in the X direction, 1
7...Main base, 18
...Y direction rotation axis, 19...Micrometer head for X direction rotation, 20...Ball plunger, 21...Micrometer head for Y direction rotation, 22...Bonding stage, 23...XY table,
24...Length measurement sensor, 25...Controller,
261 , 262 , 263
...Measurement reference point, 271, 272, 273...Measurement point.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  インナリ―ドが形成されたフィルムキ
ャリアを搬送する搬送手段と、ボンディング位置を有し
、搬送手段により搬送されるフィルムキャリアのインナ
リ―ドをボンディング位置へ導くフィルムキャリアガイ
ドと、ボンディング位置に半導体素子を搭載支持するボ
ンディングステ―ジと、ボンディング位置の上方に昇降
自在に設けられ、ボンディング位置のフィルムキャリア
のインナリ―ドと、ボンディングステ―ジ上の半導体素
子の電極を熱圧着により接合するボンディングツ―ルと
を有するインナリ―ドボンディング装置において、ボン
ディングステ―ジに取付けられ、ボンディングステ―ジ
と、ボンディングツ―ルのボンディング面上に位置する
3点以上の測定点との距離を測定する測長センサ―と、
測長センサ―の検出値に応じて、ボンディングステ―ジ
面に対するボンディングツ―ルのボンディング面の平行
度を調整する平行度調整手段と、を有することを特徴と
するインナリ―ドボンディング装置。
1. A transporting means for transporting a film carrier on which an inner lead is formed, a film carrier guide having a bonding position and guiding the inner lead of the film carrier transported by the transporting means to the bonding position, and a bonding method. A bonding stage that supports and mounts a semiconductor element at a position, and a bonding stage that is movable up and down above the bonding position, and the inner lead of the film carrier at the bonding position and the electrode of the semiconductor element on the bonding stage are bonded by thermocompression. The distance between the bonding stage and three or more measurement points located on the bonding surface of the bonding tool, which is attached to the bonding stage in an inner lead bonding device that has a bonding tool to be bonded. A length measurement sensor that measures the
An inner lead bonding apparatus comprising: a parallelism adjustment means for adjusting the parallelism of a bonding surface of a bonding tool with respect to a bonding stage surface in accordance with a detected value of a length measurement sensor.
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