JPH04259313A - 高純度銅球状粉の製造法 - Google Patents
高純度銅球状粉の製造法Info
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 67
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 66
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 26
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 abstract description 26
- 239000010439 graphite Substances 0.000 abstract description 26
- 239000010453 quartz Substances 0.000 abstract description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 abstract description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 4
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
mm の高純度銅球状粉の製造法に関する。
ヤーや金属・半導体コンタクトなどエレクトロニクス用
としてのみならず、超電導、超高電圧、超高真空または
音響機器などの導電材料、極低温機器用冷却媒体または
高耐力レーザーミラー等多くの先端技術分野において、
その性能を支配する材料の一つとして広く用いられてき
た。近年では、このような用途に使用されている高純度
銅材料の需要が著しく向上しており、それに伴って要求
される高純度銅材料の形状は球状や線状など多様化して
いる。
粉は、溶融させた金属を小孔より冷却媒体に滴下して得
る滴下法や、機械加工により得る加工法などによって製
造されている。
って製造すると、銅は凝固に際し収縮するため、冷却媒
体により急冷されて外部が早期に固化すると球状粉内部
に巣ができてしまい、一方、上記加工法によって製造す
ると、加工工程において銅球状粉の表面が汚染されてし
まうため、製品の純度が原料の純度より著しく低下して
しまいうなどといった問題があった。そのため、原料銅
の純度を維持し、均一な高純度銅球状粉の製造法の開発
が望まれていた。
技術の問題点を解決し、表面汚染や巣などの発生がなく
、原料の純度が維持されている均一な高純度銅球状粉の
製造法を提供することを目的としている。
を解決するため鋭意研究したところ、真空雰囲気中にお
いてルツボに入れた原料銅を溶融し、その溶湯圧と真空
雰囲気との圧力差を利用して該溶湯をルツボを通してル
ツボの外表面にまで浸透させることにより、均一かつ表
面汚染のない球状粉が得られることを見い出し、本発明
を達成することができた。
%以上の高純度銅を原料とし、原料の純度を維持したま
ま粒径 0.1mm〜5mm の球状粉に形成する高純
度銅球状粉の製造法であって、原料である高純度銅をル
ツボに入れ、これを高真空中において高周波加熱により
溶解し、溶解した高純度銅の溶湯圧と該真空雰囲気との
圧力差により高純度銅の溶湯をルツボ中に浸透させ、さ
らにルツボの外表面まで押出されてきた該溶湯を表面張
力により球状に凝固させ、ルツボの外表面から自然落下
してくる球状粉を回収することを特徴とする高純度銅球
状粉の製造法を提供するものである。
部を加熱するための高周波コイルを装備し、かつ、その
内部を高真空にし得る真空排気装置と連結してある縦型
の石英のベルジャー内に、ルツボと、ルツボの外表面か
ら自然落下してくる球状粉を受け取り回収するための黒
鉛受け器を装備した高純度銅球状粉製造装置が用いられ
る。なお、黒鉛受け器は球状粉がつぶれないようにテー
パーを付けると良い。
て2種類有り、一方は、一体型の黒鉛ルツボ、他方は、
合わせ部を有する割り型のルツボである。
内で溶解させた高純度銅は、溶湯圧とベルジャー内部の
真空雰囲気との圧力差により、ルツボの気孔を介して浸
透し、ルツボの外表面において表面張力により球状に凝
固する。一方、割り型のルツボを用いた場合、ルツボ内
で溶解させた高純度銅は、上記圧力差により割り型ルツ
ボの合わせ部分を浸透し、ルツボの外表面において表面
張力により球状に凝固する。
透するために必要なベルジャー内の真空度は、一体型の
黒鉛ルツボを用いた場合は10−4Torr以上、割り
型のルツボを用いた場合は10−3Torr以上である
。
製造法に用いる上記2種類のルツボを装備した高純度銅
球状粉製造装置の一例を示す断面図である。
が 1.4〜2.0g/cm3 の一体型の黒鉛ルツボ
である。溶解した原料銅を黒鉛ルツボ3に浸透させるに
は、2.0g/cm3 以下のかさ密度のものが好まし
いことが本発明者等により確認されている。一方、図2
に示した装置のルツボは、合わせ部8の寸法公差を0.
01mm以下に調整したパイプ7と受け台6から成る割
り型のルツボである。なお、合わせ部8の寸法公差が0
.01mm以上あると、合わせ部において溶湯もれを生
じてしまうため、溶湯が球状にならない。
を製造したところ、得られた銅球状粉には、巣はまった
く見られず、粉末表面の汚染もない均一な球状粉であっ
た。また、原料銅を高真空中において溶解させているた
め、製品中にガス成分がほとんど混入しない。そのため
製品は、原料の純度をほぼ完全に維持することができる
。
、原料銅として銀および硫黄の合計含有量が1ppm
以下であり、純度が 99.99%以上の高純度銅を用
いた場合であっても、該純度が維持された銅球状粉を製
造することができる。
説明する。しかし本発明の範囲は、以下の実施例により
制限されるものではない。
に示した高純度銅球状粉製造装置の一例を用いて以下に
説明する。
であって、黒鉛受け器1は支持台2に固定されており、
その上部には黒鉛ルツボ3が設置されている。この装置
全体は、石英のベルジャー4によって覆われており、ま
た、この石英のベルジャー4は真空排気装置と直結され
ているため、その内部を高真空にすることができる。ま
た、石英のベルジャー4の外部には、高周波コイル5が
装備されており、ルツボ内の原料を加熱溶解できる構造
となっている。
以下である純度 99.99%以上の高純度銅約1kg
を、かさ密度が1.77g/cm3 の黒鉛ルツボ3に
入れ、黒鉛受け器1上に設置した。次いで石英のベルジ
ャー4内部の真空度を、真空排気装置で10−4Tor
rまで上げて保持すると共に、石英のベルジャー4の外
表面において、高周波コイル5を黒鉛ルツボ3が設置さ
れている位置にセットして加熱し、該ルツボ3内に入れ
た上記高純度銅を溶解させた。 黒鉛ルツボ3内で溶解した高純度銅は、溶湯圧と石英の
ベルジャー4内部の真空雰囲気との圧力差により黒鉛ル
ツボ3の気孔を介して浸透し、さらにルツボの外表面に
押出され、この外表面において表面張力により球状化し
、やがて自然落下した。自然落下した落下物は黒鉛受け
器1で回収し、銅球状粉を得た。
まったく見られず、粉末表面の汚染もない均一なもので
あり、原料銅の純度を維持した平均粒径 0.5mmの
高純度銅球状粉であった。
に示した高純度銅球状粉製造装置の別の一例を用いて以
下に説明する。
であって、この装置は高純度銅溶解用のルツボが、受け
台6とパイプ7から成る、合わせ部8を有する割型のも
のであること以外は実施例1で用いた装置と同様の装置
である。
以下である純度 99.99%以上の高純度銅約1kg
を、受け台6とパイプ7から成り、これらの合わせ部8
の寸法公差が0.01mm以下の割型のルツボに入れ、
黒鉛受け器1上に設置した。次いで石英のベルジャー4
内部の真空度を、真空排気装置で10−3Torrまで
上げて保持すると共に、石英のベルジャー4の外表面に
おいて、高周波コイル5をルツボが設置されている位置
にセットして加熱し、ルツボ内に入れた上記高純度銅を
溶解させた。ルツボ内で溶解した高純度銅は、ルツボの
合わせ部8における毛細管現象、および溶湯圧と石英の
ベルジャー4内部の真空雰囲気との圧力差により、ルツ
ボの合わせ部8に浸透し、さらにルツボの外表面に押出
され、この外表面において表面張力により球状化し、や
がて自然落下した。自然落下した落下物は黒鉛受け器1
で回収し、銅球状粉を得た。
例1で得られたものと同様の高純度銅球状粉であった。
生およびガス成分の混入などがなく、原料の純度がほぼ
完全に維持された高純度銅球状粉が製造できるようにな
った。また、本発明の高純度銅球状粉の製造法は、簡易
な装置を用いて容易に実施することができるため、その
産業的価値は極めて高い。
度銅球状粉製造装置の一例を示す断面図である。
度銅球状粉製造装置の別の一例を示す断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 純度が 99.99%以上の高純度銅
を原料とし、原料の純度を維持したまま粒径 0.1m
m〜5mm の球状粉に形成する高純度銅球状粉の製造
法であって、原料である高純度銅を一体型のルツボに入
れ、これを10−4Torr以上の高真空中において高
周波加熱により溶解し、溶解した高純度銅の溶湯圧と該
真空雰囲気との圧力差により高純度銅の溶湯をルツボ中
の気孔を介して浸透させ、さらにルツボの外表面まで押
出されてきた該溶湯を表面張力により球状に凝固させ、
ルツボの外表面から自然落下してくる球状粉を回収する
ことを特徴とする高純度銅球状粉の製造法。 - 【請求項2】 純度が 99.99%以上の高純度銅
を原料とし、原料の純度を維持したまま粒径 0.1m
m〜5mm の球状粉に形成する高純度銅球状粉の製造
法であって、原料である高純度銅を割り型のルツボに入
れ、これを10−3Torr以上の高真空中において高
周波加熱により溶解し、溶解した高純度銅の溶湯圧と該
真空雰囲気との圧力差により高純度銅の溶湯を割り型ル
ツボの合わせ部分を浸透させ、さらにルツボの外表面ま
で押出されてきた該溶湯を表面張力により球状に凝固さ
せ、ルツボの外表面から自然落下してくる球状粉を回収
することを特徴とする高純度銅球状粉の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3906591A JPH0739601B2 (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 高純度銅球状粉の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3906591A JPH0739601B2 (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 高純度銅球状粉の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04259313A true JPH04259313A (ja) | 1992-09-14 |
JPH0739601B2 JPH0739601B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=12542732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3906591A Expired - Fee Related JPH0739601B2 (ja) | 1991-02-07 | 1991-02-07 | 高純度銅球状粉の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0739601B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
CN116372175A (zh) * | 2023-04-04 | 2023-07-04 | 东华工程科技股份有限公司 | 一种石墨烯包覆纳米铜颗粒复合材料的制备方法 |
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---|---|---|---|---|
KR101649071B1 (ko) * | 2015-02-17 | 2016-08-17 | 손상열 | 모바일 디바이스용 거치 홀더 |
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1991
- 1991-02-07 JP JP3906591A patent/JPH0739601B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|---|---|---|
CN116372175A (zh) * | 2023-04-04 | 2023-07-04 | 东华工程科技股份有限公司 | 一种石墨烯包覆纳米铜颗粒复合材料的制备方法 |
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---|---|
JPH0739601B2 (ja) | 1995-05-01 |
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