JPH04255244A - 圧電ステージ - Google Patents

圧電ステージ

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Publication number
JPH04255244A
JPH04255244A JP3036767A JP3676791A JPH04255244A JP H04255244 A JPH04255244 A JP H04255244A JP 3036767 A JP3036767 A JP 3036767A JP 3676791 A JP3676791 A JP 3676791A JP H04255244 A JPH04255244 A JP H04255244A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
piezoelectric
piezoelectric element
elements
thickness direction
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3036767A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinjiro Nagano
長野 信二郎
Masakatsu Kiyohara
正勝 清原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toto Ltd
Original Assignee
Toto Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toto Ltd filed Critical Toto Ltd
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Publication of JPH04255244A publication Critical patent/JPH04255244A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/703Non-planar pattern areas or non-planar masks, e.g. curved masks or substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電圧を印加することで変
位する圧電素子を組み込んだ圧電ステージに関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ加工装置や半導体処理装置等に適
用する圧電素子を用いたステージ或いはチャックとして
特開昭60−177834号及び実開平1−74597
号に開示されるものが知られている。これら先行技術に
開示されるステージ或いはチャックはいずれも固定され
た基板上に複数の圧電素子(ピエゾ素子)を立設し、こ
れら圧電素子の上端をチャック或いは可動板に取り付け
た構造になっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の圧電ス
テージにあっては圧電素子とステージとが別々のため、
厚み方向の寸法が大となり、狭いスペース内に組み込む
ことができない。そこで、ステージ内に圧電素子を一体
的に組み込むことが考えられる。このための手段として
本発明者らは先に圧電セラミックス材料からなるセラミ
ックグリーンシートに電極部となる導電ペーストをプリ
ントし、これらセラミックグリーンシートを積層した後
焼成する手段を提案したが、この手段による場合にはセ
ラミックグリーンシートに各シートの電極部を導通させ
るためのスルーホールを形成しなければならず製作に手
間がかかり、また多数の圧電素子を設けて細かな制御を
行おうとすると、それだけ多数のスルーホールを形成し
なけらばならずステージ内に組み込む圧電素子の数も制
限される。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、圧電素子の伸縮動によりステージ上に載置若し
くは固着した被処理物を微小動せしめるようにした圧電
ステージの本体内に積層型の圧電素子を組み込むととも
にこの圧電素子の電極部をステージの厚み方向と直交方
向に配列した。
【0005】
【作用】多数の圧電素子のうちの特定の圧電素子に電圧
を印加すると、この圧電素子のみがステージの横方向に
圧縮し、この反作用として当該圧電素子の部分がステー
ジの厚み方向に突出する。そしてこの突出によりステー
ジ上に載置または固着されている被処理物の一部が微小
量変位する。
【0006】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。ここで図1は本発明に係る圧電ステージの断
面図、図2は同圧電ステージの要部拡大断面図、図3は
同圧電ステージの製造方法を説明した斜視図である。
【0007】圧電ステージは本体1内に多数の圧電素子
2…を一体的に設けるとともに、本体1には半導体ウエ
ハ等の被処理物Wを吸引する貫通孔3…を穿設している
【0008】圧電素子2は図2に示すように、圧電セラ
ミックス4内に膜状の電極部5…をステージの厚み方向
と直交方向に配列し、各電極部5をリード線6により外
部の電源に接続している。
【0009】斯かる圧電ステージの製造方法は図3に示
すように、ドクターブレード法により成形された未焼成
のセラミックグリーンシート7…をステージの厚み方向
と直交する方向に積層した後に焼成することで得る。グ
リーンシートの成形については上記方法の他、鋳込み成
形、プレス成形など適宜方法が利用できる。ここで、セ
ラミックグリーンシート7の材料はPZT(チタン酸ジ
ルコン酸鉛),PT(チタン酸鉛)或いはPLZT(チ
タン酸ジルコン酸ランタン鉛)等の圧電セラミックス材
料とし、またセラミックグリーンシート7の表面には銀
ペースト或いは銀とパラジウムの混合ペースト等の導電
ペーストからなる電極部5がプリントされている。尚、
還元焼成を施せば電極材料には、銅、ニッケル等も利用
できる。
【0010】以上のセラミックグリーンシート7…を積
層して焼成することで内部に多数の圧電素子2…を一体
的に設けた圧電ステージが得られる。そしてこの圧電ス
テージ内の特定の圧電素子2aに電圧を印加すると、図
4に示すように当該圧電素子2aがステージの厚み方向
と直交方向(図において左右方向)に縮み、この縮みの
反作用として圧電素子2aはステージの厚み方向に伸び
、これによりステージ上に吸引保持されている被処理物
Wの一部(表面が凹んでいた部分)が持ち上げられ表面
の平坦度が高められる。
【0011】図5は別実施例に係る圧電ステージの断面
図であり、この実施例にあってはステージ本体1に真空
引き用の貫通孔を形成する代りに静電吸着用の電極8を
形成している。
【0012】以上の実施例にあっては圧電ステージを静
電チャック或いは真空チャックと組み合わせた例を示し
たが、電子顕微鏡の被検体を載置するステージ等として
用いる場合はチャック機構は不用である。また圧電ステ
ージの製造方法はセラミックグリーンシートの積層法に
限らず、ステージ本体に穴を設け、この穴の中に積層型
圧電素子を埋設してもよい。更に圧電ステージ内に組み
込んだ多数の圧電素子に電圧を印加するにあたり、ステ
ージ内の一端に位置する圧電素子から他端に位置する圧
電素子に向って順次電圧を印加するようにすれば、極め
て遅い速度で被処理物を移動せしめることもできる。
【0013】
【発明の効果】以上に説明した如く本発明によれば、圧
電ステージの本体と圧電素子とを同一厚み範囲内に収め
たので、圧電ステージとして極めてコンパクトなものを
提供できる。また圧電素子を構成する電極部をステージ
の厚み方向と直交方向に配列したので、各電極部を外部
に取り出しやすく、圧電素子の大きさを任意に設定でき
るので、被処理物の微小部分の平面度の調整が容易とな
る。またセラミックグリーンシートの積層法で製造する
場合にもスルーホールが不用となり製造が簡単になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る圧電ステージの断面図
【図2】同
圧電ステージの要部拡大断面図
【図3】同圧電ステージ
の製造方法を説明した斜視図
【図4】圧電ステージの作
用を示す断面図
【図5】別実施例に係る圧電ステージの
断面図
【符号の説明】
1…圧電ステージ本体、2…圧電素子、5…電極部、7
…セラミックグリーンシート。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  圧電素子の伸縮動によりステージ上に
    載置若しくは固着した被処理物を微小動せしめるように
    した圧電ステージにおいて、この圧電ステージはステー
    ジ本体内に積層型の圧電素子を組み込み、この圧電素子
    の電極部はステージの厚み方向と直交方向に配列されて
    いることを特徴とする圧電ステージ。
  2. 【請求項2】  前記圧電ステージは表面に電極部をプ
    リントした圧電セラミックス材料からなるセラミックグ
    リーンシートを積層して焼成してなることを特徴とする
    請求項1に記載の圧電ステージ。
JP3036767A 1991-02-06 1991-02-06 圧電ステージ Withdrawn JPH04255244A (ja)

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JP3036767A JPH04255244A (ja) 1991-02-06 1991-02-06 圧電ステージ

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JP3036767A JPH04255244A (ja) 1991-02-06 1991-02-06 圧電ステージ

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JPH04255244A true JPH04255244A (ja) 1992-09-10

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ID=12478912

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JP3036767A Withdrawn JPH04255244A (ja) 1991-02-06 1991-02-06 圧電ステージ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001090820A1 (en) * 2000-05-23 2001-11-29 Silicon Valley Group, Inc. Flexible piezoelectric chuck

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001090820A1 (en) * 2000-05-23 2001-11-29 Silicon Valley Group, Inc. Flexible piezoelectric chuck
US6556281B1 (en) 2000-05-23 2003-04-29 Asml Us, Inc. Flexible piezoelectric chuck and method of using the same

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