JPH04253148A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH04253148A JPH04253148A JP2805691A JP2805691A JPH04253148A JP H04253148 A JPH04253148 A JP H04253148A JP 2805691 A JP2805691 A JP 2805691A JP 2805691 A JP2805691 A JP 2805691A JP H04253148 A JPH04253148 A JP H04253148A
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- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 3
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線回折装置等のＸ線
装置に用いられてＸ線を発生するＸ線発生装置に関する
。
装置に用いられてＸ線を発生するＸ線発生装置に関する
。
【０００２】
【従来の技術】一般にＸ線発生装置は、筒状に形成され
ていて内部空間を密閉するＸ線管壁と、Ｘ線管壁の一部
に設けられたＸ線取出し用窓と、Ｘ線管壁によって囲ま
れる空間内に設けられたＸ線源とを有している。そして
、Ｘ線管壁によって囲まれる空間内を真空に保持した状
態でＸ線源からＸ線を放射し、そのＸ線を上記Ｘ線取出
し用窓から外部へ取り出すようになっている。上記Ｘ線
源は、通常、コイル状のフィラメントによって形成され
た陰極と、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）等の金属に
よって形成されていてターゲット等と呼ばれる対陰極と
によって構成されている。そして、フィラメントを加熱
してそこから熱電子を放出させ、その熱電子をターゲッ
トに衝突させることにより、そのターゲットからＸ線を
発生させる。このＸ線発生装置を、例えば、Ｘ線回折装
置のＸ線源として用いる場合には、Ｘ線管の外部に取り
出されたＸ線を試料へ照射し、その試料で回折したＸ線
、すなわち回折Ｘ線の強度等をＸ線検出器によって検出
する。
ていて内部空間を密閉するＸ線管壁と、Ｘ線管壁の一部
に設けられたＸ線取出し用窓と、Ｘ線管壁によって囲ま
れる空間内に設けられたＸ線源とを有している。そして
、Ｘ線管壁によって囲まれる空間内を真空に保持した状
態でＸ線源からＸ線を放射し、そのＸ線を上記Ｘ線取出
し用窓から外部へ取り出すようになっている。上記Ｘ線
源は、通常、コイル状のフィラメントによって形成され
た陰極と、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）等の金属に
よって形成されていてターゲット等と呼ばれる対陰極と
によって構成されている。そして、フィラメントを加熱
してそこから熱電子を放出させ、その熱電子をターゲッ
トに衝突させることにより、そのターゲットからＸ線を
発生させる。このＸ線発生装置を、例えば、Ｘ線回折装
置のＸ線源として用いる場合には、Ｘ線管の外部に取り
出されたＸ線を試料へ照射し、その試料で回折したＸ線
、すなわち回折Ｘ線の強度等をＸ線検出器によって検出
する。
【０００３】上記のＸ線発生装置において要求される条
件の１つとして、Ｘ線管壁によって囲まれる空間の内部
、すなわちＸ線源のまわりを長期間にわたって高度の真
空状態に保持するということがある。これは、上記フィ
ラメントからの異常放電を防止したり、フィラメントが
酸化して劣下するのを防止するための措置である。従来
のＸ線発生装置においては、Ｘ線管壁によって囲まれる
空間の内部の真空度を長期間にわたって高く保持するた
めに、真空状態においてガスの放出量が少ない材料、例
えばステンレス等によってＸ線管壁を形成していた。
件の１つとして、Ｘ線管壁によって囲まれる空間の内部
、すなわちＸ線源のまわりを長期間にわたって高度の真
空状態に保持するということがある。これは、上記フィ
ラメントからの異常放電を防止したり、フィラメントが
酸化して劣下するのを防止するための措置である。従来
のＸ線発生装置においては、Ｘ線管壁によって囲まれる
空間の内部の真空度を長期間にわたって高く保持するた
めに、真空状態においてガスの放出量が少ない材料、例
えばステンレス等によってＸ線管壁を形成していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】Ｘ線管壁としてステン
レス等を用いれば、Ｘ線管壁によって囲まれる空間が真
空状態とされた場合にもガスの放出が比較的少ないので
、長期間にわたって高い真空度が保持される。しかしな
がら、次のような問題があった。Ｘ線源においては、フ
ィラメントが高温に加熱され、さらに熱電子の衝突によ
りターゲットが発熱して高温になる。さらに、一度ター
ゲットに衝突した熱電子の一部が反跳電子となってＸ線
管壁に衝突するためＸ線管壁の温度も上昇する。従って
、Ｘ線発生装置によるＸ線放射を継続して行うためには
、Ｘ線源はもとよりＸ線発生装置全体を冷却する必要が
ある。従来、Ｘ線発生装置を冷却するにあたっては、タ
ーゲット内に冷却液、例えば水を流したり、Ｘ線管壁に
複数の冷却液通路を形成して該通路に冷却液を流す等と
いった方法がとられている。しかしながらこの場合、従
来のようにＸ線管壁をステンレスによって形成しておく
と、ステンレスは熱伝導率が非常に悪いので、Ｘ線管壁
内に多数の冷却液通路を複雑に配回さなければ目標とす
る冷却効果が得られなかった。そのため、Ｘ線管壁を製
造するにあたって、非常に難しい加工工程が要求された
り、加工のために長時間を必要とするといった欠点があ
った。
レス等を用いれば、Ｘ線管壁によって囲まれる空間が真
空状態とされた場合にもガスの放出が比較的少ないので
、長期間にわたって高い真空度が保持される。しかしな
がら、次のような問題があった。Ｘ線源においては、フ
ィラメントが高温に加熱され、さらに熱電子の衝突によ
りターゲットが発熱して高温になる。さらに、一度ター
ゲットに衝突した熱電子の一部が反跳電子となってＸ線
管壁に衝突するためＸ線管壁の温度も上昇する。従って
、Ｘ線発生装置によるＸ線放射を継続して行うためには
、Ｘ線源はもとよりＸ線発生装置全体を冷却する必要が
ある。従来、Ｘ線発生装置を冷却するにあたっては、タ
ーゲット内に冷却液、例えば水を流したり、Ｘ線管壁に
複数の冷却液通路を形成して該通路に冷却液を流す等と
いった方法がとられている。しかしながらこの場合、従
来のようにＸ線管壁をステンレスによって形成しておく
と、ステンレスは熱伝導率が非常に悪いので、Ｘ線管壁
内に多数の冷却液通路を複雑に配回さなければ目標とす
る冷却効果が得られなかった。そのため、Ｘ線管壁を製
造するにあたって、非常に難しい加工工程が要求された
り、加工のために長時間を必要とするといった欠点があ
った。
【０００５】本発明は、従来のＸ線発生装置における上
記の問題点に鑑みてなされたものであって、Ｘ線管壁に
関する冷却構造を非常に簡単に形成することができ、し
かもＸ線管壁に関して高い冷却効果を得ることができ、
さらに、Ｘ線管壁によって囲まれる空間内を長期間にわ
たって高度の真空状態に保持できるＸ線発生装置を提供
することを目的とする。
記の問題点に鑑みてなされたものであって、Ｘ線管壁に
関する冷却構造を非常に簡単に形成することができ、し
かもＸ線管壁に関して高い冷却効果を得ることができ、
さらに、Ｘ線管壁によって囲まれる空間内を長期間にわ
たって高度の真空状態に保持できるＸ線発生装置を提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線発生装置は、筒状に形成されてい
て内部空間を密閉するＸ線管壁（１）と、Ｘ線管壁の一
部に設けられたＸ線取出し用窓（７）と、Ｘ線管壁によ
って囲まれる空間内に設けられたＸ線源（ターゲット２
，フィラメント４）とを有しており、Ｘ線管壁によって
囲まれる空間内を真空に保持した状態でＸ線源からＸ線
を放射し、そのＸ線を上記Ｘ線取出し用窓から外部へ取
り出すＸ線発生装置であって、Ｘ線管壁を銅又は銅合金
によって形成し、さらに、熱的に蒸気圧が低くかつ真空
状態下でガスの放出量の少ない金属（１１）をＸ線管壁
の内面に設けたことを特徴としている。熱的に蒸気圧が
低く、かつ真空状態下でガスの放出量の少ない金属とし
ては、例えばニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタ
ン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等が考えられる。 上記の金属をＸ線管壁の内面に薄膜状に設ける方法とし
ては、蒸着、ＣＶＤ、あるいはその他種々の薄膜形成方
法を採用することができる。
め、本発明に係るＸ線発生装置は、筒状に形成されてい
て内部空間を密閉するＸ線管壁（１）と、Ｘ線管壁の一
部に設けられたＸ線取出し用窓（７）と、Ｘ線管壁によ
って囲まれる空間内に設けられたＸ線源（ターゲット２
，フィラメント４）とを有しており、Ｘ線管壁によって
囲まれる空間内を真空に保持した状態でＸ線源からＸ線
を放射し、そのＸ線を上記Ｘ線取出し用窓から外部へ取
り出すＸ線発生装置であって、Ｘ線管壁を銅又は銅合金
によって形成し、さらに、熱的に蒸気圧が低くかつ真空
状態下でガスの放出量の少ない金属（１１）をＸ線管壁
の内面に設けたことを特徴としている。熱的に蒸気圧が
低く、かつ真空状態下でガスの放出量の少ない金属とし
ては、例えばニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタ
ン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等が考えられる。 上記の金属をＸ線管壁の内面に薄膜状に設ける方法とし
ては、蒸着、ＣＶＤ、あるいはその他種々の薄膜形成方
法を採用することができる。
【０００７】
【作用】Ｘ線管壁（１）には冷却液通路（１０）が形成
され、その冷却液通路を通って流れる冷却液、例えば水
によってＸ線管壁、ひいてはＸ線発生装置全体が冷却さ
れる。Ｘ線管壁は、熱伝導率の高い銅（Ｃｕ）又は銅合
金によって形成されているので、数少ない冷却液通路（
１０）によって効率良く冷却される。よって、冷却液通
路を複雑に配回す必要もない。銅（Ｃｕ）は、熱伝導率
が高い一方で、真空状態下でガスを放出し易いという性
質を有している。従って、銅又はその合金をそのままの
状態でＸ線管壁として用いると、Ｘ線管壁によって囲ま
れる空間内、すなわちＸ線源（ターゲット２，フィラメ
ント４）のまわりの真空度が著しく低下し、異常放電、
フィラメント劣下等の原因となる。これに対し本発明で
は、ニッケル（Ｎｉ）等のように、熱的に蒸気圧が低く
かつ真空状態下でガスの放出量の少ない金属をＸ線管壁
の内面にコーティングしてあるので、Ｘ線管壁によって
囲まれる空間内へのガスの漏出が防止され、該空間内を
長期間にわたって高度の真空状態に保持できる。
され、その冷却液通路を通って流れる冷却液、例えば水
によってＸ線管壁、ひいてはＸ線発生装置全体が冷却さ
れる。Ｘ線管壁は、熱伝導率の高い銅（Ｃｕ）又は銅合
金によって形成されているので、数少ない冷却液通路（
１０）によって効率良く冷却される。よって、冷却液通
路を複雑に配回す必要もない。銅（Ｃｕ）は、熱伝導率
が高い一方で、真空状態下でガスを放出し易いという性
質を有している。従って、銅又はその合金をそのままの
状態でＸ線管壁として用いると、Ｘ線管壁によって囲ま
れる空間内、すなわちＸ線源（ターゲット２，フィラメ
ント４）のまわりの真空度が著しく低下し、異常放電、
フィラメント劣下等の原因となる。これに対し本発明で
は、ニッケル（Ｎｉ）等のように、熱的に蒸気圧が低く
かつ真空状態下でガスの放出量の少ない金属をＸ線管壁
の内面にコーティングしてあるので、Ｘ線管壁によって
囲まれる空間内へのガスの漏出が防止され、該空間内を
長期間にわたって高度の真空状態に保持できる。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明に係るＸ線発生装置の一実施
例を上方から見た場合を示している。同図において、紙
面垂直方向に延びる角筒状のＸ線管壁１によって囲まれ
る空間内に円柱状のターゲット２が配置されている。ま
た、Ｘ線管壁１の左側壁外周面にモータ３が固定して取
り付けられている。このモータ３は、ターゲット２を軸
線Ｌを中心として回転させる。ターゲット２の外周側面
に対向する位置には、コイル状のフィラメント４が固定
して設けられている。このフィラメント４には電流源５
が接続されており、その電流源５からフィラメント４に
電流が流される。この通電によりフィラメント４が加熱
され、該フィラメントから熱電子が放出される。フィラ
メント４とターゲット２との間には高圧源６が接続され
ており、この高圧源６により、両者間に高電圧が印加さ
れている。フィラメント４から放出された熱電子は、上
記の高電圧によって加速されてターゲット２の外周側面
に衝突し、そこからＸ線が放射される。
例を上方から見た場合を示している。同図において、紙
面垂直方向に延びる角筒状のＸ線管壁１によって囲まれ
る空間内に円柱状のターゲット２が配置されている。ま
た、Ｘ線管壁１の左側壁外周面にモータ３が固定して取
り付けられている。このモータ３は、ターゲット２を軸
線Ｌを中心として回転させる。ターゲット２の外周側面
に対向する位置には、コイル状のフィラメント４が固定
して設けられている。このフィラメント４には電流源５
が接続されており、その電流源５からフィラメント４に
電流が流される。この通電によりフィラメント４が加熱
され、該フィラメントから熱電子が放出される。フィラ
メント４とターゲット２との間には高圧源６が接続され
ており、この高圧源６により、両者間に高電圧が印加さ
れている。フィラメント４から放出された熱電子は、上
記の高電圧によって加速されてターゲット２の外周側面
に衝突し、そこからＸ線が放射される。
【０００９】Ｘ線管壁１の右側壁下部に、Ｘ線を透過で
きる材料、例えばベリリウム（Ｂｅ）によって形成され
たＸ線取出し用窓７が設けられている。ターゲット２か
ら放射されたＸ線の一部はＸ線取出し用窓７を介してＸ
線管壁１の外部へ取り出される。本Ｘ線発生装置が、例
えばＸ線回折装置に適用された場合には、Ｘ線取出し用
窓７を介して取り出されたＸ線によって試料８が照射さ
れ、そのＸ線と試料内の結晶格子面との間でＸ線回折条
件が満足されるときに、その試料８でＸ線が回折する。 この回折Ｘ線は、図示されていないＸ線検出器によって
その強度等が検出される。
きる材料、例えばベリリウム（Ｂｅ）によって形成され
たＸ線取出し用窓７が設けられている。ターゲット２か
ら放射されたＸ線の一部はＸ線取出し用窓７を介してＸ
線管壁１の外部へ取り出される。本Ｘ線発生装置が、例
えばＸ線回折装置に適用された場合には、Ｘ線取出し用
窓７を介して取り出されたＸ線によって試料８が照射さ
れ、そのＸ線と試料内の結晶格子面との間でＸ線回折条
件が満足されるときに、その試料８でＸ線が回折する。 この回折Ｘ線は、図示されていないＸ線検出器によって
その強度等が検出される。
【００１０】Ｘ線管壁１の図面上側の側壁には、ロータ
リポンプ、ターボ分子ポンプ等によって形成された真空
排気装置９が接続されている。ターゲット２からＸ線が
放射される間、Ｘ線管壁１によって囲まれる空間内は上
記の真空排気装置９の働きによって真空に保持される。 上記の空間内を真空に保持することにより、フィラメン
ト４からの異常放電、フィラメント４の劣下等を防止し
ている。
リポンプ、ターボ分子ポンプ等によって形成された真空
排気装置９が接続されている。ターゲット２からＸ線が
放射される間、Ｘ線管壁１によって囲まれる空間内は上
記の真空排気装置９の働きによって真空に保持される。 上記の空間内を真空に保持することにより、フィラメン
ト４からの異常放電、フィラメント４の劣下等を防止し
ている。
【００１１】ところで、フィラメント４は熱電子を放出
するに際して高温に発熱する。また、ターゲット２は、
熱電子の衝突により、これまた高温に発熱する。さらに
、一度ターゲットに衝突した熱電子の一部が反跳電子と
なってＸ線管壁に衝突するためＸ線管壁の温度も上昇す
る。従って、Ｘ線発生装置を長時間にわたって正常に稼
働させるためには、冷却のための手段を設ける必要があ
る。本実施例では、Ｘ線管壁１の適所に管壁１に沿って
延びる、すなわち紙面垂直方向に延びる断面円形状の３
本の冷却水通路１０が設けてある。これらの冷却水通路
は、Ｘ線管壁１内を複雑に配回してあるわけではなく、
単に直線状に設けられている。また、Ｘ線管壁１それ自
体は、熱伝導率の高い銅（Ｃｕ）又は銅合金によって形
成されており、さらにＸ線取出し用窓７が設けられた部
分を除いて、Ｘ線管壁１の内周面全域に薄い膜状の金属
層１１が蒸着されている。この金属層１１を構成する金
属としては、熱的に蒸気圧が低くかつ真空状態下でガス
の放出量が少ない材料、例えばニッケル（Ｎｉ）が用い
られている。
するに際して高温に発熱する。また、ターゲット２は、
熱電子の衝突により、これまた高温に発熱する。さらに
、一度ターゲットに衝突した熱電子の一部が反跳電子と
なってＸ線管壁に衝突するためＸ線管壁の温度も上昇す
る。従って、Ｘ線発生装置を長時間にわたって正常に稼
働させるためには、冷却のための手段を設ける必要があ
る。本実施例では、Ｘ線管壁１の適所に管壁１に沿って
延びる、すなわち紙面垂直方向に延びる断面円形状の３
本の冷却水通路１０が設けてある。これらの冷却水通路
は、Ｘ線管壁１内を複雑に配回してあるわけではなく、
単に直線状に設けられている。また、Ｘ線管壁１それ自
体は、熱伝導率の高い銅（Ｃｕ）又は銅合金によって形
成されており、さらにＸ線取出し用窓７が設けられた部
分を除いて、Ｘ線管壁１の内周面全域に薄い膜状の金属
層１１が蒸着されている。この金属層１１を構成する金
属としては、熱的に蒸気圧が低くかつ真空状態下でガス
の放出量が少ない材料、例えばニッケル（Ｎｉ）が用い
られている。
【００１２】上記のようにＸ線管壁１は、熱伝導率の高
い銅等によって形成されているので、数が少なくしかも
単なる直線状の冷却水通路１０に冷却水を流すだけで、
十分にＸ線発生装置を冷却することができる。また、銅
それ自身は、真空状態下におけるガスの放出量が非常に
多いが、本実施例ではＸ線管壁１の内周面全域に、ガス
を放出しにくいニッケル等を蒸着してあるので、Ｘ線管
壁１によって囲まれる空間内にガスが放出されて、該空
間内の真空度が低下するといった不都合が発生しない。
い銅等によって形成されているので、数が少なくしかも
単なる直線状の冷却水通路１０に冷却水を流すだけで、
十分にＸ線発生装置を冷却することができる。また、銅
それ自身は、真空状態下におけるガスの放出量が非常に
多いが、本実施例ではＸ線管壁１の内周面全域に、ガス
を放出しにくいニッケル等を蒸着してあるので、Ｘ線管
壁１によって囲まれる空間内にガスが放出されて、該空
間内の真空度が低下するといった不都合が発生しない。
【００１３】以上、１つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものではない
。例えば、Ｘ線管壁１の形状は、角柱状に限らず他の任
意の形状とすることができる。Ｘ線管壁１に付設する冷
却水通路１０の数も、３本に限らず、必要に応じてより
多くしたり、あるいは、より少なくすることもできる。 また、冷却水通路１０の配設位置も、ターゲット２その
他の部材との関連で他の任意の位置とすることもできる
。
したが、本発明はその実施例に限定されるものではない
。例えば、Ｘ線管壁１の形状は、角柱状に限らず他の任
意の形状とすることができる。Ｘ線管壁１に付設する冷
却水通路１０の数も、３本に限らず、必要に応じてより
多くしたり、あるいは、より少なくすることもできる。 また、冷却水通路１０の配設位置も、ターゲット２その
他の部材との関連で他の任意の位置とすることもできる
。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、Ｘ線管壁を熱伝導率の
高い銅又は銅合金によって形成したので、Ｘ線管壁に関
して非常に簡単な冷却構造を採用しただけで、非常に高
い冷却効果を得ることができる。また、Ｘ線管壁の内周
面に、熱的に蒸気圧が低くかつ真空状態下でガスの放電
量の少ない金属を層状に設けたので、Ｘ線管壁を構成す
る銅等それ自体はガスを放出し易い材料であっても、そ
の金属層の作用により、Ｘ線管壁によって囲まれる空間
内にガスが漏出されることが防止される。よって、該空
間内を長期間にわたって高度の真空状態に保持すること
ができる。
高い銅又は銅合金によって形成したので、Ｘ線管壁に関
して非常に簡単な冷却構造を採用しただけで、非常に高
い冷却効果を得ることができる。また、Ｘ線管壁の内周
面に、熱的に蒸気圧が低くかつ真空状態下でガスの放電
量の少ない金属を層状に設けたので、Ｘ線管壁を構成す
る銅等それ自体はガスを放出し易い材料であっても、そ
の金属層の作用により、Ｘ線管壁によって囲まれる空間
内にガスが漏出されることが防止される。よって、該空
間内を長期間にわたって高度の真空状態に保持すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るＸ線発生装置の一実施例を示す平
面断面図である。
面断面図である。
１ Ｘ線管壁
２ ターゲット４ フィラメント
７ Ｘ線取出し用窓１１ 薄膜金属層
２ ターゲット４ フィラメント
７ Ｘ線取出し用窓１１ 薄膜金属層
Claims (1)
- 【請求項１】 筒状に形成されていて内部空間を密閉
するＸ線管壁と、Ｘ線管壁の一部に設けられたＸ線取出
し用窓と、Ｘ線管壁によって囲まれる空間内に設けられ
たＸ線源とを有しており、Ｘ線管壁によって囲まれる空
間内を真空に保持した状態でＸ線源からＸ線を放射し、
そのＸ線を上記Ｘ線取出し用窓から外部へ取り出すＸ線
発生装置において、Ｘ線管壁を銅又は銅合金によって形
成し、さらに、熱的に蒸気圧が低くかつ真空状態下でガ
スの放出量の少ない金属をＸ線管壁の内面に設けたこと
を特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2805691A JPH04253148A (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2805691A JPH04253148A (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04253148A true JPH04253148A (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=12238103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2805691A Pending JPH04253148A (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04253148A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015523685A (ja) * | 2012-06-14 | 2015-08-13 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトＳｉｅｍｅｎｓ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ | Ｘ線源、その使用およびｘ線生成方法 |
-
1991
- 1991-01-29 JP JP2805691A patent/JPH04253148A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015523685A (ja) * | 2012-06-14 | 2015-08-13 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトＳｉｅｍｅｎｓ Ａｋｔｉｅｎｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ | Ｘ線源、その使用およびｘ線生成方法 |
| US9761405B2 (en) | 2012-06-14 | 2017-09-12 | Siemens Aktiengesellschaft | X-ray source and the use thereof and method for producing X-rays |
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