JP2017123246A - X線発生装置 - Google Patents

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光央 岩瀬
Mitsuhisa Iwase
光央 岩瀬
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Abstract

【課題】電子トラップの圧力損失を低減し、且つ冷却性能を向上する、X線発生装置を提供することである。
【解決手段】本発明の実施形態に係るX線発生装置は、真空外囲器と、真空外囲器内に配置された陰極と、前記真空外囲器内で前記陰極に対向して配置された陽極ターゲットと、陰極と陽極ターゲットとの間に配置された電子トラップ構造体と、冷却液を循環させる冷却液循環部と、を備え、電子トラップ構造体は、電子ビームが通過するアパーチャ部を有し、且つ電子を捕獲するボディ部と、ボディ部内部の陽極ターゲット側に設けられ、冷却液が導入される導入口を有し、且つ、導入口の近傍に流路を閉塞する仕切り板を有する下段流路と、下段流路の陰極側に壁面を介して設けられ、下段流路を通過した冷却液が導入され、アパーチャ部を挟んで導入口と反対側に、冷却液が排出される排出口を有する上段流路と、を備える。
【選択図】図1

Description

実施形態は、X線発生装置に関する。
X線発生装置は、真空外囲器内で、陰極と陽極ターゲットとの間に印加された高電圧により、陰極から発生した電子を、陽極ターゲットに向かい加速し、陽極ターゲットに衝撃させることで、X線を発生させる。発生したX線は、X線放射窓を通ってX線発生装置の外部に放射される。放射されたX線は、例えば、医療用の撮影用途等に使用される。
ここで、陽極ターゲットに衝撃した電子は、陽極ターゲットに吸収されて熱エネルギを陽極ターゲットに与え、この電子の一部は、反跳電子となり、X線発生装置内に散逸する。陽極ターゲットが接地電位となる場合、陽極ターゲットに衝撃した電子の内、およそ3割以上の電子が、陽極ターゲットに捕獲されずに反跳電子となり、周囲に飛散することが知られている。これらの反跳電子の一部は、陽極ターゲットの焦点から離れた位置に再度衝撃し、その他の反跳電子の一部は、陽極ターゲット及び陰極を格納する外囲器の内壁に衝撃する。このような電子は、不要X線を発生させ、X線発生装置の性能を劣化させ得る。また、電子が外囲器を衝撃した場合、その電子が衝撃した外囲器の温度が、急激に上昇し、破損する可能性もある。
このため、電子を捕獲する電子トラップを設けることで、X線発生装置の性能の劣化を防止する方法が一般にX線発生装置に適用されている。このとき、電子トラップには、陽極ターゲットに衝撃する電子のエネルギの内、およそ3割以上の電子のエネルギが加えられることになる。CT(Computed Tomography)装置等では、この電子トラップに加えられるエネルギが、数十kW相当となり、電子トラップを適切に冷却する必要がある。
電子トラップを適切に冷却するために、内部に冷却液を流すための流路機構を備える電子トラップが、一般的にX線管装置に適用されている。このような流路機構を備える電子トラップとして、流速を上げて冷却効果を向上するために2段に分割された流路機構を備える電子トラップや、冷却促進体を流路内に備えた電子トラップが提案されている。
特開2003−142016号公報 特表平11−510955号公報 特開2006−10079号公報 特開2007−149452号公報
冷却液は、冷却液循環部から、電子トラップの流路機構に送られる。しかしながら、流路機構が、電子トラップの内側に形成された非常に狭い空間に設置されるため、冷却液を通過させるときに発生する圧力損失が高くなり、冷却液循環部のポンプへの負担が大きくなる可能性がある。したがって、冷却液循環部のポンプの性能によっては、必要な流量が確保されない可能性がある。また、必要な流量を確保するために、冷却液循環部を大型化した場合、装置の大きさや重量が増大し、例えば、CT装置への搭載が困難になる等の不具合も生ずる可能性がある。また、流路内に冷却促進体を設けた場合、冷却促進体により乱流が発生し、圧力損失が、高くなる可能性がある。
本発明の実施形態は、このような点に鑑みなされたもので、電子トラップの圧力損失を低減し、且つ冷却性能を向上する、X線発生装置を提供することを目的とする。
本発明の実施形態に係るX線発生装置は、真空外囲器と、前記真空外囲器内に配置され、電子ビームを放射する陰極と、前記真空外囲器内で前記陰極に対向して配置され、前記電子ビームが衝撃してX線を発生する陽極ターゲットと、前記陰極と前記陽極ターゲットとの間に配置された電子トラップ構造体と、前記電子トラップ構造体内部に冷却液を循環させる冷却液循環部と、を備え、前記電子トラップ構造体は、前記電子ビームが通過するアパーチャ部を有し、且つ前記陽極ターゲットで発生した電子を捕獲するボディ部と、前記ボディ部内部の前記陽極ターゲット側に設けられ、前記冷却液循環部から冷却液が導入される導入口を有し、且つ、前記導入口の近傍に流路を閉塞する仕切り板を有する下段流路と、前記下段流路の前記陰極側に壁面を介して設けられ、前記下段流路を通過した前記冷却液が導入され、前記アパーチャ部を挟んで前記導入口と反対側に、前記冷却液が前記冷却液循環部へ排出される排出口を有する上段流路と、を備える
図1は、実施形態に係るX線発生装置の一例を示す概要図である。 図2は、実施形態に係るX線管の一例を示す断面図である。 図3は、実施形態の電子トラップの流路機構の一例の模式図である。 図4Aは、図2のA−A線に従う電子トラップの断面図である。 図4Bは、図2のB−B線に従う電子トラップの断面図である。 図5は、比較例の電子トラップの流路機構の一例の模式図である。
以下、図面を参照しながら実施形態に係るX線管について詳細に説明する。
(実施形態)
図1は、実施形態に係るX線発生装置100の一例を示す概要図である。
X線発生装置100は、冷却液循環部30と、X線管装置90と、高電圧電源400と、を備えている。
X線管装置90は、例えば、回転陽極型のX線管である。X線管装置90は、ハウジング50と、ステータコイル70と、X線管80と、を備えている。
ハウジング50は、X線を透過し外部に放射するX線窓50Wと、外部から冷却液(冷却溶媒)を導入するための導入口51と、内部から冷却液を排出するための排出口52と、を備えている。ハウジング50は、内部が液密に密閉され、X線管80との間の空間60に、冷却液循環部30により循環する冷却液が充填されている。
冷却液循環部30は、循環ポンプ31と、熱交換器(ラジエータ)32とを備えている。冷却液循環部30は、ハウジング50の外部に設けられ、ホース等の導管で導入口51と排出口52とに連結されている。冷却液循環部30内において、循環ポンプ31は、排出口52と熱交換器32と導管で連結され、熱交換器32は、導入口51と導管で連結されている。冷却液循環部30は、ハウジング50内の冷却液を循環させる。循環ポンプ31は、ハウジング50から排出口52を介して排出された冷却液に圧力を印加して循環させる。熱交換器32は、冷却液の熱を外部に放出する。熱交換器32で放熱された冷却液は、導入口51を介してハウジング50に導入される。
X線管80は、真空外囲器1と、陰極(電子発生源)2と、陽極ターゲット3と、回転機構4と、電子トラップ5とを備えている。真空外囲器1は、例えば、ガラスや、銅、ステンレス、アルミニウム等の非磁性の金属で形成されている。なお、真空外囲器1は、磁性体の金属を含んでいてもよい。真空外囲器1は、X線放射窓1Wを備えている。X線放射窓1Wは、真空外囲器1のX線放射窓50Wに対向する位置に気密に設けられている。X線放射窓1Wは、例えば、ベリリウムで形成されている。真空外囲器1は、高真空に排気された内部に、陰極2と、陽極ターゲット3と、回転機構4とを内包する。真空外囲器1内で、陰極2と、陽極ターゲット(ターゲットディスク)3とは、互いに対向配設されている。真空外囲器1は、X線管80内を真空気密に保ち、その内部で電子を気体粒子と衝撃させずに進行させ、且つ電子加速電圧を高電圧に保つ役割を有する。
陰極2は、陽極ターゲット3に対向するように設置されている。陰極2は、陽極ターゲット3に向かって電子ビームを照射する。陰極2は、高電圧電源400にケーブル等で接続され、高電圧電源400から電力を供給される。陰極2には、相対的に負の電圧が印加される。
陽極ターゲット3は、傘状に略円板形状に形成されている。陽極ターゲット3は、傘状部の表面に、陰極2から放射された電子ビームが衝撃することで、X線を放射する。陽極ターゲット3は、回転機構4によって支持され、且つ回転機構4に従って回転可能に設置されている。陽極ターゲット3は、例えば、タングステン合金で形成され、X線を放射するターゲット層と、ターゲット層を支持するモリブデン合金(TZM)で形成されているターゲット基体とから構成されている。陽極ターゲット3は、例えば、接地電位である。
回転機構4は、固定体41と、玉軸受42、43と、回転円筒44とを備える。回転機構4は、ステータコイル70に電源(図示せず)から電流を供給されることで発生する磁場により駆動する。固定体41は、円柱状に形成され、真空外囲器1に固定されている。固定体41は、外周部に玉軸受42、43が回転円筒44を支持して設けられている。玉軸受42、43は、固定体41と回転円筒44との間に回転可能に設けられている。回転円筒44は、円筒状に形成され、外側の底面に陽極ターゲット3が固定されている。回転円筒44は、陽極ターゲット3と同軸的に、且つ回転可能に設けられている。
なお、回転機構4は、前述の構造は一例であり、他の構造でもよい。例えば、回転機構4は、陽極ターゲット3と同軸に設けられたすべり軸受を備えている構造でもよい。また、回転機構4は、内部に冷却液を供給できる構造でもよい。例えば、回転機構4は、陽極ターゲット3に同心円上に設けられた回転軸を備え、この回転軸の内部に冷却液を流すことができる構造でもよい。
電子トラップ5は、陰極2と陽極ターゲット3との間で、陰極2から放射される電子ビームを取り囲むように真空外囲器1の内部に設けられている。電子トラップ5は、リング状(ドーナツ状)に形成されている。電子トラップ5は、陰極2側よりも陽極ターゲット3側の内径が狭くなるように構成されている。電子トラップ5は、電子ビームが通過するアパーチャ部5aを有し、且つ電子を捕獲するボディ部5bで構成されている。アパーチャ部5aは、テーパを有するように構成されている。アパーチャ部5aは、陽極ターゲット3側が小端部P1、且つ陰極2側が大端部P2のテーパで構成されている。
電子トラップ5は、陽極ターゲット3で発生する反跳電子を捕獲するために高温になり得る。電子トラップ5は、急激な温度上昇を防止するために、冷却液循環部30から冷却液が導入口601を介して内部に導入される。
ここで、陰極2から放射されて陽極ターゲット3に衝撃した電子の一部は、反跳電子となって電子トラップ5側に反跳する。電子トラップ5は、これらの電子を捕獲する。このとき、電子トラップ5のアパーチャ部5aにおいて、小端部P1の方が大端部P2よりも吸収する電子が大きくなる。つまり、電子トラップ5は、アパーチャ部5aにおいて、大端部P2よりも小端部P1方が電子トラップ5の発熱量が高くなり得る。したがって、この電子トラップ5の発熱量の勾配に応じて、アパーチャ部5aの小端部P1を十分に冷却する必要がある。
図2は、実施形態に係るX線管80の一例を示す断面図であり、図3は、本実施形態の電子トラップ5の流路機構6の一例の模式図である。図2において、X線管80の中心軸を管軸TAと称する。図3では、説明の便宜上、真空外囲器1を省略している。また、図2及び図3において、管軸TAに水平な軸をZ軸と称し、Z軸に垂直に直交する軸をX軸と称し、Z軸及びX軸に直交する軸をY軸と称する。
電子トラップ5は、冷却液を流すための流路機構6を備えている。図3に示すように、流路機構6は、上下仕切り板8で、下段流路6aと、上段流路6bとに仕切られている。下段流路6aは、陽極ターゲット3(又は、小端部P1)側に冷却液を流す流路であり、上段流路6bは、陰極2(又は、大端部P2)側に冷却液を流す流路である。
電子トラップ5は、下段流路6aに冷却液を導入する導入口601が接続されている。また、電子トラップ5は、下段流路6aの導入口601が接続された位置の近傍に、流路を閉塞する仕切り板9が設置されている。例えば、図3に示すように、電子トラップ5は、導入口601が接続された位置よりもY方向に移動した位置に仕切り板9が下段流路6aの底面から上下仕切り板8までZ軸に略平行に設けられている。また、電子トラップ5は、導入口601の接続された下段流路6aの部分と仕切り板9を挟んで反対側の上下仕切り板8に、上段流路6bに繋がる連通部12が形成されている。電子トラップ5は、上段流路6bには、アパーチャ部5aを挟んで導入口601と反対側に、排出口602が接続されている。
図4A及び図4Bを参照して、電子トラップ5内での冷却液の流れについて説明する。
図4Aは、図2のA−A線に従う電子トラップ5の断面図であり、図4Bは、図2のB−B線に従う電子トラップ5の断面図である。
図4Aは、電子トラップ5の下段流路6aを示す。冷却液循環部30から送り出された冷却液は、導入口601を介して下段流路6aに供給される。冷却液は、導入口601が接続された位置から仕切り板9を挟んで反対側まで下段流路6aに沿って一方向に一周して流れる。冷却液は、下段流路を一周して仕切り板9の設置位置に戻り、仕切り板9に衝突する。冷却液は、連通部12を介して下段流路6aから上段流路6bへ流れる。
図4Bは、電子トラップ5の上段流路6bを示す。下段流路6aから流れてきた冷却液は、仕切りの設けられていない上段流路6b内を2分岐して流れる。2分岐して上段流路6bに沿って流された冷却液は、排出口602が接続された位置で合流する。排出口602が接続された位置で合流した冷却液は、排出口602を介して、空間60に排出される。空間60に排出された冷却液は、排出口52を介して冷却液循環部30に排出される。なお、内部に冷却液を流す冷却構造を備える回転機構4を有するX線管である場合、排出口602は、回転機構4の冷却構造に冷却液を導入する導管に接続されていてもよい。
図5は、比較例の電子トラップ205の流路機構6の一例の模式図である。比較例の電子トラップ5は、電子トラップ5とほぼ同等に構成されているが、流路機構6の構成が異なる。図5に示す流路機構6は、2つ以上の流路に分割されていない、一方向に流れる流路である。比較例の流路機構6は導入口601と、排出口602とが、略水平に設けられ、導入口601と、排出口602との間に仕切り板209が設けられている。比較例の流路機構6において、流路を閉塞する仕切り板209は、Z軸に略平行に流路機構6の底面から上面まで設置されている。
本実施形態の流路機構6は、上下仕切り板8で下段流路6aと上段流路6bとに仕切られているため、比較例の流路機構6よりも流路断面積が小さい。そのため、本実施形態の下段流路6aは、比較例の流路機構6よりも流速が早くなるために、冷却能力が向上する。一方、本実施形態の上段流路6bは、2分岐となるため、冷却能力は、向上しないが、比較例の流路機構6よりも圧力損失の増加を抑制することができる。
本実施形態によれば、X線発生装置100は、冷却液循環部30と、X線管80とを備えている。X線管80は、冷却液循環部30から冷却液を電子トラップ5に供給される。X線管80は、陰極2と陽極ターゲット3との間に、電子トラップ5を備えている。電子トラップ5は、流速が速くなるように形成された下段流路6aと、圧力損失を低減するように形成された上段流路6bとを備えている。電子トラップ5は、最も高温となり得る小端部P1の内側に下段流路6aが設けられている。また、電子トラップ5は、小端部P1よりも温度が低くなり得る大端部P2の内側に上段流路6bが設けられている。その結果、X線発生装置100は、電子トラップ5内の流路機構6内部に冷却液を流したときに発生する圧力損失を低減し、且つ適切な部分に対する冷却能力を向上させることができる。
なお、本実施形態の電子トラップ5の構造を使用した場合、導入口601と排出口602は、アパーチャ部5aを挟んで反対側の位置に設けられている。したがって、冷却液の配管を広い空間内に配置することが容易になるため、X線発生装置100は、冷却液の配管を簡易化することもできる。
なお、前述の実施形態では、電子トラップ5は、上段流路5aと、下段流路5bとの2つの流路のみを示したが、小端部P1の近傍に設けられた流路で流速が速く、他の流路で圧力損失を低減できる構造であれば、2つよりも多くの流路を備えていてもよい。
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものでなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具現化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
1…真空外囲器、2…陰極(電子発生源)、3…陽極ターゲット、4…回転機構、5…電子トラップ、5a…アパーチャ部、5b…ボディ部、6…流路機構、6a…下段流路、6b…上段流路、8…上下仕切り板、9…仕切り板、30…冷却液循環部、50…ハウジング、70…ステータコイル、80…X線管、90…X線管装置、100…X線発生装置、400…高電圧電源、601…導入口、602…排出口。

Claims (3)

  1. 真空外囲器と、
    前記真空外囲器内に配置され、電子ビームを放射する陰極と、
    前記真空外囲器内で前記陰極に対向して配置され、前記電子ビームが衝撃してX線を発生する陽極ターゲットと、
    前記陰極と前記陽極ターゲットとの間に配置された電子トラップ構造体と、
    前記電子トラップ構造体の内部に冷却液を循環させる冷却液循環部と、を備え、
    前記電子トラップ構造体は、前記電子ビームが通過するアパーチャ部を有し、且つ前記陽極ターゲットで発生した電子を捕獲するボディ部と、
    前記ボディ部の内部の前記陽極ターゲット側に設けられ、前記冷却液循環部から冷却液が導入される導入口を有し、且つ、前記導入口の近傍に流路を閉塞する仕切り板を有する下段流路と、
    前記下段流路の前記陰極側に壁面を介して設けられ、前記下段流路を通過した前記冷却液が導入され、前記アパーチャ部を挟んで前記導入口と反対側に、前記冷却液が前記冷却液循環部へ排出される排出口を有する上段流路と、を備えるX線発生装置。
  2. 前記上段流路は、前記導入口が接続された前記下段流路の部分と前記仕切り板を挟んで反対側の前記壁面に設けられた連通部を介して前記冷却液が導入される、請求項1に記載のX線発生装置。
  3. 前記アパーチャ部は、前記陽極ターゲット側の内径が前記陰極側の内径よりも狭く構成された、請求項1又は2に記載のX線発生装置。
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