JPH04238826A - ガラスのエッチング方法 - Google Patents
ガラスのエッチング方法Info
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- JPH04238826A JPH04238826A JP40954990A JP40954990A JPH04238826A JP H04238826 A JPH04238826 A JP H04238826A JP 40954990 A JP40954990 A JP 40954990A JP 40954990 A JP40954990 A JP 40954990A JP H04238826 A JPH04238826 A JP H04238826A
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Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、エッチングの終了時
を判定可能な、ガラスのエッチング方法に関する。
を判定可能な、ガラスのエッチング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】基板等の被エッチング部材に微細な孔等
を形成する手段の一つである、ケミカルエッチングは、
エッチング液の温度や液の疲労度、液の当たり方、さら
に被エッチング剤の微妙な物性値の違いにより、エッチ
ングスピードが変化する。このため、エッチング終了時
の判断が難しく、特に、絶縁基板上に多数の微細な貫通
孔を設けるイオンフロー記録用ヘッドの場合のように、
微細な孔を開けるときには、目視による確認も容易でな
いため、一時的にエッチングを中断して拡大鏡等により
確認していくといった作業をとっていた。
を形成する手段の一つである、ケミカルエッチングは、
エッチング液の温度や液の疲労度、液の当たり方、さら
に被エッチング剤の微妙な物性値の違いにより、エッチ
ングスピードが変化する。このため、エッチング終了時
の判断が難しく、特に、絶縁基板上に多数の微細な貫通
孔を設けるイオンフロー記録用ヘッドの場合のように、
微細な孔を開けるときには、目視による確認も容易でな
いため、一時的にエッチングを中断して拡大鏡等により
確認していくといった作業をとっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このため、エッチング
作業に時間を要し、また複雑化させるという問題点があ
った。
作業に時間を要し、また複雑化させるという問題点があ
った。
【0004】また孔が貫通していないためにエッチング
を再開しても、エッチングスピードはすぐには安定しな
いため、エッチング作業をたびたび中断すると、孔の品
質の劣化となるという問題点があった。
を再開しても、エッチングスピードはすぐには安定しな
いため、エッチング作業をたびたび中断すると、孔の品
質の劣化となるという問題点があった。
【0005】そこで本発明の目的は、エッチング作業を
中断しなくてもエッチングの終了時を判定することが可
能な、ガラスのエッチング方法を提供することにある。
中断しなくてもエッチングの終了時を判定することが可
能な、ガラスのエッチング方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成
するガラスのエッチング方法において、貫通孔とは別に
モニター用の孔又は溝を同時にエッチングにより形成し
、モニター用の孔又は溝の貫通を観察して貫通孔の貫通
を判定する。
に、本発明は、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成
するガラスのエッチング方法において、貫通孔とは別に
モニター用の孔又は溝を同時にエッチングにより形成し
、モニター用の孔又は溝の貫通を観察して貫通孔の貫通
を判定する。
【0007】貫通孔の貫通に要する時間とモニター用の
孔又は溝の貫通に要する時間との関係を予め計算又は実
験により求めておき、上記関係に基づき、モニター用の
孔又は溝の貫通を観察して貫通孔の貫通を判定すること
が好ましい。
孔又は溝の貫通に要する時間との関係を予め計算又は実
験により求めておき、上記関係に基づき、モニター用の
孔又は溝の貫通を観察して貫通孔の貫通を判定すること
が好ましい。
【0008】また上記目的を達成するために、本発明は
、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成するガラスの
エッチング方法において、エッチングが始まる面とは反
対側の面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、
エッチング液と又はエッチング液に混入された第1物質
と反応することによって色の変化をきたす第2物質を配
置しておき、第2物質の色の変化を観察して貫通孔の貫
通を判定する。
、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成するガラスの
エッチング方法において、エッチングが始まる面とは反
対側の面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、
エッチング液と又はエッチング液に混入された第1物質
と反応することによって色の変化をきたす第2物質を配
置しておき、第2物質の色の変化を観察して貫通孔の貫
通を判定する。
【0009】また上記目的を達成するために、本発明は
、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成するガラスの
エッチング方法において、エッチングが始まる面とは反
対側の面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、
エッチング液中に分散又は溶解することによってエッチ
ング液の色を変化せしめる第3物質を配置しておき、エ
ッチング液の色の変化を観察して貫通孔の貫通を判定す
る。
、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成するガラスの
エッチング方法において、エッチングが始まる面とは反
対側の面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、
エッチング液中に分散又は溶解することによってエッチ
ング液の色を変化せしめる第3物質を配置しておき、エ
ッチング液の色の変化を観察して貫通孔の貫通を判定す
る。
【0010】更に上記目的を達成するために、本発明は
、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成するガラスの
エッチング方法において、エッチングが始まる面とは反
対側の面に、貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置を
横切る状態で、導電性の帯を設けておき、導電性の帯に
電流が流れないことを検知して、貫通孔の貫通を判定す
る。
、ガラスにエッチングにより貫通孔を形成するガラスの
エッチング方法において、エッチングが始まる面とは反
対側の面に、貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置を
横切る状態で、導電性の帯を設けておき、導電性の帯に
電流が流れないことを検知して、貫通孔の貫通を判定す
る。
【0011】
【作用】貫通孔のエッチングと同時にモニター用の孔又
は溝をエッチングにより形成することにより、モニター
用の孔又は溝の貫通を観察して貫通孔の貫通を判定する
ことができる。
は溝をエッチングにより形成することにより、モニター
用の孔又は溝の貫通を観察して貫通孔の貫通を判定する
ことができる。
【0012】また、エッチングが始まる面とは反対側の
面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、第2物
質を配置しておくことにより、この物質の色の変化を観
察して、貫通孔の貫通を判定することができる。
面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、第2物
質を配置しておくことにより、この物質の色の変化を観
察して、貫通孔の貫通を判定することができる。
【0013】また、エッチングが始まる面とは反対側の
面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、第3物
質を配置しておくことにより、エッチング液の色の変化
を観察して、貫通孔の貫通を判定することができる。
面の貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置に、第3物
質を配置しておくことにより、エッチング液の色の変化
を観察して、貫通孔の貫通を判定することができる。
【0014】更に、エッチングが始まる面とは反対側の
面に、貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置を横切る
状態で、導電性の帯を設けておき、導電性の帯に電流が
流れないことを検知することにより、貫通孔の貫通を判
定することができる。
面に、貫通孔又はモニター用の孔又は溝の位置を横切る
状態で、導電性の帯を設けておき、導電性の帯に電流が
流れないことを検知することにより、貫通孔の貫通を判
定することができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【0016】第1〜第6実施例を通じて、絶縁基板上に
多数の貫通孔を設けるイオンフロー記録用ヘッドを製作
するものとし、絶縁基板として例えば厚さ0.4mmの
感光性ガラス板1(例,商品名「PEG3」:HOYA
(株)製)を用い、例えば孔径50〜100μmの所定
個数の貫通孔列を形成するものとする。
多数の貫通孔を設けるイオンフロー記録用ヘッドを製作
するものとし、絶縁基板として例えば厚さ0.4mmの
感光性ガラス板1(例,商品名「PEG3」:HOYA
(株)製)を用い、例えば孔径50〜100μmの所定
個数の貫通孔列を形成するものとする。
【0017】まず第1実施例を図1に基づいて説明する
。
。
【0018】モニター用の孔を基板の端部の観察しやす
い所定位置に形成するものとし、その孔径を例えば50
0μm〜2mmとする。
い所定位置に形成するものとし、その孔径を例えば50
0μm〜2mmとする。
【0019】そして予め、実際に製造の際に行うフォト
マスクを用いた露光及び熱現像,及びエッチングの条件
で露光及び熱現像,及びエッチングを行って貫通孔列の
貫通及びモニター用の貫通に要する時間を測定し、その
時間差を測定しておく。
マスクを用いた露光及び熱現像,及びエッチングの条件
で露光及び熱現像,及びエッチングを行って貫通孔列の
貫通及びモニター用の貫通に要する時間を測定し、その
時間差を測定しておく。
【0020】すなわち貫通孔列の平面孔列形状及びモニ
ター用の孔形状が形成されたフォトマスクを感光性ガラ
ス板1の上に載せて、露光し、熱現像し、結晶化した孔
列形状部分1a及びモニター用の孔形状部分1bを形成
する。
ター用の孔形状が形成されたフォトマスクを感光性ガラ
ス板1の上に載せて、露光し、熱現像し、結晶化した孔
列形状部分1a及びモニター用の孔形状部分1bを形成
する。
【0021】そして基板のいずれかの面より、エッチン
グの条件,即ち例えばフッ酸濃度6%,液温20℃のエ
ッチング液を、シャワー圧3.0kg/cm2 で吹き
つけるという条件のもとで、エッチングを行い、貫通孔
列及びモニター用の孔の貫通に要する時間を顕微鏡等で
観察しながら、測定し、それらの時間差を測定しておく
。 なおこの時間差は、貫通孔列のエッチングに要する時間
及びモニター用の孔のエッチングに要する時間に比して
非常に短い。
グの条件,即ち例えばフッ酸濃度6%,液温20℃のエ
ッチング液を、シャワー圧3.0kg/cm2 で吹き
つけるという条件のもとで、エッチングを行い、貫通孔
列及びモニター用の孔の貫通に要する時間を顕微鏡等で
観察しながら、測定し、それらの時間差を測定しておく
。 なおこの時間差は、貫通孔列のエッチングに要する時間
及びモニター用の孔のエッチングに要する時間に比して
非常に短い。
【0022】そして実際のイオンフロー記録用ヘッドの
製造に移り、上記条件で感光性ガラス板の結晶化,及び
エッチングを行う。そしてモニター用の孔の結晶化され
た部分1bを目視等で観察しておく。
製造に移り、上記条件で感光性ガラス板の結晶化,及び
エッチングを行う。そしてモニター用の孔の結晶化され
た部分1bを目視等で観察しておく。
【0023】すると、モニター用の孔の開くのを観察す
ることができる。そして、貫通孔列及びモニター用の孔
の貫通に要する時間差を予め測定しているので、モニタ
ー用の孔の開くのを観察した後、その時間差が経たとき
に、貫通孔列の孔が開いたと判断して、エッチングを終
わる。この時間差は小さいため、個々の基板におけるエ
ッチング時間にばらつきがあっても、ほぼ等しい値とな
り、この時間差が経たときにエッチングが終わったと判
断してよい。
ることができる。そして、貫通孔列及びモニター用の孔
の貫通に要する時間差を予め測定しているので、モニタ
ー用の孔の開くのを観察した後、その時間差が経たとき
に、貫通孔列の孔が開いたと判断して、エッチングを終
わる。この時間差は小さいため、個々の基板におけるエ
ッチング時間にばらつきがあっても、ほぼ等しい値とな
り、この時間差が経たときにエッチングが終わったと判
断してよい。
【0024】本実施例において、孔径が大きいほどエッ
チング速度が速くなり、また感光性ガラスの露光量をす
くなくするとエッチング速度が遅くなるので、モニター
用の孔の部分の露光量を少なくしておき、貫通孔列の貫
通とモニター用の孔の貫通とをほぼ同時に行えるように
実験等により調整しておき、この条件の下でエッチング
等を行い、モニター用の孔が開いたときに貫通孔列の孔
が開いたと判断するようにしてもよい。
チング速度が速くなり、また感光性ガラスの露光量をす
くなくするとエッチング速度が遅くなるので、モニター
用の孔の部分の露光量を少なくしておき、貫通孔列の貫
通とモニター用の孔の貫通とをほぼ同時に行えるように
実験等により調整しておき、この条件の下でエッチング
等を行い、モニター用の孔が開いたときに貫通孔列の孔
が開いたと判断するようにしてもよい。
【0025】また本実施例において、貫通孔列1aとモ
ニター用の孔1bとの貫通時間の差を実験により求める
としたが、計算により求めてもよい。
ニター用の孔1bとの貫通時間の差を実験により求める
としたが、計算により求めてもよい。
【0026】次に第2実施例を図2に基いて説明する。
【0027】本実施例は貫通孔列と露光条件及びエッチ
ング条件を同一にして、貫通孔列の孔径と同一径のモニ
ター用の孔及びその径より大きな径のモニター用の孔を
同時に開けるものである。
ング条件を同一にして、貫通孔列の孔径と同一径のモニ
ター用の孔及びその径より大きな径のモニター用の孔を
同時に開けるものである。
【0028】これらの径を有するフォトマスクを用いて
露光,熱現像し、基板21上に結晶化された貫通孔部分
21a及び同一径のモニター用の孔部分21b及びそれ
より大きな径のモニター用の孔部分21cを形成する。
露光,熱現像し、基板21上に結晶化された貫通孔部分
21a及び同一径のモニター用の孔部分21b及びそれ
より大きな径のモニター用の孔部分21cを形成する。
【0029】そしてエッチングを行うと、まず大きな径
のモニター用の孔部分21cに穴が開き、それが観察さ
れる。そこで、貫通孔列と同一径のモニター用の孔部分
21bを注意深く観察してその貫通を確認し、エッチン
グを終了する。
のモニター用の孔部分21cに穴が開き、それが観察さ
れる。そこで、貫通孔列と同一径のモニター用の孔部分
21bを注意深く観察してその貫通を確認し、エッチン
グを終了する。
【0030】大きな径のモニター用の孔部分21cに穴
が開いたことをまず確認しておくため貫通の進行状況が
わかり、貫通孔列の貫通の判断の誤りが少なくなる。
が開いたことをまず確認しておくため貫通の進行状況が
わかり、貫通孔列の貫通の判断の誤りが少なくなる。
【0031】本実施例において、貫通孔列と同一径のモ
ニター用の孔部分21bのみを結晶化し、この孔部分2
1bのみによってモニターを行ってもよい。
ニター用の孔部分21bのみを結晶化し、この孔部分2
1bのみによってモニターを行ってもよい。
【0032】また本実施例において、上記2つのモニタ
ー用の孔の他、貫通孔列より小さなモニター用の孔をも
同時に形成し、この孔をも観察してエッチングの進度を
知るようにしてもよい。
ー用の孔の他、貫通孔列より小さなモニター用の孔をも
同時に形成し、この孔をも観察してエッチングの進度を
知るようにしてもよい。
【0033】次に本発明の第3実施例を図3に基づいて
説明する。
説明する。
【0034】本実施例はくさび形のモニター用の孔を形
成するものである。
成するものである。
【0035】このモニター用の孔部分及び貫通孔列の部
分を露光して、それぞれ結晶化した部分31b,31a
を形成し、エッチングを行うと、モニター用の孔部分3
1bはより上下幅の大きい部分,すなわち右側位置31
cより貫通が始まり、徐々に左側部分へ進む。そこで、
くさび形状のどの部分まで貫通が進んだときに、貫通孔
列の貫通が行われるかを予め測定しておき、上記位置ま
で貫通が進んだときに貫通孔列の貫通が行われたと判断
するようにする。
分を露光して、それぞれ結晶化した部分31b,31a
を形成し、エッチングを行うと、モニター用の孔部分3
1bはより上下幅の大きい部分,すなわち右側位置31
cより貫通が始まり、徐々に左側部分へ進む。そこで、
くさび形状のどの部分まで貫通が進んだときに、貫通孔
列の貫通が行われるかを予め測定しておき、上記位置ま
で貫通が進んだときに貫通孔列の貫通が行われたと判断
するようにする。
【0036】上記第1〜3実施例ではモニター用の孔を
設けるとしたが、モニター用の溝を設けてもよい。例え
ば、基板の端面より長手方向のスリット状の溝を形成す
るようにして、この溝をモニターしてエッチング進度を
知るようにしてもよい。
設けるとしたが、モニター用の溝を設けてもよい。例え
ば、基板の端面より長手方向のスリット状の溝を形成す
るようにして、この溝をモニターしてエッチング進度を
知るようにしてもよい。
【0037】また、上記第1〜3実施例で述べた種々の
形状のモニター用の孔やモニター用の溝等を種々組み合
わせて配置し、これらによりエッチングをモニターして
もよい。
形状のモニター用の孔やモニター用の溝等を種々組み合
わせて配置し、これらによりエッチングをモニターして
もよい。
【0038】貫通孔列は一般に多数の孔を狭い間隔で配
置しまたその孔を中心として電極パターンを形成させる
ことから、基板の中央付近に配置する場合が多く、貫通
孔が貫通したかどうか見にくいことがおおいが、上記第
1〜3実施例のように、モニター用の孔または溝を形成
することにより、エッチングの進度を容易に判断するこ
とが可能となる。また、電極を形成後に貫通孔列をエッ
チングする場合に、電極の溶解を防止するために、エッ
チング用の保護テープを電極の上に貼る場合には、エッ
チングの完了時を判定するためにわざわざ保護テープを
剥がさなければならず、このような場合に保護テープの
ない位置にモニター用の孔または溝があることにより、
貫通をより容易に判断することが可能となる。
置しまたその孔を中心として電極パターンを形成させる
ことから、基板の中央付近に配置する場合が多く、貫通
孔が貫通したかどうか見にくいことがおおいが、上記第
1〜3実施例のように、モニター用の孔または溝を形成
することにより、エッチングの進度を容易に判断するこ
とが可能となる。また、電極を形成後に貫通孔列をエッ
チングする場合に、電極の溶解を防止するために、エッ
チング用の保護テープを電極の上に貼る場合には、エッ
チングの完了時を判定するためにわざわざ保護テープを
剥がさなければならず、このような場合に保護テープの
ない位置にモニター用の孔または溝があることにより、
貫通をより容易に判断することが可能となる。
【0039】次に本発明の第4実施例を図4に基づいて
説明する。
説明する。
【0040】基板41上にモニター用の孔を開けるもの
とし、その部分を貫通孔列の部分と同時に露光,熱現像
して、結晶化された貫通孔列の部分41a及びモニター
用の孔の部分41bを形成する。
とし、その部分を貫通孔列の部分と同時に露光,熱現像
して、結晶化された貫通孔列の部分41a及びモニター
用の孔の部分41bを形成する。
【0041】そして、モニター用の孔の部分41bのエ
ッチングを行う面とは反対側の面にエッチング液と又は
エッチング液に混入された第1物質と反応することによ
って色の変化をきたす第2物質42を配置しておく。
ッチングを行う面とは反対側の面にエッチング液と又は
エッチング液に混入された第1物質と反応することによ
って色の変化をきたす第2物質42を配置しておく。
【0042】第2物質としては、例えば、ゼラチン,カ
ゼイン,グリュー等の天然材料やアクリル系のCFP9
006(チッソ(株)製)等の合成材料等からなる可染
樹脂(染色樹脂)を用いることができる。この場合には
可染樹脂は全面にコート,乾燥後、モニター用の孔が形
成される部分41bに必要な面積だけ残すようにしても
よく、また切断したペレット状のものをこの部分41b
上に置くようにしてもよい。またこの場合には、エッチ
ング液には可染樹脂を染色できる酸性染料又は分散染料
(第1物質)が溶解してある。酸性染料としてはRed
7P,Blue7P,Green1P(日本化薬(株)
製)等を、分散染料としてはDianix Blue
AC−E,Dianix Yellow AC
−E,Dianix Red AC−E(三菱化成
(株)製)等を用いることができる。
ゼイン,グリュー等の天然材料やアクリル系のCFP9
006(チッソ(株)製)等の合成材料等からなる可染
樹脂(染色樹脂)を用いることができる。この場合には
可染樹脂は全面にコート,乾燥後、モニター用の孔が形
成される部分41bに必要な面積だけ残すようにしても
よく、また切断したペレット状のものをこの部分41b
上に置くようにしてもよい。またこの場合には、エッチ
ング液には可染樹脂を染色できる酸性染料又は分散染料
(第1物質)が溶解してある。酸性染料としてはRed
7P,Blue7P,Green1P(日本化薬(株)
製)等を、分散染料としてはDianix Blue
AC−E,Dianix Yellow AC
−E,Dianix Red AC−E(三菱化成
(株)製)等を用いることができる。
【0043】エッチング液と反応することによって色の
変化をきたす第2物質としては、例えば、リトマス指示
薬等、化学反応(顕色反応)により色変化を示す呈色物
質を用いることができる。呈色物質としてチモールブル
ー,メチルレッド,ブロモクレゾールパープル,ブロモ
フェノールブルー,ブロモチモールブルー,フェノール
レッド,クレゾールレッド,クレゾールフタレイン等が
考えられる。呈色変化物質を所定大きさに形成してモニ
ター部分41b上に置く。
変化をきたす第2物質としては、例えば、リトマス指示
薬等、化学反応(顕色反応)により色変化を示す呈色物
質を用いることができる。呈色物質としてチモールブル
ー,メチルレッド,ブロモクレゾールパープル,ブロモ
フェノールブルー,ブロモチモールブルー,フェノール
レッド,クレゾールレッド,クレゾールフタレイン等が
考えられる。呈色変化物質を所定大きさに形成してモニ
ター部分41b上に置く。
【0044】次にこの物質42の上にはその周囲にわた
って、エッチング中に、エッチング面とは反対側の面よ
りこの物質にエッチング液がかからないように、保護テ
ープ43が貼ってある。保護テープとしては、例えば商
品名:No851(住友3M製)を用いることができる
。なお保護テープが透明であれば、保護テープ側から、
モニターすることができる。
って、エッチング中に、エッチング面とは反対側の面よ
りこの物質にエッチング液がかからないように、保護テ
ープ43が貼ってある。保護テープとしては、例えば商
品名:No851(住友3M製)を用いることができる
。なお保護テープが透明であれば、保護テープ側から、
モニターすることができる。
【0045】この状態でエッチングを行うと、モニター
部分41bに孔が開いて、エッチング液が可染樹脂又は
呈色物質等と接触して、エッチング液中の酸性染料また
は分散染料により、可染樹脂が染色(呈色反応)して、
又はエッチング液により呈色物質が化学反応(顕色反応
)を起こす等により、その着色を目視することができ、
このモニターにより貫通孔の貫通を判定することができ
る。なお、染色は物質42全体に広がるため、モニター
可能な部分が大きくなり、モニターがしやすくなる。
部分41bに孔が開いて、エッチング液が可染樹脂又は
呈色物質等と接触して、エッチング液中の酸性染料また
は分散染料により、可染樹脂が染色(呈色反応)して、
又はエッチング液により呈色物質が化学反応(顕色反応
)を起こす等により、その着色を目視することができ、
このモニターにより貫通孔の貫通を判定することができ
る。なお、染色は物質42全体に広がるため、モニター
可能な部分が大きくなり、モニターがしやすくなる。
【0046】第2物質としては、それらの反応により脱
色するような物質であってもよい。
色するような物質であってもよい。
【0047】また染色された可染樹脂であってもよく、
この場合はエッチング液と接触すると、染料又は顔料が
エッチング液により分解して、可染樹脂が脱色する。
この場合はエッチング液と接触すると、染料又は顔料が
エッチング液により分解して、可染樹脂が脱色する。
【0048】次に本発明の第5実施例を図5に基づいて
説明する。
説明する。
【0049】基板51上にモニター用の孔を開けるもの
とし、その部分を貫通孔列の部分と同時に露光,熱現像
して、結晶化された貫通孔列の部分51a及びモニター
用の孔の部分51bを形成する。
とし、その部分を貫通孔列の部分と同時に露光,熱現像
して、結晶化された貫通孔列の部分51a及びモニター
用の孔の部分51bを形成する。
【0050】そして、モニター用の孔の部分51bのエ
ッチングを行う面とは反対側の面に、エッチング液中に
分散又は溶解することによってエッチング液の色を変化
せしめる第3物質52を配置しておく。
ッチングを行う面とは反対側の面に、エッチング液中に
分散又は溶解することによってエッチング液の色を変化
せしめる第3物質52を配置しておく。
【0051】第3物質としては、例えば、第4実施例と
同じ分散染料を用いることができる。この物質52を所
定大きさに形成してモニター部分51b上に置く。又は
可染樹脂をこの物質52で着色し、この着色された可染
樹脂をモニター部分51b上に置いてもよい。
同じ分散染料を用いることができる。この物質52を所
定大きさに形成してモニター部分51b上に置く。又は
可染樹脂をこの物質52で着色し、この着色された可染
樹脂をモニター部分51b上に置いてもよい。
【0052】次にこの物質52の上にはその周囲にわた
って、第4実施例と同様に保護テープ53が貼ってある
。保護テープとしては、例えば商品名:No.851(
住友3M製)を用いることができる。
って、第4実施例と同様に保護テープ53が貼ってある
。保護テープとしては、例えば商品名:No.851(
住友3M製)を用いることができる。
【0053】この状態でエッチングを行うと、モニター
部分51bに孔が開いて、染料が溶解し、又は顔料が分
散し(呈色反応)、これによりエッチング液が着色し、
これを目視することにより、貫通孔の貫通を判定するこ
とができる。
部分51bに孔が開いて、染料が溶解し、又は顔料が分
散し(呈色反応)、これによりエッチング液が着色し、
これを目視することにより、貫通孔の貫通を判定するこ
とができる。
【0054】上記第4,5実施例では、モニター用の孔
の位置に物質42,52を置くとしたが、貫通孔列が形
成される部分に直接、物質42,52を置くようにして
もよい。
の位置に物質42,52を置くとしたが、貫通孔列が形
成される部分に直接、物質42,52を置くようにして
もよい。
【0055】また上記第4,5実施例では、物質42,
52を置いた後、保護テープをその上から貼るとしたが
、保護テープの一方の面に物質42,52が付着したエ
ッチングモニター用のテープをあらかじめ用意しておき
、このエッチングモニター用のテープを必要に応じてエ
ッチングと反対側の面に貼るようにしてもよい。
52を置いた後、保護テープをその上から貼るとしたが
、保護テープの一方の面に物質42,52が付着したエ
ッチングモニター用のテープをあらかじめ用意しておき
、このエッチングモニター用のテープを必要に応じてエ
ッチングと反対側の面に貼るようにしてもよい。
【0056】次に本発明の第6実施例を図6,図7に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【0057】基板61上に貫通孔と同一径のモニター用
の孔を開けるものとし、その部分を貫通孔列の部分と同
時に露光,熱現像して、結晶化された貫通孔列の部分6
1a及びモニター用の孔の部分61bを形成する。
の孔を開けるものとし、その部分を貫通孔列の部分と同
時に露光,熱現像して、結晶化された貫通孔列の部分6
1a及びモニター用の孔の部分61bを形成する。
【0058】次に基板の一方の面にフォトリソグラフィ
の技術により個別電極65を形成する。個別電極65は
通常クロム(Cr)等で形成される。そして個別電極6
5を形成するときに個別電極65と同じ材質で同時に、
モニター用の孔が形成される部分61bを横切る状態で
、導電性の帯66を形成しておく。そして導電性の帯6
6に耐エッチング液性の取り出し配線67を介して、電
源68及び電流計69を接続し、電流を流しておく。 そしてエッチング中に電極65及び導電性の帯66がエ
ッチングされないように、それらの上から例えば、No
.851(住友3M製)等の保護テープ70を貼ってお
く。
の技術により個別電極65を形成する。個別電極65は
通常クロム(Cr)等で形成される。そして個別電極6
5を形成するときに個別電極65と同じ材質で同時に、
モニター用の孔が形成される部分61bを横切る状態で
、導電性の帯66を形成しておく。そして導電性の帯6
6に耐エッチング液性の取り出し配線67を介して、電
源68及び電流計69を接続し、電流を流しておく。 そしてエッチング中に電極65及び導電性の帯66がエ
ッチングされないように、それらの上から例えば、No
.851(住友3M製)等の保護テープ70を貼ってお
く。
【0059】この状態で、例えばフッ酸濃度6%,液温
20℃のエッチング液を、シャワー圧3.0kg/cm
2 で電極が形成してある面と反対側の面より吹きつけ
ながら、エッチングを行う。すると、モニター用の孔の
部分61bが貫通し、エッチング液が導電性の帯と接触
し、導電性の帯66を溶かし、断線させる。すると、電
流が流れなくなり、電流計69でこのことが読み取られ
、貫通孔列61aの貫通を判定することができる。
20℃のエッチング液を、シャワー圧3.0kg/cm
2 で電極が形成してある面と反対側の面より吹きつけ
ながら、エッチングを行う。すると、モニター用の孔の
部分61bが貫通し、エッチング液が導電性の帯と接触
し、導電性の帯66を溶かし、断線させる。すると、電
流が流れなくなり、電流計69でこのことが読み取られ
、貫通孔列61aの貫通を判定することができる。
【0060】本実施例は電流計の読みで貫通孔の貫通を
判定するため、エッチング中の基板を観察しておく必要
がなく、エッチング作業がより容易となる。
判定するため、エッチング中の基板を観察しておく必要
がなく、エッチング作業がより容易となる。
【0061】また貫通孔と同一径のモニター用の孔部に
導電性の帯を設けたため、貫通孔の貫通時とモニター用
の孔部の貫通とが全く同時に起き、したがって導電性の
帯が切れたときには確実に貫通孔の貫通が行われており
、貫通孔の貫通の誤差等を考慮する必要がない。
導電性の帯を設けたため、貫通孔の貫通時とモニター用
の孔部の貫通とが全く同時に起き、したがって導電性の
帯が切れたときには確実に貫通孔の貫通が行われており
、貫通孔の貫通の誤差等を考慮する必要がない。
【0062】また、モニタ−用の孔と貫通孔とを異なる
径とし、第1実施例と同様に両者の貫通に要する時間の
差を求めておいて、孔の貫通を判断してもよい。
径とし、第1実施例と同様に両者の貫通に要する時間の
差を求めておいて、孔の貫通を判断してもよい。
【0063】また本実施例では貫通孔の個別電極の形成
と同時に導電性の帯66を形成することとしたため、導
電性の帯の形成のための別途の工程を必要とせず、モニ
ター部を形成するためのコストを低減することができる
。
と同時に導電性の帯66を形成することとしたため、導
電性の帯の形成のための別途の工程を必要とせず、モニ
ター部を形成するためのコストを低減することができる
。
【0064】本実施例ではモニター用の孔を設けるとし
たが、モニター用の溝を形成するものとし、この溝を横
切る状態で導電性の帯を設けるようにしてもよい。
たが、モニター用の溝を形成するものとし、この溝を横
切る状態で導電性の帯を設けるようにしてもよい。
【0065】また本実施例では個別電極を形成するもの
としたが、単に貫通孔のみを形成する場合においても、
導電性の帯を別途工程で設けて、本発明を実施すること
ができる。なお、この場合には、貫通孔の1つに導電性
の帯を設け、モニター用の孔の形成を省略してもよい。
としたが、単に貫通孔のみを形成する場合においても、
導電性の帯を別途工程で設けて、本発明を実施すること
ができる。なお、この場合には、貫通孔の1つに導電性
の帯を設け、モニター用の孔の形成を省略してもよい。
【0066】さらに本実施例で、導電性の帯に電流が流
れないと、エッチングを自動的に停止する回路を設けて
おき、これにより導電性の帯が切れたときに自動的にエ
ッチングを停止するようにしてもよい。
れないと、エッチングを自動的に停止する回路を設けて
おき、これにより導電性の帯が切れたときに自動的にエ
ッチングを停止するようにしてもよい。
【0067】
【発明の効果】本発明は、このように構成してあり、エ
ッチング作業を中断しなくても、エッチングの終了時を
容易にモニターすることが可能である。
ッチング作業を中断しなくても、エッチングの終了時を
容易にモニターすることが可能である。
【図1】本発明の製造方法の第1実施例に適用される基
板の部分平面図である。
板の部分平面図である。
【図2】本発明の製造方法の第2実施例に適用される基
板の部分平面図である。
板の部分平面図である。
【図3】本発明の製造方法の第3実施例に適用される基
板の部分平面図である。
板の部分平面図である。
【図4】本発明の製造方法の第4実施例に適用される基
板の部分断面図である。
板の部分断面図である。
【図5】本発明の製造方法の第5実施例に適用される基
板の部分断面図である。
板の部分断面図である。
【図6】本発明の製造方法の第6実施例に適用される基
板の部分斜視図である。
板の部分斜視図である。
1,21,31,41,51,61 ガラス1a,2
1a,31a,41a,51a,61a 貫通孔 1b,21b,21c,31b,41b,51b,61
b モニター用の孔 42 第2物質 52 第3物質 66 導電性の帯
1a,31a,41a,51a,61a 貫通孔 1b,21b,21c,31b,41b,51b,61
b モニター用の孔 42 第2物質 52 第3物質 66 導電性の帯
Claims (5)
- 【請求項1】 ガラスにエッチングにより貫通孔を形
成するガラスのエッチング方法において、上記貫通孔と
は別にモニター用の孔又は溝を同時にエッチングにより
形成し、上記モニター用の孔又は溝の貫通を観察して上
記貫通孔の貫通を判定することを特徴とするガラスのエ
ッチング方法。 - 【請求項2】 請求項1において、上記貫通孔の貫通
に要する時間と上記モニター用の孔又は溝の貫通に要す
る時間との関係を予め計算又は実験により求めておき、
上記関係に基づき、上記モニター用の孔又は溝の貫通を
観察して上記貫通孔の貫通を判定することを特徴とする
ガラスのエッチング方法。 - 【請求項3】 ガラスにエッチングにより貫通孔を形
成するガラスのエッチング方法において、上記エッチン
グが始まる面とは反対側の面の上記貫通孔又はモニター
用の孔又は溝の位置に、エッチング液と又はエッチング
液に混入された第1物質と反応することによって色の変
化をきたす第2物質を配置しておき、上記第2物質の色
の変化を観察して上記貫通孔の貫通を判定することを特
徴とするガラスのエッチング方法。 - 【請求項4】 ガラスにエッチングにより貫通孔を形
成するガラスのエッチング方法において、上記エッチン
グが始まる面とは反対側の面の上記貫通孔又はモニター
用の孔又は溝の位置に、エッチング液中に分散又は溶解
することによってエッチング液の色を変化せしめる第3
物質を配置しておき、上記エッチング液の色の変化を観
察して上記貫通孔の貫通を判定することを特徴とするガ
ラスのエッチング方法。 - 【請求項5】 ガラスにエッチングにより貫通孔を形
成するガラスのエッチング方法において、上記エッチン
グが始まる面とは反対側の面に、上記貫通孔又はモニタ
ー用の孔又は溝の位置を横切る状態で、導電性の帯を設
けておき、上記導電性の帯に電流が流れないことを検知
して、上記貫通孔の貫通を判定することを特徴とするガ
ラスのエッチング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40954990A JPH04238826A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | ガラスのエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40954990A JPH04238826A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | ガラスのエッチング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04238826A true JPH04238826A (ja) | 1992-08-26 |
Family
ID=18518877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40954990A Pending JPH04238826A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | ガラスのエッチング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04238826A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015038962A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-26 | ソニー株式会社 | 配線基板および配線基板の製造方法、並びに、部品内蔵ガラス基板および部品内蔵ガラス基板の製造方法。 |
JP2018083399A (ja) * | 2016-11-25 | 2018-05-31 | キヤノン株式会社 | 貫通基板の製造方法 |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP40954990A patent/JPH04238826A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015038962A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-26 | ソニー株式会社 | 配線基板および配線基板の製造方法、並びに、部品内蔵ガラス基板および部品内蔵ガラス基板の製造方法。 |
JP2018083399A (ja) * | 2016-11-25 | 2018-05-31 | キヤノン株式会社 | 貫通基板の製造方法 |
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