JPH04237699A - 液体取扱いシステム - Google Patents
液体取扱いシステムInfo
- Publication number
- JPH04237699A JPH04237699A JP3003798A JP379891A JPH04237699A JP H04237699 A JPH04237699 A JP H04237699A JP 3003798 A JP3003798 A JP 3003798A JP 379891 A JP379891 A JP 379891A JP H04237699 A JPH04237699 A JP H04237699A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling water
- loop
- liquid
- gas
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 abstract description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、宇宙機内において冷却
水ループを修理する際などに適用される液体取扱いシス
テムに関する。
水ループを修理する際などに適用される液体取扱いシス
テムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、宇宙ステーションなど宇宙機内に
おいて熱制御を行う冷却水ループを修理する際は、冷却
水ループ内の冷却水を液体取扱いシステムにより吸引し
て修理を行い、修理後に再び冷却水を液体取扱いシステ
ムにより冷却水ループ内に充填している。
おいて熱制御を行う冷却水ループを修理する際は、冷却
水ループ内の冷却水を液体取扱いシステムにより吸引し
て修理を行い、修理後に再び冷却水を液体取扱いシステ
ムにより冷却水ループ内に充填している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
液体取扱いシステムは液体ループ内の液体を吸引してそ
のままの状態で修理を行い、再び液体を液体ループ内に
充填する機構しか有していないため、液体ループの部品
を交換する際は内部が真空の部品を外しておく必要があ
る。また、宇宙機内における雰囲気空気の圧力は一定に
制御されており、液体を吸引して真空の液体ループ内に
雰囲気空気が入ると液体ループの長さによっては宇宙機
内における雰囲気空気の圧力低下、断熱膨張による局所
的な温度低下などが発生する可能性がある。
液体取扱いシステムは液体ループ内の液体を吸引してそ
のままの状態で修理を行い、再び液体を液体ループ内に
充填する機構しか有していないため、液体ループの部品
を交換する際は内部が真空の部品を外しておく必要があ
る。また、宇宙機内における雰囲気空気の圧力は一定に
制御されており、液体を吸引して真空の液体ループ内に
雰囲気空気が入ると液体ループの長さによっては宇宙機
内における雰囲気空気の圧力低下、断熱膨張による局所
的な温度低下などが発生する可能性がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液体取扱い
システムは上記課題の解決を目的にしており、液体ルー
プ外側の雰囲気と同等の気体を貯蔵するタンクと、上記
液体ループ内の液体を排出して上記タンク内の気体と置
換する手段とを備えた構成を特徴としている。
システムは上記課題の解決を目的にしており、液体ルー
プ外側の雰囲気と同等の気体を貯蔵するタンクと、上記
液体ループ内の液体を排出して上記タンク内の気体と置
換する手段とを備えた構成を特徴としている。
【０００５】
【作用】即ち、本発明に係る液体取扱いシステムにおい
ては、液体ループ内の液体が排出されタンク内に貯蔵さ
れる液体ループ外側の雰囲気と同等の気体と置換される
ようになっており、ループ内の液体がループ外側の雰囲
気と同等の気体で置換されて液体ループ内外の圧力差お
よび成分差が無くなる。
ては、液体ループ内の液体が排出されタンク内に貯蔵さ
れる液体ループ外側の雰囲気と同等の気体と置換される
ようになっており、ループ内の液体がループ外側の雰囲
気と同等の気体で置換されて液体ループ内外の圧力差お
よび成分差が無くなる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の一実施例に係る液体取扱いシ
ステムの構造説明図、図２および図３は作用説明図であ
る。図において、本実施例に係る液体取扱いシステムは
宇宙ステーションなど宇宙機内において熱制御を行う冷
却水ループを修理する際などに使用されるもので、ルー
プ内の冷却水を吸引するとともに再び冷却水を充填する
機構の他に、宇宙機内における雰囲気空気と同圧力で同
成分のガスを供給したり排出したりする貯蔵タンク３が
備えられている。即ち、本システムは図１に示すように
リザーバ１、リザーバ１内の隔壁を操作する窒素ガスＧ
Ｎ２ の加圧ライン４、その排気ライン５、冷却水の供
給ライン６、冷却水の排水ライン７などにより冷却水を
吸引したり充填したりする機構に、宇宙機内における雰
囲気空気と同成分のガスを供給したり排出したりする貯
蔵タンク３などが加えられて構成されている。
ステムの構造説明図、図２および図３は作用説明図であ
る。図において、本実施例に係る液体取扱いシステムは
宇宙ステーションなど宇宙機内において熱制御を行う冷
却水ループを修理する際などに使用されるもので、ルー
プ内の冷却水を吸引するとともに再び冷却水を充填する
機構の他に、宇宙機内における雰囲気空気と同圧力で同
成分のガスを供給したり排出したりする貯蔵タンク３が
備えられている。即ち、本システムは図１に示すように
リザーバ１、リザーバ１内の隔壁を操作する窒素ガスＧ
Ｎ２ の加圧ライン４、その排気ライン５、冷却水の供
給ライン６、冷却水の排水ライン７などにより冷却水を
吸引したり充填したりする機構に、宇宙機内における雰
囲気空気と同成分のガスを供給したり排出したりする貯
蔵タンク３などが加えられて構成されている。
【０００７】冷却水ループ２を修理する際などには、加
圧ライン４、排気ライン５によりリザーバ１内の隔壁を
操作して冷却水ループ２内の冷却水を排出ライン７へ排
出した後、図１に示すように排気ライン５を用いて冷却
水ル−プ２内を真空にする。そして，図２（ａ）に示す
ように排気ライン５により隔壁を操作してリザーバ１内
へ貯蔵タンク３内のガスを注入し、同図（ｂ）に示すよ
うに加圧ライン４により隔壁を操作して貯蔵タンク３内
のガスを冷却水ループ２内へ再注入する。そして、この
ような操作を繰り返して宇宙機内における雰囲気空気と
冷却水ループ２内のガスとの圧力が等しくなった後、部
品交換など冷却水ループ２の修理を行う。また、修理後
は図３（ａ）に示すように冷却水ループ２内のガスをリ
ザーバ１を介して貯蔵タンク３内へ戻し、同図（ｂ）に
示すように排気ライン５を用いて冷却水ループ２内を真
空にした後に供給ライン６から冷却水を充填する。
圧ライン４、排気ライン５によりリザーバ１内の隔壁を
操作して冷却水ループ２内の冷却水を排出ライン７へ排
出した後、図１に示すように排気ライン５を用いて冷却
水ル−プ２内を真空にする。そして，図２（ａ）に示す
ように排気ライン５により隔壁を操作してリザーバ１内
へ貯蔵タンク３内のガスを注入し、同図（ｂ）に示すよ
うに加圧ライン４により隔壁を操作して貯蔵タンク３内
のガスを冷却水ループ２内へ再注入する。そして、この
ような操作を繰り返して宇宙機内における雰囲気空気と
冷却水ループ２内のガスとの圧力が等しくなった後、部
品交換など冷却水ループ２の修理を行う。また、修理後
は図３（ａ）に示すように冷却水ループ２内のガスをリ
ザーバ１を介して貯蔵タンク３内へ戻し、同図（ｂ）に
示すように排気ライン５を用いて冷却水ループ２内を真
空にした後に供給ライン６から冷却水を充填する。
【０００８】このように、本システムはリザーバ１を用
いて冷却水ループ２内を真空にした後、冷却水ループ２
内へガス貯蔵タンク３内から宇宙機内における雰囲気空
気と同等のガスを充填し、配管２内外の圧力差や成分差
を無くしてから冷却水ループ２の修理を行うことができ
、修理作業が容易になる。また、修理後は再びリザーバ
１を用いて冷却水ループ２内のガスを貯蔵タンク３内へ
戻すことができ、ガスが有効に利用される。また、宇宙
機内における雰囲気空気の圧力の低下、局所的な温度低
下などが防止される。
いて冷却水ループ２内を真空にした後、冷却水ループ２
内へガス貯蔵タンク３内から宇宙機内における雰囲気空
気と同等のガスを充填し、配管２内外の圧力差や成分差
を無くしてから冷却水ループ２の修理を行うことができ
、修理作業が容易になる。また、修理後は再びリザーバ
１を用いて冷却水ループ２内のガスを貯蔵タンク３内へ
戻すことができ、ガスが有効に利用される。また、宇宙
機内における雰囲気空気の圧力の低下、局所的な温度低
下などが防止される。
【０００９】
【発明の効果】本発明に係る液体取扱いシステムは前記
のように構成されており、液体ループ内外の圧力差およ
び成分差が無くなるので、液体ループの修理を容易に行
うことができるとともに、例えば宇宙機内において冷却
水ループを修理する際などに宇宙機内における雰囲気空
気の圧力の低下、局所的な温度低下などを起こすことが
なくなる。
のように構成されており、液体ループ内外の圧力差およ
び成分差が無くなるので、液体ループの修理を容易に行
うことができるとともに、例えば宇宙機内において冷却
水ループを修理する際などに宇宙機内における雰囲気空
気の圧力の低下、局所的な温度低下などを起こすことが
なくなる。
【図１】図１は本発明の一実施例に係る液体取扱いシス
テムのフロー系統図である。
テムのフロー系統図である。
【図２】図２はその作用説明図である。
【図３】図３もその作用説明図である。
１ リザーバ
２ 冷却水ループ
３ 貯蔵タンク
４ 加圧ライン
５ 排気ライン
６ 冷却水の供給ライン７
冷却水の排出ライン８〜１４ 弁
冷却水の排出ライン８〜１４ 弁
Claims (1)
- 【請求項１】 液体ループ外側の雰囲気と同等の気体
を貯蔵するタンクと、上記液体ループ内の液体を排出し
て上記タンク内の気体と置換する手段とを備えたことを
特徴とする液体取扱いシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3003798A JPH04237699A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 液体取扱いシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3003798A JPH04237699A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 液体取扱いシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04237699A true JPH04237699A (ja) | 1992-08-26 |
Family
ID=11567218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3003798A Withdrawn JPH04237699A (ja) | 1991-01-17 | 1991-01-17 | 液体取扱いシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04237699A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19701334A1 (de) * | 1996-03-26 | 1997-10-02 | Hewlett Packard Co | Mit der zweiten Harmonischen abbildende Wandler |
-
1991
- 1991-01-17 JP JP3003798A patent/JPH04237699A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19701334A1 (de) * | 1996-03-26 | 1997-10-02 | Hewlett Packard Co | Mit der zweiten Harmonischen abbildende Wandler |
| DE19701334C2 (de) * | 1996-03-26 | 1999-06-10 | Hewlett Packard Co | Mit der zweiten Harmonischen abbildende Wandler |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |