JPH04236372A - Testing apparatus for semiconductor integrated circuit - Google Patents

Testing apparatus for semiconductor integrated circuit

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JPH04236372A
JPH04236372A JP3018425A JP1842591A JPH04236372A JP H04236372 A JPH04236372 A JP H04236372A JP 3018425 A JP3018425 A JP 3018425A JP 1842591 A JP1842591 A JP 1842591A JP H04236372 A JPH04236372 A JP H04236372A
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JP
Japan
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integrated circuit
semiconductor integrated
data
circuit device
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JP3018425A
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Japanese (ja)
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Mitsuhiro Hamada
浜田 光洋
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To reduce the time of a characteristic test, especially, the time of collecting shmoo plot by digitalizing the output data from a semiconductor integrated circuit device at a high speed to once store the same and subsequently subjecting the data to digital processing to judge the quality of the semiconductor integrated circuit device. CONSTITUTION:In a semiconductor integrated circuit testing apparatus 5 judging the quality of a semiconductor integrated circuit device by comparing the signal outputted from a semiconductor memory device with an expected value, a fast A/D converter 15 samples the signal outputted from the semiconductor integrated circuit device at a high speed to convert the same to a digital signal. A digital comparator 17 compares the digital signal from the fast A/D converter 15 with an expected value. A fast buffer memory 19 temporarily stores the comparing result of the digital comparator 17 and an operation apparatus 20 forms AND between the comparing result and the data in the fast buffer memory 19. A large capacity memory 24 stores the operation result of the operation apparatus 20. By investigating the data in the large capacity memory 24, the quality of the semiconductor integrated circuit device is judged.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は半導体メモリ装置など
の半導体集積回路装置の良否判定を行うための半導体集
積回路試験装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit testing device for determining the quality of semiconductor integrated circuit devices such as semiconductor memory devices.

【0002】0002

【従来の技術】図6は従来の半導体集積回路試験装置の
要部構成を含むブロック図である。図7は図6中の比較
器の動作を説明するための図、図8は図6中のデジタル
コンパレ−タの構成図、図9は半導体メモリ装置の一特
性試験を実施した時の結果を例示した図、図10,図1
1は上記特性試験に要する時間を説明するための図であ
る。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a block diagram showing the main components of a conventional semiconductor integrated circuit testing apparatus. FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the comparator in FIG. 6, FIG. 8 is a configuration diagram of the digital comparator in FIG. 6, and FIG. 9 shows the results of a characteristic test of a semiconductor memory device. Illustrated diagrams, Figure 10, Figure 1
1 is a diagram for explaining the time required for the above characteristic test.

【0003】図6〜11において1は半導体集積回路装
置としての半導体メモリ装置、2は上記半導体メモリ装
置1のデ−タ出力ピン、3は上記デ−タ出力ピン2より
出力されるデ−タ、4は上記デ−タ3を伝播させる信号
伝播線、5は半導体集積回路試験装置、6a,6bは上
記半導体集積回路試験装置5の内部にあって、上記デ−
タ3の電圧レベルを一定の電圧レベルと比較する比較器
、7は上記比較器6a,6bに比較を実行する時間を与
えるストロ−ブポイント、8は上記比較器6aにあって
上記デ−タ3の電圧レベルと比較するためのスレッシュ
ホ−ルドレベルVoh、9は上記比較器6bにあって上
記デ−タ3の電圧レベルと比較するためのスレッシュホ
−ルドレベルVol、10a,10bは比較器6a,6
bの出力、11は上記出力10a,10bを受け、期待
どおりのデ−タであるかどうかを判定するデジタルコン
パレ−タ、12は上記デジタルコンパレ−タ11の内部
にあって、上記出力10a,10bのどちらかの出力を
選択する選択回路、13は上記デジタルコンパレ−タ1
1における試験判定の判定基準となる、あるいは上記選
択回路12の選択基準にも使用される期待値、14は上
記デジタルコンパレ−タ11の内部にあって、上記選択
回路12から出力されたデ−タと期待値13の値を比較
する比較判定回路である。
In FIGS. 6 to 11, 1 is a semiconductor memory device as a semiconductor integrated circuit device, 2 is a data output pin of the semiconductor memory device 1, and 3 is data output from the data output pin 2. , 4 is a signal propagation line for propagating the data 3, 5 is a semiconductor integrated circuit testing device, and 6a and 6b are inside the semiconductor integrated circuit testing device 5 to transmit the data.
7 is a strobe point which gives time for the comparators 6a and 6b to perform the comparison; 8 is a strobe point in the comparator 6a that compares the voltage level of the data with a constant voltage level; Threshold level Voh for comparison with the voltage level of data 3; 9 is in the comparator 6b; threshold level Vol, 10a, 10b is in the comparator 6b for comparison with the voltage level of data 3;
11 is a digital comparator which receives the outputs 10a and 10b and determines whether the data is as expected; 12 is inside the digital comparator 11 and outputs the outputs 10a and 10b; 10b is a selection circuit for selecting either output; 13 is the digital comparator 1;
An expected value 14 is used as a criterion for the test judgment in 1 or as a selection criterion for the selection circuit 12, and is located inside the digital comparator 11 and is a data output from the selection circuit 12. This is a comparison/judgment circuit that compares the expected value 13 with the expected value 13.

【0004】次にまず半導体集積回路試験装置で試験さ
れた半導体集積回路装置の試験結果に対する良/不良の
判定動作について、1Mbitのメモリ容量を持つ半導
体メモリ装置を試験する場合を例にとり説明する。
[0004] First, the operation of determining pass/fail on the test results of a semiconductor integrated circuit device tested by a semiconductor integrated circuit tester will be explained using an example in which a semiconductor memory device having a memory capacity of 1 Mbit is tested.

【0005】いま半導体メモリ装置1内の一つのメモリ
セル(図示せず)のデ−タを読みだすと、デ−タ出力ピ
ン2からデ−タ3が出力される。この出力デ−タ3は、
信号伝播線4を介して半導体集積回路試験装置5の比較
器6a,6bに送られ、予め設定したストロ−ブポイン
ト7の時間において、比較器6aの場合は、予め設定し
たスレッシュホ−ルドレベルVoh8よりも高い電圧か
どうかを判定し、比較器6bの場合は、同じく予め設定
したスレッシュホ−ルドレベルVol9よりも低い電圧
かどうかを判定する。なお、スレッシュホ−ルドレベル
Voh8,Vol9は専用のレベル発生回路(図示せず
)より供給される。
When data is read from one memory cell (not shown) in the semiconductor memory device 1, data 3 is output from the data output pin 2. This output data 3 is
The signal is sent to the comparators 6a and 6b of the semiconductor integrated circuit testing device 5 via the signal propagation line 4, and at the time of the preset strobe point 7, the comparator 6a has a voltage higher than the preset threshold level Voh8. In the case of the comparator 6b, it is similarly determined whether the voltage is lower than a preset threshold level Vol9. Note that the threshold levels Voh8 and Vol9 are supplied from a dedicated level generation circuit (not shown).

【0006】判定は、例えば比較器6aにおいてはデ−
タ3がスレッシュホ−ルドレベルVoh8よりも高けれ
ば“1”を、そうでなければ“0”を、または比較器6
bにおいてもデ−タ3がスレッシュホ−ルドレベルVo
l9よりも低ければ“0”を、そうでなければ“1”を
出力する。この事例の場合、読みだしたメモリセルが論
理値“H”をデ−タとして保持し、かつデ−タ出力ピン
2から出力されたデ−タ3のレベルがスレッシュホ−ル
ドレベルVoh8よりも、十分高いレベルであったと仮
定すると、比較器6aの出力10aは“1”、比較器6
bの出力10bも“1”となる。
[0006] For example, in the comparator 6a, the determination is made using data.
If the comparator 3 is higher than the threshold level Voh8, it is set to "1", otherwise it is set to "0", or the comparator 6
Also in b, data 3 is at the threshold level Vo
If it is lower than l9, it outputs "0", otherwise it outputs "1". In this case, the read memory cell holds the logical value "H" as data, and the level of data 3 output from data output pin 2 is sufficiently higher than the threshold level Voh8. Assuming that the level is high, the output 10a of the comparator 6a is "1", and the output 10a of the comparator 6a is "1".
The output 10b of b also becomes "1".

【0007】次いで、比較器6a,6bの出力10a,
10bはデジタルコンパレ−タ11へ送られ、その内部
にある選択回路12に入り、期待値13(発生回路は図
示せず)の値により出力10a,10bのどちらかが選
択され、次の比較判定回路14に送られる。期待値13
は試験された半導体集積回路装置の試験結果が正しいと
仮定した場合に、その半導体集積回路試験装置5が出力
するであろうデ−タの論理値(“H”または“L”)に
対応した値(“1”または“0”)を持つデ−タのこと
である。従って、上記選択回路12は、期待値13が“
1”の場合は出力10aを、“0”の場合は出力10b
を選択する。
[0007] Next, the outputs 10a and 10a of the comparators 6a and 6b,
10b is sent to the digital comparator 11 and enters the selection circuit 12 inside, where either the output 10a or 10b is selected depending on the value of the expected value 13 (the generation circuit is not shown), and the next comparison is made. The signal is sent to circuit 14. Expected value 13
corresponds to the logical value (“H” or “L”) of data that would be output by the semiconductor integrated circuit testing device 5, assuming that the test results of the tested semiconductor integrated circuit device are correct. This is data that has a value (“1” or “0”). Therefore, the selection circuit 12 determines that the expected value 13 is “
If it is “1”, output 10a, if “0”, output 10b
Select.

【0008】また、この事例の場合であれば、期待値1
3が“1”であったと仮定すれば比較器6aの出力10
a(デ−タの値は“1”)が選択される。次いで、比較
判定回路14は、上記選択回路12から出力されたデ−
タと期待値13の値を比較し、同じ値であるならば半導
体集積回路装置の出力デ−タ3は正しい(良)、またそ
うでなければ誤っている(不良)と判定する。この事例
の場合であれば、読みだしたメモリセルのデ−タは正し
い(良)と判定される。
[0008] Also, in this case, the expected value 1
3 is "1", the output of the comparator 6a is 10.
a (data value is "1") is selected. Next, the comparison/judgment circuit 14 receives the data output from the selection circuit 12.
The output data 3 of the semiconductor integrated circuit device is compared with the expected value 13, and if they are the same, it is determined that the output data 3 of the semiconductor integrated circuit device is correct (good), and if not, it is determined that it is incorrect (defective). In this case, the read data of the memory cell is determined to be correct (good).

【0009】以上の動作を各メモリセルごとに実施し、
全てのメモリセルが良と判定されれば、その半導体メモ
リ装置1の試験判定結果は良であると決定される。一方
、一つでも不良と判定されるメモリセルがあれば、試験
時間の短縮のため、たとえ判定を下していないメモリセ
ルが残っていても、その判定をした時点で試験を中止し
、その半導体メモリ装置1の試験結果は不良であると決
定される。
The above operations are carried out for each memory cell, and
If all the memory cells are determined to be good, the test determination result of the semiconductor memory device 1 is determined to be good. On the other hand, if even one memory cell is determined to be defective, in order to shorten the test time, the test is stopped as soon as the determination is made, even if there are memory cells that have not been determined. The test result of the semiconductor memory device 1 is determined to be defective.

【0010】次に半導体メモリ装置1の特性試験の方法
を説明する。半導体メモリ装置1の特性試験の一つにシ
ュムプロットがある。これは幾つかある試験条件パラメ
−タ(電源電圧や各種信号の入力タイミングなど)のう
ちの2つの条件パラメ−タを一定の間隔で変化させ、そ
れぞれの試験条件で試験を実施し、その良/不良の判定
結果を上記2つの条件パラメ−タを縦軸と横軸にとった
マトリクス状にプロットし、半導体メモリ装置1の特性
を調査するものである。
Next, a method for testing the characteristics of the semiconductor memory device 1 will be explained. One of the characteristic tests for the semiconductor memory device 1 is the Schmumm plot. This is done by changing two of the several test condition parameters (power supply voltage, input timing of various signals, etc.) at regular intervals, conducting tests under each test condition, and checking the quality of the test. The characteristics of the semiconductor memory device 1 are investigated by plotting the results of the defect determination in a matrix with the above two condition parameters on the vertical and horizontal axes.

【0011】図9はその一例を示したものであり、半導
体メモリ装置1に与える電源電圧を縦軸にとり、4V〜
6Vまで0.2Vきざみに11ポイント変化させ、前述
の各メモリセルの出力3を期待値13と比較するための
タイミングであるストロ−ブポイント7の時間を横軸に
とり、95ns〜120nsまで1nsきざみに26ポ
イント変化させ、合計11ポイント×26ポイント=2
86ポイントについて、各試験条件で試験を実施し、良
であればアスタリスクマ−ク“*”を、不良であれば空
白をプロットしたものである。
FIG. 9 shows an example, and the power supply voltage applied to the semiconductor memory device 1 is plotted on the vertical axis.
The horizontal axis is the time of strobe point 7, which is the timing for comparing the output 3 of each memory cell with the expected value 13. 26 points changed, total 11 points x 26 points = 2
Tests were conducted for 86 points under each test condition, and if the results were good, an asterisk mark "*" was plotted, and if the results were poor, a blank was plotted.

【0012】次いで図10はこのシュムプロットの実行
時間を半導体メモリ装置1のメモリ容量の大きさごとに
試算した結果を示したものである。なお、試算の条件は
、1回の試験で各メモリセル9回読みだしあるいは書き
込みを行うマ−チングパタ−ン、試験サイクル時間は2
20ns、シュムプロット数は、縦軸15ポイント×横
軸51ポイント=765ポイントで、良であると判定し
たポイント数(アスタリスクマ−ク“*”の数)は50
6ポイントであり、半導体メモリ装置1はダイナミック
・ランダム・アクセス・メモリ(DRAM)であるとし
た。
Next, FIG. 10 shows the results of trial calculations of the execution time of the Schmoe plot for each memory capacity of the semiconductor memory device 1. The conditions for the trial calculation are a marching pattern in which each memory cell is read or written 9 times in one test, and the test cycle time is 2.
20 ns, the number of Schmoe plots is 15 points on the vertical axis x 51 points on the horizontal axis = 765 points, and the number of points judged to be good (the number of asterisk marks "*") is 50.
It is assumed that the semiconductor memory device 1 is a dynamic random access memory (DRAM).

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体集積回路
試験装置は以上のように構成されているので、特性試験
、特にシュムプロットの採取に当たっては、測定を繰り
返さなくてはならず、例えば16Mbitの半導体メモ
リ装置の場合4.6時間も要するなど、採取に要する時
間が半導体メモリ装置の容量が増加するに従って、飛躍
的に増大し、その結果、事実上大容量の半導体メモリ装
置の特性評価が実施できなくなるという問題点があった
[Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional semiconductor integrated circuit test equipment is configured as described above, measurements must be repeated when performing characteristic tests, especially when collecting Schmoe plots. The time required for sampling increases dramatically as the capacity of semiconductor memory devices increases, such as 4.6 hours in the case of semiconductor memory devices, and as a result, it is virtually impossible to evaluate the characteristics of large-capacity semiconductor memory devices. The problem was that it was not possible.

【0014】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、半導体集積回路装置から出力さ
れる出力デ−タを高速でデジタル化して一旦記憶してお
き、その後デ−タをデジタル処理し、半導体集積回路装
置の良否判定を実施することにより、特性試験、特にシ
ュムプロットの採取時間を低減できる半導体集積回路試
験装置を得ることを目的とする。
The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and the output data output from a semiconductor integrated circuit device is digitized at high speed and temporarily stored, and then the data is It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit testing device that can reduce the time required to take a characteristic test, especially a Schmum plot, by digitally processing the data and determining the quality of the semiconductor integrated circuit device.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体集
積回路試験装置は、半導体集積回路装置(半導体メモリ
装置1)から出力された信号を高速にサンプリングして
デジタル信号に変換する信号変換手段(高速A/Dコン
バ−タ15)と、この信号変換手段からのデジタル信号
と期待値とを比較する比較手段(デジタルコンパレ−タ
17)と、この比較手段の比較結果を一時的に蓄える第
1の記憶手段(高速バッファメモリ19)と、この第1
の記憶手段内のデ−タとの間で論理積を作る演算手段(
演算装置20)と、この演算手段の演算結果を蓄える第
2の記憶手段(大容量メモリ24)とを備え、この第2
の記憶手段内のデ−タを調べることにより上記半導体集
積回路装置の良否判定を行うものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor integrated circuit testing apparatus according to the present invention includes a signal converting means (1) that samples a signal output from a semiconductor integrated circuit device (semiconductor memory device 1) at high speed and converts it into a digital signal. A high-speed A/D converter 15), a comparison means (digital comparator 17) for comparing the digital signal from this signal conversion means with an expected value, and a first comparator for temporarily storing the comparison result of this comparison means. storage means (high-speed buffer memory 19), and this first storage means (high-speed buffer memory 19).
an arithmetic means (
an arithmetic unit 20) and a second storage means (large capacity memory 24) for storing the arithmetic results of this arithmetic means;
The quality of the semiconductor integrated circuit device is determined by checking the data in the storage means.

【0016】[0016]

【作用】信号変換手段(高速A/Dコンバ−タ15)は
半導体集積回路装置(半導体メモリ装置1)から出力さ
れた信号を高速にサンプリングしてデジタル信号に変換
する。比較手段(デジタルコンパレ−タ17)は信号変
換手段からのデジタル信号と期待値とを比較する。第1
の記憶手段(高速バッファメモリ19)は比較手段の比
較結果を一時的に蓄える。演算手段(演算装置20)は
第1の記憶手段内のデ−タとの間で論理積を作る。第2
の記憶手段(大容量メモリ24)は演算手段の演算結果
を蓄える。半導体集積回路装置の良否判定は第2の記憶
手段内のデ−タを調べることにより行われる。
[Operation] The signal conversion means (high-speed A/D converter 15) samples the signal output from the semiconductor integrated circuit device (semiconductor memory device 1) at high speed and converts it into a digital signal. The comparison means (digital comparator 17) compares the digital signal from the signal conversion means with the expected value. 1st
The storage means (high-speed buffer memory 19) temporarily stores the comparison results of the comparison means. The arithmetic means (arithmetic device 20) performs a logical product with the data in the first storage means. Second
The storage means (large capacity memory 24) stores the calculation results of the calculation means. The quality of the semiconductor integrated circuit device is determined by checking the data in the second storage means.

【0017】[0017]

【実施例】図1はこの発明の一実施例に係る半導体集積
回路試験装置の要部構成を含むブロック図である。図2
はこの実施例の動作を説明するための構成図、図3はこ
の実施例におけるデジタルコンパレ−タの動作を説明す
るための図、図4はこの実施例の効果を説明するための
シュムプロットのモデル図、図5はこの実施例の効果を
説明するためのシュムプロット図である。図1〜5にお
いて、15はアナログ信号をデジタル信号に高速に変換
する信号変換手段としての高速A/Dコンバ−タ、16
は上記高速A/Dコンバ−タ15から出力されるデジタ
ル信号、17は上記デジタル信号16を期待値13と比
較判定し、“0”と“1”の2値に変換する比較手段と
してのデジタルコンパレ−タ、18は上記デジタルコン
パレ−タ17より出力されるビット列、19は上記ビッ
ト列18を高速に取り込み、一時的に蓄える第1の記憶
手段としての高速バッファメモリ、20は上記高速バッ
ファメモリ19内のデ−タとの間で論理積を作る演算手
段としての演算装置、21,22は上記演算装置20内
にあって、演算するデ−タを蓄えるレジスタ、23はシ
ュムプロットの一列、24は上記演算装置20で演算さ
れた最終結果を蓄える第2の記憶手段としての低速大容
量メモリ装置である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a block diagram showing the main structure of a semiconductor integrated circuit testing apparatus according to an embodiment of the present invention. Figure 2
is a block diagram for explaining the operation of this embodiment, FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the digital comparator in this embodiment, and FIG. The model diagram, FIG. 5, is a Schmoe plot diagram for explaining the effects of this embodiment. In FIGS. 1 to 5, 15 is a high-speed A/D converter as a signal conversion means for converting analog signals into digital signals at high speed, and 16 is a high-speed A/D converter.
17 is a digital signal outputted from the high-speed A/D converter 15, and 17 is a digital signal as a comparing means for comparing and determining the digital signal 16 with the expected value 13 and converting it into binary values of "0" and "1". a comparator; 18, a bit string output from the digital comparator 17; 19, a high-speed buffer memory as a first storage means for rapidly capturing and temporarily storing the bit string 18; 20, the high-speed buffer memory 19; 21 and 22 are registers in the arithmetic device 20 that store data to be operated on; 23 is a line of Schmu plot; 24 is a low-speed large-capacity memory device serving as a second storage means for storing the final results computed by the arithmetic unit 20.

【0018】次に動作について説明する。まず半導体メ
モリ装置1内のメモリセル(図示せず)のデ−タを順次
読みだすと、従来と同様、デ−タ出力ピン2からデ−タ
3が出力される。この出力デ−タ3を、信号伝播線4を
介して半導体集積回路試験装置5の高速A/Dコンバ−
タ15に送り、例えば6bitを1Gサンプリング/s
のサンプリング速度でデジタル信号16に変換する。変
換されたデジタル信号16は、デジタルコンパレ−タ1
7に送られる。デジタルコンパレ−タ17は、予め設定
したスレッシュホ−ルドレベルVoh8,Vol9およ
び期待値13により、上記デジタル信号16を“0”と
“1”の2値に変換し、ビット列18を形成する。
Next, the operation will be explained. First, when data from memory cells (not shown) in the semiconductor memory device 1 is sequentially read out, data 3 is output from the data output pin 2 as in the conventional case. This output data 3 is sent to a high-speed A/D converter of a semiconductor integrated circuit testing device 5 via a signal propagation line 4.
For example, 6 bits are sent to the data storage device 15 at 1G sampling/s.
is converted into a digital signal 16 at a sampling rate of . The converted digital signal 16 is sent to the digital comparator 1
Sent to 7. The digital comparator 17 converts the digital signal 16 into two values of "0" and "1" using preset threshold levels Voh8, Vol9 and an expected value 13, thereby forming a bit string 18.

【0019】この時、期待値13が論理値“H”である
場合は、上記デジタル信号16がスレッシュホ−ルドレ
ベルVoh8よりも高い電圧を示す部分を“1”、そう
でない部分を“0”の値にする。また、期待値13が論
理値“L”である場合は、上記デジタル信号16がスレ
ッシュホ−ルドレベルVol9よりも低い電圧を示す部
分を“1”、そうでない部分を“0”の値にする。
At this time, if the expected value 13 is the logical value "H", the portion where the digital signal 16 shows a voltage higher than the threshold level Voh8 is set to "1", and the other portion is set to "0". Make it. Further, when the expected value 13 is a logical value "L", the portion of the digital signal 16 showing a voltage lower than the threshold level Vol9 is set to "1", and the other portion is set to "0".

【0020】つまりどちらの場合も、期待値を満足して
いる部分を“1”、満足していない部分を“0”と変換
することになる。この意味で、この時出来上がるビット
列18は、“1”が良を、“0”が不良を意味しており
、従来のストロ−ブポイント7を一定のきざみで変更し
て繰り返し試験した結果と対応している。例えばこのビ
ット列18が36bitの列であったとすれば、ストロ
−ブポイント7を36ステップだけ変更して繰り返し試
験したものと同等である。
In other words, in either case, the portion that satisfies the expected value is converted to "1", and the portion that does not satisfy the expected value is converted to "0". In this sense, the bit string 18 that is created at this time, "1" means good and "0" means bad, corresponds to the results of repeated tests by changing the conventional strobe point 7 in fixed increments. are doing. For example, if this bit string 18 is a 36-bit string, it is equivalent to changing the strobe point 7 by 36 steps and repeating the test.

【0021】次いで上記ビット列18を、一旦、数10
0Kbit程度の容量を持つ高速バッファメモリ19に
一時的に蓄える。そして、半導体メモリ装置1の持つ全
メモリセルの出力デ−タを、上記の動作にしたがって、
この高速バッファメモリ19に蓄えることを繰り返す。 この動作が完了したとき、高速バッファメモリ19には
、半導体メモリ装置1の全メモリセルの出力デ−タの期
待値判定後の結果が蓄えられたことになる。
[0021] Next, the bit string 18 is once converted to the number 10.
It is temporarily stored in a high-speed buffer memory 19 having a capacity of about 0 Kbit. Then, the output data of all the memory cells of the semiconductor memory device 1 are processed according to the above operation.
This process of storing data in the high-speed buffer memory 19 is repeated. When this operation is completed, the high-speed buffer memory 19 will have stored the results of expected value determination of the output data of all memory cells of the semiconductor memory device 1.

【0022】次いで上記高速バッファメモリ19内のデ
−タを、順次演算装置20内のレジスタ21に転送し、
同じく演算装置20内のレジスタ22のデ−タ(ビット
列)との間で論理積の演算を、上記高速バッファメモリ
19内のデ−タがなくなるまで繰り返し行う。レジスタ
22のデ−タ(ビット列)の初期値は全ビット“1”で
ある。この結果最終的にレジスタ22に残ったデ−タ(
ビット列)は、上記高速バッファメモリ19内の全ての
デ−タにおいて“1”となっているビット列のみに“1
”が指定されたものとなり、言い換えれば、試験された
半導体メモリ装置1の全メモリセルの出力デ−タが良と
なった部分のみを示したものである。そしてシュムプロ
ットにおけるストロ−ブポイント7を一定のきざみで変
更して繰り返し試験した結果と対応しており、ビット列
“1”をアスタリスク“*”とすれば、図4の列23の
部分(横軸に平行な列)に表示されるプロット結果とな
っている。
Next, the data in the high-speed buffer memory 19 is sequentially transferred to the register 21 in the arithmetic unit 20,
Similarly, the logical product operation with the data (bit string) of the register 22 in the arithmetic unit 20 is repeated until the data in the high-speed buffer memory 19 runs out. The initial value of the data (bit string) in the register 22 is all bits "1". As a result, the data (
bit string), only those bit strings that are “1” in all the data in the high-speed buffer memory 19 are “1”.
In other words, it shows only the part where the output data of all the memory cells of the tested semiconductor memory device 1 were good.Then, strobe point 7 in the Schmumm plot This corresponds to the result of repeated tests by changing the value in fixed increments, and if the bit string "1" is replaced with an asterisk "*", it will be displayed in column 23 of Figure 4 (column parallel to the horizontal axis). This is the plot result.

【0023】次いで最終的にレジスタ22に残った上記
デ−タ(ビット列)は大容量メモリ24に送られ、蓄え
られる。そして、シュムプロットの縦軸に設定した試験
条件のパラメ−タを変化させながら上記の動作を繰り返
し、大容量メモリ24に順次蓄える。
Next, the data (bit string) finally remaining in the register 22 is sent to a large capacity memory 24 and stored therein. Then, the above operation is repeated while changing the parameters of the test conditions set on the vertical axis of the Schum plot, and the results are sequentially stored in the large-capacity memory 24.

【0024】最後に大容量メモリ24内のデ−タを順番
に列挙し、“1”のビットを“*”、“0”のビットを
空白に置き換えれば従来と同様のシュムプロットとなる
。シュムプロットはCRTに表示されたり、プリンタに
出力されたりする。
Finally, if the data in the large capacity memory 24 are enumerated in order and the "1" bits are replaced with "*" and the "0" bits are replaced with blanks, a Schmoe plot similar to the conventional one is obtained. The Shumu plot is displayed on a CRT or output to a printer.

【0025】なお、上記実施例ではシュムプロットの縦
軸のパラメ−タを電源電圧としたが、他のパラメ−タ、
例えば動作タイミングであってもよい。また、上記実施
例では特性試験、特にシュムプロットについて説明した
が、半導体集積回路装置の出力デ−タをグラフィカルに
ディスプレイ装置に表示するEWS(エンジニアリング
・ワ−ク・ステ−ション)の機能を高速に処理できる装
置であってもよく、上記実施例と同様の効果を奏する。
In the above embodiment, the parameter on the vertical axis of the Schmumm plot is the power supply voltage, but other parameters such as
For example, it may be an operation timing. In addition, although the above embodiments have explained the characteristic tests, especially the Schmumm plot, it is also possible to perform a high-speed EWS (engineering work station) function that graphically displays output data of a semiconductor integrated circuit device on a display device. It is also possible to use an apparatus capable of processing the above-mentioned conditions, and the same effects as those of the above-mentioned embodiments can be obtained.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、半導体集
積回路装置から出力された信号を高速にサンプリングし
てデジタル信号に変換する信号変換手段と、この信号変
換手段からのデジタル信号と期待値とを比較する比較手
段と、この比較手段の比較結果を一時的に蓄える第1の
記憶手段と、この第1の記憶手段内のデ−タとの間で論
理積を作る演算手段と、この演算手段の演算結果を蓄え
る第2の記憶手段とを備えて構成したので、ストロ−ブ
ポイントを変化させることなく、半導体集積回路装置の
出力デ−タを評価できるようになり、半導体集積回路装
置の特性試験、特にシュムプロットの一方の軸の試験条
件のパラメ−タを変化させて繰り返し試験を実施する必
要がなく、もう一方の試験条件のパラメ−タのみを変化
させて繰り返し試験を実施すればよいため、シュムプロ
ットの採取時間を従来の数10分の1から数100分の
1程度に短縮できるという効果が得られる。
As described above, according to the present invention, there is provided a signal conversion means for sampling a signal output from a semiconductor integrated circuit device at high speed and converting it into a digital signal, and a digital signal output from the signal conversion means. a comparison means for comparing the values, a first storage means for temporarily storing the comparison result of the comparison means, and an arithmetic means for performing a logical product between the data in the first storage means; Since the second storage means stores the calculation results of the calculation means, it is possible to evaluate the output data of the semiconductor integrated circuit device without changing the strobe point. There is no need to perform device characteristic tests, especially repeated tests by changing the parameters of the test conditions on one axis of the Schmumm plot, but only by changing the parameters of the other test conditions. Therefore, an effect can be obtained in that the time required to collect a Schmoe plot can be shortened from several tenths to several hundredths of the conventional time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】この発明の一実施例に係る半導体集積回路試験
装置の要部構成を含むブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram including the main part configuration of a semiconductor integrated circuit testing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】この実施例の動作を説明するための構成図であ
る。
FIG. 2 is a configuration diagram for explaining the operation of this embodiment.

【図3】この実施例におけるデジタルコンパレ−タの動
作を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the digital comparator in this embodiment.

【図4】この実施例の効果を説明するためのシュムプロ
ットのモデル図である。
FIG. 4 is a model diagram of a Schmoe plot for explaining the effects of this embodiment.

【図5】この実施例の効果を説明するためのシュムプロ
ット図である。
FIG. 5 is a Schmoe plot diagram for explaining the effects of this embodiment.

【図6】従来の半導体集積回路試験装置の要部構成を含
むブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram including the main part configuration of a conventional semiconductor integrated circuit testing device.

【図7】図6中の比較器の動作を説明するための図であ
る。
FIG. 7 is a diagram for explaining the operation of the comparator in FIG. 6;

【図8】図6中のデジタルコンパレ−タの構成図である
FIG. 8 is a configuration diagram of the digital comparator in FIG. 6;

【図9】半導体メモリ装置の一特性試験を実施した時の
結果を例示した図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating the results of a characteristic test of a semiconductor memory device.

【図10】上記特性試験に要する時間を説明するための
図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the time required for the above characteristic test.

【図11】上記特性試験に要する時間を説明するための
図である。
FIG. 11 is a diagram for explaining the time required for the above characteristic test.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  半導体メモリ装置(半導体集積回路装置)5  
半導体集積回路試験装置 15  高速A/Dコンバ−タ(信号変換手段)17 
 デジタルコンパレ−タ(比較手段)19  高速バッ
ファメモリ(第1の記憶手段)20  演算装置
1 Semiconductor memory device (semiconductor integrated circuit device) 5
Semiconductor integrated circuit testing equipment 15 High-speed A/D converter (signal conversion means) 17
Digital comparator (comparison means) 19 High-speed buffer memory (first storage means) 20 Arithmetic unit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  半導体集積回路装置から出力された信
号と期待値とを比較することによって半導体集積回路装
置の良否を判定する半導体集積回路試験装置において、
上記半導体集積回路装置から出力された信号を高速にサ
ンプリングしてデジタル信号に変換する信号変換手段と
、この信号変換手段からのデジタル信号と期待値とを比
較する比較手段と、この比較手段の比較結果を一時的に
蓄える第1の記憶手段と、この第1の記憶手段内のデ−
タとの間で論理積を作る演算手段と、この演算手段の演
算結果を蓄える第2の記憶手段とを備え、この第2の記
憶手段内のデ−タを調べることにより上記半導体集積回
路装置の良否判定を行うことを特徴とする半導体集積回
路試験装置。
1. A semiconductor integrated circuit testing device that determines the quality of a semiconductor integrated circuit device by comparing a signal output from the semiconductor integrated circuit device with an expected value, comprising:
Comparison of a signal conversion means for sampling the signal output from the semiconductor integrated circuit device at high speed and converting it into a digital signal, a comparison means for comparing the digital signal from the signal conversion means with an expected value, and this comparison means. A first storage means for temporarily storing results, and data in this first storage means.
The semiconductor integrated circuit device is provided with an arithmetic means for performing a logical product with the data, and a second memory means for storing the arithmetic result of the arithmetic means, and by checking the data in the second memory means. A semiconductor integrated circuit testing device characterized by determining the quality of a semiconductor integrated circuit.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1078272A1 (en) * 1998-04-24 2001-02-28 Credence Systems Corporation Method for generating a shmoo plot contour for integrated circuit tester
JP2001356153A (en) * 2000-06-14 2001-12-26 Advantest Corp Semiconductor device testing method and semiconductor device testing device
US6418387B1 (en) * 1999-06-28 2002-07-09 Ltx Corporation Method of and system for generating a binary shmoo plot in N-dimensional space
JP2008232623A (en) * 2007-03-16 2008-10-02 Sony Corp Semiconductor evaluation device, its method and program

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1078272A1 (en) * 1998-04-24 2001-02-28 Credence Systems Corporation Method for generating a shmoo plot contour for integrated circuit tester
EP1078272A4 (en) * 1998-04-24 2004-11-24 Credence Systems Corp Method for generating a shmoo plot contour for integrated circuit tester
US6418387B1 (en) * 1999-06-28 2002-07-09 Ltx Corporation Method of and system for generating a binary shmoo plot in N-dimensional space
JP2001356153A (en) * 2000-06-14 2001-12-26 Advantest Corp Semiconductor device testing method and semiconductor device testing device
JP2008232623A (en) * 2007-03-16 2008-10-02 Sony Corp Semiconductor evaluation device, its method and program

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