JPH04235289A - 高耐食性高飽和磁束密度材料 - Google Patents
高耐食性高飽和磁束密度材料Info
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- JPH04235289A JPH04235289A JP2418476A JP41847690A JPH04235289A JP H04235289 A JPH04235289 A JP H04235289A JP 2418476 A JP2418476 A JP 2418476A JP 41847690 A JP41847690 A JP 41847690A JP H04235289 A JPH04235289 A JP H04235289A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は自動車産業、電気産業に
おけるメカトロニクス製品の高性能化、小型軽量化を可
能とし、腐食環境での使用に適し、特に各種電磁弁、歯
科用の義歯アタッチメントの高性能化に好適な高耐食性
高飽和磁束密度材料に関する。
おけるメカトロニクス製品の高性能化、小型軽量化を可
能とし、腐食環境での使用に適し、特に各種電磁弁、歯
科用の義歯アタッチメントの高性能化に好適な高耐食性
高飽和磁束密度材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、自動車等に搭載されるメカトロニ
クス製品のうち、優れた耐食性と高い飽和磁束密度を要
求される部品には、13Crステンレス鋼あるいは19
Cr−2Moステンレス鋼等の耐食軟磁性ステンレス鋼
が用いられていた。
クス製品のうち、優れた耐食性と高い飽和磁束密度を要
求される部品には、13Crステンレス鋼あるいは19
Cr−2Moステンレス鋼等の耐食軟磁性ステンレス鋼
が用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする問題点】近年、自動車に搭載
される各種電磁弁に対しては、高性能化、小型軽量化等
の要請から、磁束密度の非常に高い材料が必要になって
きている。その理由は、材料の磁束密度が高いと、目的
とする磁束を得るのに小さな材料で済み同じ寸法で高出
力が得られるからである。また、自動車用各種電磁弁で
外気と接触する部分は、かなり厳しい腐食環境にさらさ
れると共に、塩害のある地域では、一層厳しい腐食環境
となるため、さらに耐食性に優れた材料が必要となる。
される各種電磁弁に対しては、高性能化、小型軽量化等
の要請から、磁束密度の非常に高い材料が必要になって
きている。その理由は、材料の磁束密度が高いと、目的
とする磁束を得るのに小さな材料で済み同じ寸法で高出
力が得られるからである。また、自動車用各種電磁弁で
外気と接触する部分は、かなり厳しい腐食環境にさらさ
れると共に、塩害のある地域では、一層厳しい腐食環境
となるため、さらに耐食性に優れた材料が必要となる。
【0004】さらに、軟磁性材料を適用した応用部品で
ある歯科用磁性アタッチメントは、歯に埋め込むために
、非常に小型化が要求され、かつ高い吸引力を必要とす
るため、非常に高い飽和磁束密度を有する材料が必要と
なる。その上、口腔という非常に厳しい腐食環境に曝さ
れるため、耐食性についても優れていることが必要であ
る。
ある歯科用磁性アタッチメントは、歯に埋め込むために
、非常に小型化が要求され、かつ高い吸引力を必要とす
るため、非常に高い飽和磁束密度を有する材料が必要と
なる。その上、口腔という非常に厳しい腐食環境に曝さ
れるため、耐食性についても優れていることが必要であ
る。
【0005】しかるに、従来から使用されている13C
rステンレス鋼は、飽和磁束密度が18000Gであっ
て、磁気特性にやや劣り、腐食性の非常に強い環境では
、まだ耐食性が不十分である。また、19Cr−2Mo
ステンレス鋼は、耐食性は13Crステンレス鋼に比べ
て優れるものの、飽和磁束密度が16000Gとさらに
磁気特性に劣る。
rステンレス鋼は、飽和磁束密度が18000Gであっ
て、磁気特性にやや劣り、腐食性の非常に強い環境では
、まだ耐食性が不十分である。また、19Cr−2Mo
ステンレス鋼は、耐食性は13Crステンレス鋼に比べ
て優れるものの、飽和磁束密度が16000Gとさらに
磁気特性に劣る。
【0006】本発明は従来の電磁機器に使用される軟磁
性材料の磁気特性および耐食性が不十分であるという問
題点に鑑みてなされたものであって、飽和磁束密度が2
0000G以上であって、優れた耐食性を有する高耐食
性高飽和磁束密度材料を提供することを目的とする。
性材料の磁気特性および耐食性が不十分であるという問
題点に鑑みてなされたものであって、飽和磁束密度が2
0000G以上であって、優れた耐食性を有する高耐食
性高飽和磁束密度材料を提供することを目的とする。
【0007】
【問題点を解決するための手段】発明者等は、前記問題
点を解決するため、従来の耐食軟磁性ステンレス鋼より
も高い飽和磁束密度を有する電磁軟鉄に着目した。しか
しながら、この電磁軟鉄は耐食性が著しく劣り、そのま
までは使用することができない。そこで、この電磁軟鉄
にCrを添加して耐食性の改善を試みた。
点を解決するため、従来の耐食軟磁性ステンレス鋼より
も高い飽和磁束密度を有する電磁軟鉄に着目した。しか
しながら、この電磁軟鉄は耐食性が著しく劣り、そのま
までは使用することができない。そこで、この電磁軟鉄
にCrを添加して耐食性の改善を試みた。
【0008】先ず、飽和磁束密度20000Gを確保で
きる限界のCr量を添加してFe−−7Cr合金を得た
。しかし、この合金では必要な飽和磁束密度は確保でき
たものの、Cr含有量が少ないため耐食性の向上が充分
でなかった。今度は逆にSUS304なみの耐食性を得
るための最低のCrを添加してFe−22Cr合金を得
た。しかし、この合金の飽和磁束密度は16800Gで
あって、耐食性は確保できるものの、所望の磁気特性が
得られない。これらの結果より、耐食性と飽和磁束密度
は背反特性であり、冶金的合金開発手法では、前記問題
点を解決することが困難であることがわかった。
きる限界のCr量を添加してFe−−7Cr合金を得た
。しかし、この合金では必要な飽和磁束密度は確保でき
たものの、Cr含有量が少ないため耐食性の向上が充分
でなかった。今度は逆にSUS304なみの耐食性を得
るための最低のCrを添加してFe−22Cr合金を得
た。しかし、この合金の飽和磁束密度は16800Gで
あって、耐食性は確保できるものの、所望の磁気特性が
得られない。これらの結果より、耐食性と飽和磁束密度
は背反特性であり、冶金的合金開発手法では、前記問題
点を解決することが困難であることがわかった。
【0009】そこで、発明者等は耐食性が表面状態に強
く依存することに着目し、軟磁性部品の腐食環境に曝さ
れる部位の表面にCrめっきを施すことを着想した。し
かし、単にCrめっきを施すだけでは、Crめっき層自
体が非磁性であるため部品の磁気特性を劣化させる場合
があるとともに、Crめっき層は地金との結合力が弱く
、密着性に問題があり、長期間の使用に不安が残る。
く依存することに着目し、軟磁性部品の腐食環境に曝さ
れる部位の表面にCrめっきを施すことを着想した。し
かし、単にCrめっきを施すだけでは、Crめっき層自
体が非磁性であるため部品の磁気特性を劣化させる場合
があるとともに、Crめっき層は地金との結合力が弱く
、密着性に問題があり、長期間の使用に不安が残る。
【0010】発明者等は、さらにCrめっき層の密着性
と磁気特性の改善について、鋭意研究を重ねた結果、高
エネルギービームによるめっき層の改質処理によりCr
めっき層と地金を溶融混合し表面に合金層を形成すれば
、Crめっき層の密着性が改善できるとともに合金化に
より磁気特性も改善できて、軟磁性部品の飽和磁束密度
を劣化させることなく耐食性を付与することができるこ
とを新たに知見して本発明を完成した。
と磁気特性の改善について、鋭意研究を重ねた結果、高
エネルギービームによるめっき層の改質処理によりCr
めっき層と地金を溶融混合し表面に合金層を形成すれば
、Crめっき層の密着性が改善できるとともに合金化に
より磁気特性も改善できて、軟磁性部品の飽和磁束密度
を劣化させることなく耐食性を付与することができるこ
とを新たに知見して本発明を完成した。
【0011】本発明の高耐食性高飽和磁束密度材料は、
電磁軟鉄からなる部品の腐食環境に曝される部位にCr
めっきを施した後高エネルギービームによりCrめっき
層の改質処理を施すことにより重量比でCr40%以下
を含有するFe−Cr系合金からなる耐食性合金層を表
面に形成したことを要旨とする。
電磁軟鉄からなる部品の腐食環境に曝される部位にCr
めっきを施した後高エネルギービームによりCrめっき
層の改質処理を施すことにより重量比でCr40%以下
を含有するFe−Cr系合金からなる耐食性合金層を表
面に形成したことを要旨とする。
【0012】本発明の電磁軟鉄には、例えばJIS鋼S
UYB0またはSUYB1等を用いることができる。
UYB0またはSUYB1等を用いることができる。
【0013】部品の腐食環境に曝される部位に施される
Crめっき層の厚さおよび改質処理後の耐食性合金層の
厚さは、耐食性合金層に穴があき、合金層本来の役目を
果たさなくなることのない厚みを有することが必要であ
る。一方、厚過ぎると合金層の強度は向上するが、合金
層自体の磁気特性が地金部分に比べ劣るため、部品とし
ての性能が低下するので、耐食性合金層が磁気回路を遮
る場合は、必要な強度が得られる最低の厚さとすること
が最も好ましい。
Crめっき層の厚さおよび改質処理後の耐食性合金層の
厚さは、耐食性合金層に穴があき、合金層本来の役目を
果たさなくなることのない厚みを有することが必要であ
る。一方、厚過ぎると合金層の強度は向上するが、合金
層自体の磁気特性が地金部分に比べ劣るため、部品とし
ての性能が低下するので、耐食性合金層が磁気回路を遮
る場合は、必要な強度が得られる最低の厚さとすること
が最も好ましい。
【0014】逆に耐食性合金層が磁気回路を遮らない場
合は、合金層の厚みが部品性能に影響しないので、特に
合金層を薄くする必要はない。従って、使用環境に応じ
た充分な厚みとすることが必要である。
合は、合金層の厚みが部品性能に影響しないので、特に
合金層を薄くする必要はない。従って、使用環境に応じ
た充分な厚みとすることが必要である。
【0015】これを図1の本発明を適用した電磁弁の断
面図によって説明すると、コイル10はヨーク12に外
側を取り巻かれており、ヨーク12の上端はコイル10
の上部に挿入されたストッパ14に接しており、ヨーク
12の下端はコイル10の下部に挿入されたシリンダ1
6に接しており、コイル10の中心でシリンダ16にシ
ャフトをガイドされた弁18がスプリング19によりス
トッパ14側へ付勢され、コイル10の通電による磁気
回路の発生により下方に作動する構造のものであるが、
ヨーク12、ストッパ14およびシリンダ16は電磁軟
鉄からなり、この3つの部品の外気にさらされる部分に
Crめっきが施され高エネルギービームによるCrめっ
き層の改質処理により耐食性合金層20が形成される。 この場合磁気回路はコイル10を取り囲む方向にできる
ので、耐食性合金層20は磁気回路を遮らない。
面図によって説明すると、コイル10はヨーク12に外
側を取り巻かれており、ヨーク12の上端はコイル10
の上部に挿入されたストッパ14に接しており、ヨーク
12の下端はコイル10の下部に挿入されたシリンダ1
6に接しており、コイル10の中心でシリンダ16にシ
ャフトをガイドされた弁18がスプリング19によりス
トッパ14側へ付勢され、コイル10の通電による磁気
回路の発生により下方に作動する構造のものであるが、
ヨーク12、ストッパ14およびシリンダ16は電磁軟
鉄からなり、この3つの部品の外気にさらされる部分に
Crめっきが施され高エネルギービームによるCrめっ
き層の改質処理により耐食性合金層20が形成される。 この場合磁気回路はコイル10を取り囲む方向にできる
ので、耐食性合金層20は磁気回路を遮らない。
【0016】また、図2は義歯アタッチメントの断面図
を示すが、歯根部に埋設される根面板30に対して垂直
な一対のヨーク22の間に希土類磁石の磁石体24を配
置し、かつ該磁石体24の下面に非磁性合金のスペーサ
26を配置し、ヨーク22とスペーサ26の根面板側を
除いてキャップ28で被冠したものであるが、本発明を
適用するには、ヨーク22に電磁軟鉄を用いるとともに
、ヨーク22の根面板30側の表面にCrめっきが施さ
れ高エネルギービームによるCrめっき層の改質処理に
より耐食性合金層20が形成される。この場合ヨーク2
2と根面板30との間で磁気回路が構成されるので、耐
食性合金層20は磁気回路を遮ることとなる。従って、
必要な耐食性を得られる最低限の厚さとして、合金層に
よる磁束の乱れを小さく抑えることが必要である。
を示すが、歯根部に埋設される根面板30に対して垂直
な一対のヨーク22の間に希土類磁石の磁石体24を配
置し、かつ該磁石体24の下面に非磁性合金のスペーサ
26を配置し、ヨーク22とスペーサ26の根面板側を
除いてキャップ28で被冠したものであるが、本発明を
適用するには、ヨーク22に電磁軟鉄を用いるとともに
、ヨーク22の根面板30側の表面にCrめっきが施さ
れ高エネルギービームによるCrめっき層の改質処理に
より耐食性合金層20が形成される。この場合ヨーク2
2と根面板30との間で磁気回路が構成されるので、耐
食性合金層20は磁気回路を遮ることとなる。従って、
必要な耐食性を得られる最低限の厚さとして、合金層に
よる磁束の乱れを小さく抑えることが必要である。
【0017】Crめっき層の表面改質処理に用いられる
高エネルギービームは、パルス型レーザまたは連続型レ
ーザ、電子ビームのいずれでも使用することができる。 パルスレーザとしては例えばルビー、ガラス、YAGレ
ーザ等がを用いられ、連続発光レーザとしては例えばC
O2 、エキシマレーザ等が用いられる。
高エネルギービームは、パルス型レーザまたは連続型レ
ーザ、電子ビームのいずれでも使用することができる。 パルスレーザとしては例えばルビー、ガラス、YAGレ
ーザ等がを用いられ、連続発光レーザとしては例えばC
O2 、エキシマレーザ等が用いられる。
【0018】Crめっき層の表面改質処理によって形成
される耐食性合金層のCr含有量は、Crめっき層の厚
さと改質深さによって決まってくる。両者を適切な値に
することによって、使用環境に応じた耐食性を確保する
ことができる。Cr含有量が増加すると耐食性は向上す
るが、飽和磁束密度が低下するので、必要以上にCrを
含有させないようCrめっき層の厚さ、改質処理深さを
決定する必要がある。
される耐食性合金層のCr含有量は、Crめっき層の厚
さと改質深さによって決まってくる。両者を適切な値に
することによって、使用環境に応じた耐食性を確保する
ことができる。Cr含有量が増加すると耐食性は向上す
るが、飽和磁束密度が低下するので、必要以上にCrを
含有させないようCrめっき層の厚さ、改質処理深さを
決定する必要がある。
【0019】
【作用】本発明の高耐食性高飽和磁束密度材料は、飽和
磁束密度が20000G以上の電磁軟鉄を用いたので、
強力な磁気回路が構成され、より小さな部品で必要とす
る磁束がえられるので、メカトロニクス製品を小型軽量
化することができる。
磁束密度が20000G以上の電磁軟鉄を用いたので、
強力な磁気回路が構成され、より小さな部品で必要とす
る磁束がえられるので、メカトロニクス製品を小型軽量
化することができる。
【0020】また、部品の腐食環境に曝される部位にC
rめっきを施した後高エネルギービームによるCrめっ
き層の改質処理を施すことにより、めっき層と地金表面
とを合金化したので、耐食性に優れたFe−Cr合金層
が形成され、Crめっき層の密着性が向上し、13Cr
ステンレス鋼以上の優れた耐食性を確保することができ
る。また、ごく表面のみの改質なので、非常に高い飽和
磁束密度を保持することができる。さらに合金化により
、Crめっき層の磁気特性が改善されたので、単に表面
をめっきしただけのものと比較して、優れた飽和磁束密
度が得られ、メカトロニクス製品の高性能化、小型軽量
化が可能となる。
rめっきを施した後高エネルギービームによるCrめっ
き層の改質処理を施すことにより、めっき層と地金表面
とを合金化したので、耐食性に優れたFe−Cr合金層
が形成され、Crめっき層の密着性が向上し、13Cr
ステンレス鋼以上の優れた耐食性を確保することができ
る。また、ごく表面のみの改質なので、非常に高い飽和
磁束密度を保持することができる。さらに合金化により
、Crめっき層の磁気特性が改善されたので、単に表面
をめっきしただけのものと比較して、優れた飽和磁束密
度が得られ、メカトロニクス製品の高性能化、小型軽量
化が可能となる。
【0021】
【実施例】(実施例1)表1に示す化学成分を有する発
明例および比較例の軟磁性材料を溶製し、試験片を調製
した後、耐食性および飽和磁束密度を測定した。耐食性
はJISZ2371の塩水噴霧試験法に準拠して実施し
た。また、磁束密度は外部磁場15kOeにおいて、5
mmφ×1mmの試験片について、振動型磁化測定器に
て測定した。得られた結果は表1に併せて示した。なお
、耐食性の評価は5段階で、5:発錆しなかったもの、
4:0〜5%が発錆したもの、3:5〜25%が発錆し
たもの、2:25〜50%が発錆したもの、1:50%
以上が発錆したものであって、5がSUS316相当、
4がSUS304相当、3が13Crステンレス鋼相当
の耐食性を示すものである。
明例および比較例の軟磁性材料を溶製し、試験片を調製
した後、耐食性および飽和磁束密度を測定した。耐食性
はJISZ2371の塩水噴霧試験法に準拠して実施し
た。また、磁束密度は外部磁場15kOeにおいて、5
mmφ×1mmの試験片について、振動型磁化測定器に
て測定した。得られた結果は表1に併せて示した。なお
、耐食性の評価は5段階で、5:発錆しなかったもの、
4:0〜5%が発錆したもの、3:5〜25%が発錆し
たもの、2:25〜50%が発錆したもの、1:50%
以上が発錆したものであって、5がSUS316相当、
4がSUS304相当、3が13Crステンレス鋼相当
の耐食性を示すものである。
【0022】
【表1】
【0023】表1に示したように、本発明例である合金
No.1および2は電磁軟鉄であって、飽和磁束密度は
20600〜21600Gと磁気特性に優れているもの
の、耐食性の評価は1であって、耐食性が極端に劣る。
No.1および2は電磁軟鉄であって、飽和磁束密度は
20600〜21600Gと磁気特性に優れているもの
の、耐食性の評価は1であって、耐食性が極端に劣る。
【0024】比較例である合金No.3はSUS316
相当のオーステナイト系ステンレスであって、耐食性は
5で優れているが飽和磁束密度は0である。合金No.
4は13Crステンレス鋼であって、あまり厳しくない
腐食環境であれば充分な耐食性を有しているが、飽和磁
束密度が18000Gと電磁軟鉄に比べ劣っている。比
較例の合金No.5は19Cr−2Mo鋼であって、耐
食性が4であってやや厳しい腐食環境で充分な耐食性を
有しているものの、飽和磁束密度が16000GとNo
.4の合金に比べさらに低下している。比較例合金No
.6は純鉄に飽和磁束密度が20000Gに保持できる
限度までCrを添加したものであるが、耐食性の評価は
1であり、Cr含有による耐食性の改善効果が殆ど現れ
ていない。比較合金No.7は純鉄の耐食性がSUS3
16相当になるまでCrを添加して得られた合金である
が、飽和磁束密度が16800Gまでに低下している。
相当のオーステナイト系ステンレスであって、耐食性は
5で優れているが飽和磁束密度は0である。合金No.
4は13Crステンレス鋼であって、あまり厳しくない
腐食環境であれば充分な耐食性を有しているが、飽和磁
束密度が18000Gと電磁軟鉄に比べ劣っている。比
較例の合金No.5は19Cr−2Mo鋼であって、耐
食性が4であってやや厳しい腐食環境で充分な耐食性を
有しているものの、飽和磁束密度が16000GとNo
.4の合金に比べさらに低下している。比較例合金No
.6は純鉄に飽和磁束密度が20000Gに保持できる
限度までCrを添加したものであるが、耐食性の評価は
1であり、Cr含有による耐食性の改善効果が殆ど現れ
ていない。比較合金No.7は純鉄の耐食性がSUS3
16相当になるまでCrを添加して得られた合金である
が、飽和磁束密度が16800Gまでに低下している。
【0025】(実施例2)実施例1で調製した発明例の
No.1〜2合金の表面に表2に示す厚さのCrめっき
を施した後高エネルギービームによる改質処理を施して
表2に示す厚さの耐食性合金層を形成した。なお、高エ
ネルギービームとして、YAGレーザを用い、レーザを
1本もしくは2本から10本に分岐し、電圧、パルス幅
、パルス回数、試料の送り速度、デフォーカス、シール
ドガス量を最適化した上で処理した。耐食性合金層の化
学成分を分析したところ、表2に示すような結果を得た
。
No.1〜2合金の表面に表2に示す厚さのCrめっき
を施した後高エネルギービームによる改質処理を施して
表2に示す厚さの耐食性合金層を形成した。なお、高エ
ネルギービームとして、YAGレーザを用い、レーザを
1本もしくは2本から10本に分岐し、電圧、パルス幅
、パルス回数、試料の送り速度、デフォーカス、シール
ドガス量を最適化した上で処理した。耐食性合金層の化
学成分を分析したところ、表2に示すような結果を得た
。
【0026】なお、比較例1としてNo.1合金に21
μmのCrめっきを施しただけのもの、および比較例2
としてNo.1合金にPVDにて34μmのCr層を被
覆したものを調製した。
μmのCrめっきを施しただけのもの、および比較例2
としてNo.1合金にPVDにて34μmのCr層を被
覆したものを調製した。
【0027】次いで、発明例の耐食性合金層および比較
例のCr層の耐食性、飽和磁束密度および密着性につい
て測定した。耐食性および飽和磁束密度の測定は実施例
1と同じ方法により行った。また、密着性は、耐食性合
金層の表面にNiめっきを施し、Cu−Ni製のリード
ピンをNiめっきを介して半田溶接し、引張試験機にて
耐食性合金層の破断強度を求めることにより評価した。 得られた結果は表2に併せて示した。
例のCr層の耐食性、飽和磁束密度および密着性につい
て測定した。耐食性および飽和磁束密度の測定は実施例
1と同じ方法により行った。また、密着性は、耐食性合
金層の表面にNiめっきを施し、Cu−Ni製のリード
ピンをNiめっきを介して半田溶接し、引張試験機にて
耐食性合金層の破断強度を求めることにより評価した。 得られた結果は表2に併せて示した。
【0028】
【表2】
【0029】表2から明らかなように、比較例1および
2の耐食性の評価は5であって、非常に優れていたが、
飽和磁束密度は0と極端に劣り、密着強度は3.3kg
fおよび2.5kgfでそれぞれ破断した。
2の耐食性の評価は5であって、非常に優れていたが、
飽和磁束密度は0と極端に劣り、密着強度は3.3kg
fおよび2.5kgfでそれぞれ破断した。
【0030】これに対して、本発明例は耐食性の評価は
3〜5であって、特に評価5が半数以上を占め、Crめ
っき層の改質処理条件の最適化によりSUS316相当
の優れた耐食性を得ることが可能なことが確認された。 飽和磁束密度については、13400〜18600Gで
あって、Crめっき層の0Gに比べ遙に優れた磁気特性
の得られていることが判明した。密着性については、い
ずれも5kgf(5kgfで半田が破壊する)以上であ
って、すぐれた密着強度が得られていることが確認され
た。
3〜5であって、特に評価5が半数以上を占め、Crめ
っき層の改質処理条件の最適化によりSUS316相当
の優れた耐食性を得ることが可能なことが確認された。 飽和磁束密度については、13400〜18600Gで
あって、Crめっき層の0Gに比べ遙に優れた磁気特性
の得られていることが判明した。密着性については、い
ずれも5kgf(5kgfで半田が破壊する)以上であ
って、すぐれた密着強度が得られていることが確認され
た。
【0031】(実施例3)義歯アタッチメント等の高い
吸引力を必要とする製品に本発明を適用した場合の効果
を確認するため、図4に示すようにSm2 Co17系
の希土類磁石24に、表1のNo.1合金32にCrめ
っきを施し、30μmの耐食性合金層20を形成させた
ものを近づけて、ギャップと吸引力の関係を測定した。 また、比較のために同じNo.1合金用いCrめっきだ
けを施した比較例3、および表1のNo.5合金を用い
た比較例4を調製し、同様の測定を行い、図3に示した
ような結果を得た。
吸引力を必要とする製品に本発明を適用した場合の効果
を確認するため、図4に示すようにSm2 Co17系
の希土類磁石24に、表1のNo.1合金32にCrめ
っきを施し、30μmの耐食性合金層20を形成させた
ものを近づけて、ギャップと吸引力の関係を測定した。 また、比較のために同じNo.1合金用いCrめっきだ
けを施した比較例3、および表1のNo.5合金を用い
た比較例4を調製し、同様の測定を行い、図3に示した
ような結果を得た。
【0032】図3に示したように、軟磁性ステンレス鋼
からなる比較例4は吸引力が最も劣った。また、比較例
3は本発明例よりも吸引力が劣っており、本発明によれ
ばヨークの表面に単にCrめっきを施しただけのものに
比べ、Crめっき層の改質処理により表面の耐食合金層
の磁気特性を改善した結果、より高い吸引力の得られる
ことが確認された。
からなる比較例4は吸引力が最も劣った。また、比較例
3は本発明例よりも吸引力が劣っており、本発明によれ
ばヨークの表面に単にCrめっきを施しただけのものに
比べ、Crめっき層の改質処理により表面の耐食合金層
の磁気特性を改善した結果、より高い吸引力の得られる
ことが確認された。
【0033】
【発明の効果】本発明の高耐食性高飽和磁束密度材料は
、飽和磁束密度が20000G以上の電磁軟鉄を用いた
ので、強力な磁気回路が構成され、吸引力等において高
い出力を発生することができ、部品を小型軽量化するこ
とができる。また、部品の腐食環境に曝される部位にC
rめっきを施した後高エネルギービームによるめっき層
の改質処理を施すことにより、めっき層と地金表面とを
合金化したので、Crめっき層の密着性が向上し、13
Crステンレス鋼相当以上の耐食性を確保することがで
き、さらに合金化により、Crめっき層の磁気特性が改
善されたので、単に表面をめっきしただけのものと比較
して、小型の部品で同等の性能を有することが可能にな
った。
、飽和磁束密度が20000G以上の電磁軟鉄を用いた
ので、強力な磁気回路が構成され、吸引力等において高
い出力を発生することができ、部品を小型軽量化するこ
とができる。また、部品の腐食環境に曝される部位にC
rめっきを施した後高エネルギービームによるめっき層
の改質処理を施すことにより、めっき層と地金表面とを
合金化したので、Crめっき層の密着性が向上し、13
Crステンレス鋼相当以上の耐食性を確保することがで
き、さらに合金化により、Crめっき層の磁気特性が改
善されたので、単に表面をめっきしただけのものと比較
して、小型の部品で同等の性能を有することが可能にな
った。
【図1】本発明を適用した電磁弁の断面図である。
【図2】本発明を適用した義歯アタッチメントの断面図
である。
である。
【図3】本発明例および比較例のギャップと吸引力との
関係を示す線図である。
関係を示す線図である。
【図4】実施例で用いた磁気吸引力の試験片の断面図で
ある。
ある。
10 コイル
12 ヨーク
14 ストッパ
16 シリンダ
18 弁
20 耐食性合金層
22 ヨーク
24 磁石体
26 スペーサ
28 キャップ
30 根面板
Claims (1)
- 【請求項1】 電磁軟鉄からなる部品の腐食環境に曝
される部位にCrめっきを施した後高エネルギービーム
によりCrめっき層の改質処理を施すことにより重量比
でCr40%以下を含有するFe−Cr合金からなる耐
食性合金層を表面に形成したことを特徴とする高耐食性
高飽和磁束密度材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2418476A JPH04235289A (ja) | 1990-12-29 | 1990-12-29 | 高耐食性高飽和磁束密度材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2418476A JPH04235289A (ja) | 1990-12-29 | 1990-12-29 | 高耐食性高飽和磁束密度材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04235289A true JPH04235289A (ja) | 1992-08-24 |
Family
ID=18526312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2418476A Pending JPH04235289A (ja) | 1990-12-29 | 1990-12-29 | 高耐食性高飽和磁束密度材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04235289A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2777912A1 (fr) * | 1998-04-23 | 1999-10-29 | Imphy Sa | Piece en alliage magnetique doux comportant au moins une zone amagnetique et procede de fabrication |
US6222286B1 (en) * | 1994-08-01 | 2001-04-24 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Stepping motor with rust inhibiting and eddy current minimizing characteristics |
-
1990
- 1990-12-29 JP JP2418476A patent/JPH04235289A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6222286B1 (en) * | 1994-08-01 | 2001-04-24 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Stepping motor with rust inhibiting and eddy current minimizing characteristics |
FR2777912A1 (fr) * | 1998-04-23 | 1999-10-29 | Imphy Sa | Piece en alliage magnetique doux comportant au moins une zone amagnetique et procede de fabrication |
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