JPH04232846A - 高分子湿度センサ及びその製造方法 - Google Patents
高分子湿度センサ及びその製造方法Info
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- JPH04232846A JPH04232846A JP3192787A JP19278791A JPH04232846A JP H04232846 A JPH04232846 A JP H04232846A JP 3192787 A JP3192787 A JP 3192787A JP 19278791 A JP19278791 A JP 19278791A JP H04232846 A JPH04232846 A JP H04232846A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
-
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導電性高分子であるポ
リピロ−ルを電気化学的に重合した後、還元し、イオン
伝導特性を付与することで湿度感応性を向上させた高分
子湿度センサ及びその製造方法に関する。
リピロ−ルを電気化学的に重合した後、還元し、イオン
伝導特性を付与することで湿度感応性を向上させた高分
子湿度センサ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】共役構造を有する高分子は、ド−ピング
により電気伝導性を示すが、このような高分子としては
、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリン
、ポリアセン、ポリピロ−ル、ポリチオフェン、ポリフ
ラン等が知られている。
により電気伝導性を示すが、このような高分子としては
、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリアニリン
、ポリアセン、ポリピロ−ル、ポリチオフェン、ポリフ
ラン等が知られている。
【０００３】これらの導電性高分子は、例えば、ｐＨセ
ンサ、圧力センサ、硫酸濃度センサ、酸素センサ、バイ
オセンサ、ブドウ糖センサ等に使用されており、またア
ルコ−ルセンサ、ガスセンサ、湿度センサ等に使用され
た例がある。中でも、湿度センサには、ポリフラン、ポ
リチオフェン、ポリピロ−ル及びその誘導体の複素環化
合物が用いられている（特開昭６３−１３３０５０号公
報、特開昭６３−１２２７５８号公報及び特開昭６０−
２０１２４４号公報）。
ンサ、圧力センサ、硫酸濃度センサ、酸素センサ、バイ
オセンサ、ブドウ糖センサ等に使用されており、またア
ルコ−ルセンサ、ガスセンサ、湿度センサ等に使用され
た例がある。中でも、湿度センサには、ポリフラン、ポ
リチオフェン、ポリピロ−ル及びその誘導体の複素環化
合物が用いられている（特開昭６３−１３３０５０号公
報、特開昭６３−１２２７５８号公報及び特開昭６０−
２０１２４４号公報）。
【０００４】しかしながら、これらの湿度センサに用い
られている電極は、ガラスにインジウムスズオキシドを
コ−ティングしただけの単純な構造であり、また高分子
にイオン伝導特性を向上させるための還元処理を別途に
行っていないので、感湿速度及び湿度測定領域が不十分
であり、センサ構造を精密化し、またイオン伝導特性を
向上させるために、後処理が必要になるという欠点があ
った。
られている電極は、ガラスにインジウムスズオキシドを
コ−ティングしただけの単純な構造であり、また高分子
にイオン伝導特性を向上させるための還元処理を別途に
行っていないので、感湿速度及び湿度測定領域が不十分
であり、センサ構造を精密化し、またイオン伝導特性を
向上させるために、後処理が必要になるという欠点があ
った。
【０００５】また、前述のポリフラン、ポリチオフェン
、ポリピロ−ル等は、電気化学的に重合すると同時にド
−ピングが起って電気伝導性を帯びるようになるので、
その電気伝導メカニズムは、電子伝導とイオン伝導が複
合的に作用するものであるが、高分子内で起るイオン伝
導は、電子伝導に比べて微弱なので、大部分が電子伝導
に起因する。
、ポリピロ−ル等は、電気化学的に重合すると同時にド
−ピングが起って電気伝導性を帯びるようになるので、
その電気伝導メカニズムは、電子伝導とイオン伝導が複
合的に作用するものであるが、高分子内で起るイオン伝
導は、電子伝導に比べて微弱なので、大部分が電子伝導
に起因する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
ような従来の湿度センサの欠点を解消するためになされ
たものであって、湿度感応性と感湿速度が優れた高分子
湿度センサ及びその高分子湿度センサを電気化学的に製
造する方法を提供することにある。
ような従来の湿度センサの欠点を解消するためになされ
たものであって、湿度感応性と感湿速度が優れた高分子
湿度センサ及びその高分子湿度センサを電気化学的に製
造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、微細電
極面にドデシル硫酸陰イオンをド−ピングしたポリピロ
−ルを被着し、次いで該ポリピロ−ルに陽イオンを浸透
させて塩を形成させたことを特徴とする高分子湿度セン
サであって、湿度感応性が１０４ 〜１０６ Ωの領域
で現われ、感湿速度が１０秒〜５分である高分子湿度セ
ンサである。
極面にドデシル硫酸陰イオンをド−ピングしたポリピロ
−ルを被着し、次いで該ポリピロ−ルに陽イオンを浸透
させて塩を形成させたことを特徴とする高分子湿度セン
サであって、湿度感応性が１０４ 〜１０６ Ωの領域
で現われ、感湿速度が１０秒〜５分である高分子湿度セ
ンサである。
【０００８】本発明の第二は、ドデシル硫酸陰イオンを
含有した溶液に単量体ピロ−ルを混合した溶液を重合用
電解液として用い、センサ構造を有する微細電極を陽極
に、白金板を陰極に設置し、直流電源を印加しながら単
量体ピロ−ルを重合させ、該陽極にドデシル硫酸陰イオ
ンをド−ピングしたフィルム状のポリピロ−ルを形成さ
せ、次いで電解液として陽イオンを含有する溶液を用い
、該陽極及び陰極にそれぞれ反対極性の直流電源を印加
しながら還元し、該ポリピロ−ルにドデシル硫酸陰イオ
ンを抑留させるとともに、該陽イオンを該ポリピロ−ル
に浸透させて塩を形成させてイオン伝導性を付与するこ
とを特徴とする高分子湿度センサの製造方法である。
含有した溶液に単量体ピロ−ルを混合した溶液を重合用
電解液として用い、センサ構造を有する微細電極を陽極
に、白金板を陰極に設置し、直流電源を印加しながら単
量体ピロ−ルを重合させ、該陽極にドデシル硫酸陰イオ
ンをド−ピングしたフィルム状のポリピロ−ルを形成さ
せ、次いで電解液として陽イオンを含有する溶液を用い
、該陽極及び陰極にそれぞれ反対極性の直流電源を印加
しながら還元し、該ポリピロ−ルにドデシル硫酸陰イオ
ンを抑留させるとともに、該陽イオンを該ポリピロ−ル
に浸透させて塩を形成させてイオン伝導性を付与するこ
とを特徴とする高分子湿度センサの製造方法である。
【０００９】以下、本発明を図１〜５により詳細に説明
する。本発明の高分子湿度センサは、例えば、次のよう
な電気化学的重合法で製造することができる。
する。本発明の高分子湿度センサは、例えば、次のよう
な電気化学的重合法で製造することができる。
【００１０】本発明に用いる電気重合反応槽としては、
例えば、図２に示すように、直流電源１、作用電極２及
び対極（白金）３を備えた反応槽を挙げることができる
。作業電極には、微細電極２を用いる。
例えば、図２に示すように、直流電源１、作用電極２及
び対極（白金）３を備えた反応槽を挙げることができる
。作業電極には、微細電極２を用いる。
【００１１】本発明に用いる微細電極２としては、例え
ば、次のようなフォトリトグラフィ−法で作製したもの
を用いることができる。
ば、次のようなフォトリトグラフィ−法で作製したもの
を用いることができる。
【００１２】まず、ガラス又はアルミナ基板上にタング
ステン被膜をスパッタリング法で形成し、その上にニッ
ケルを熱蒸着する。この際、基板の選定並びにタングス
テン及びニッケルのコ−ティングは、センサ電極の耐久
性に関連する。
ステン被膜をスパッタリング法で形成し、その上にニッ
ケルを熱蒸着する。この際、基板の選定並びにタングス
テン及びニッケルのコ−ティングは、センサ電極の耐久
性に関連する。
【００１３】さらに、その上に感光性高分子（ポジフォ
トレジスト）をコ−ティングした後、図４に示すような
電極構造のフォトマスクを介して赤外線を照射し、像を
形成する。
トレジスト）をコ−ティングした後、図４に示すような
電極構造のフォトマスクを介して赤外線を照射し、像を
形成する。
【００１４】次に、フォトマスクの構造に対応して蝕刻
した部分に金メッキした後、前記感光性高分子、ニッケ
ル及びタングステンを順次に蝕刻して微細電極を作製す
る。
した部分に金メッキした後、前記感光性高分子、ニッケ
ル及びタングステンを順次に蝕刻して微細電極を作製す
る。
【００１５】このようにして作製した微細電極の構造は
、図３に示すように、くしの歯状の部分電極２個（長幅
電極と短幅電極）が互いに組み合わさって配列した形態
になる。
、図３に示すように、くしの歯状の部分電極２個（長幅
電極と短幅電極）が互いに組み合わさって配列した形態
になる。
【００１６】電極構造は、高分子センサの抵抗を測定領
域に近くし、正電容量を大きくして湿度感応性を極大化
するために、可能な限り微細な間隔と配列をもつように
設計するのが好ましく、各部分電極の幅は、約１６μｍ
が好ましく、部分電極の間隔は、約５μｍ が好まし
い。
域に近くし、正電容量を大きくして湿度感応性を極大化
するために、可能な限り微細な間隔と配列をもつように
設計するのが好ましく、各部分電極の幅は、約１６μｍ
が好ましく、部分電極の間隔は、約５μｍ が好まし
い。
【００１７】電解液４としては、重合時には単量体ピロ
−ルを含有するドデシル硫酸テトラアンモニウム／アセ
トニトリル系又はドデシル硫酸ナトリウム／水系のもの
を用いることができ、還元時には、Ｎａ＋ 及びＫ＋等
の小さい陽イオンを含有する水溶液系、例えば、過塩素
酸カリウム水溶液、過塩素酸ナトリウム水溶液等を用い
ることができる。
−ルを含有するドデシル硫酸テトラアンモニウム／アセ
トニトリル系又はドデシル硫酸ナトリウム／水系のもの
を用いることができ、還元時には、Ｎａ＋ 及びＫ＋等
の小さい陽イオンを含有する水溶液系、例えば、過塩素
酸カリウム水溶液、過塩素酸ナトリウム水溶液等を用い
ることができる。
【００１８】本発明に用いるポリピロ−ルは、電気化学
的に重合可能な複素環高分子の中でも、水溶液又はアセ
トニトリル等の有機溶媒中でフィルム状に形成させるこ
とにより、比電導度は１００Ｓ／ｃｍを上回る。また、
ポリピロ−ルは、化学的安定性、熱的安定性及び大気安
定性が優れ、ピロ−ルの誘導体、共重合体又は陰イオン
ドパントの種類により、電気化学的特性及び物理的特性
が異なる。
的に重合可能な複素環高分子の中でも、水溶液又はアセ
トニトリル等の有機溶媒中でフィルム状に形成させるこ
とにより、比電導度は１００Ｓ／ｃｍを上回る。また、
ポリピロ−ルは、化学的安定性、熱的安定性及び大気安
定性が優れ、ピロ−ルの誘導体、共重合体又は陰イオン
ドパントの種類により、電気化学的特性及び物理的特性
が異なる。
【００１９】本発明では、単量体ピロ−ル溶液（Ａｌｄ
ｒｉｃｈ９０％）に無水塩化カルシウムを加えて一次乾
燥した後、さらに塩化カルシウムを加え、減圧蒸留して
精製した単量体ピロ−ルを重合させた。ピロ−ルは、重
合しながらラジカル中間体を形成するが、このラジカル
中間体は、電解質及び溶媒の親核性の程度に従って影響
を受けるようになるのでこれの選定には留意した。
ｒｉｃｈ９０％）に無水塩化カルシウムを加えて一次乾
燥した後、さらに塩化カルシウムを加え、減圧蒸留して
精製した単量体ピロ−ルを重合させた。ピロ−ルは、重
合しながらラジカル中間体を形成するが、このラジカル
中間体は、電解質及び溶媒の親核性の程度に従って影響
を受けるようになるのでこれの選定には留意した。
【００２０】本発明では、まず、ドデシル硫酸ナトリウ
ム水溶液、又はアセトニトリル等の非陽子性溶媒にドデ
シル硫酸テトラアンモニウムを溶解した電解液を用い、
図２に示す電気重合反応槽でピロ−ルを電気化学的に重
合させる。このようにピロ−ルを重合させるとドデシル
硫酸イオンがド−ピングされて電気伝導性を帯びるよう
になる。前記ドデシル硫酸テトラアンモニウムは、本発
明者らが合成したもの（大韓民国特許出願番号第１８８
８９号参照）を用いた。
ム水溶液、又はアセトニトリル等の非陽子性溶媒にドデ
シル硫酸テトラアンモニウムを溶解した電解液を用い、
図２に示す電気重合反応槽でピロ−ルを電気化学的に重
合させる。このようにピロ−ルを重合させるとドデシル
硫酸イオンがド−ピングされて電気伝導性を帯びるよう
になる。前記ドデシル硫酸テトラアンモニウムは、本発
明者らが合成したもの（大韓民国特許出願番号第１８８
８９号参照）を用いた。
【００２１】本発明は、前記微細電極２を図２に示すよ
うな電気重合反応槽の陽極に設置し、微細電極２の間隙
にポリピロ−ルの橋を形成した後、重合を止める。微細
電極２に被着するポリピロ−ルの厚さは、電流量（１〜
５ｍＡ）又は重合時間（５〜１５秒）を調整して調節す
ることができる。
うな電気重合反応槽の陽極に設置し、微細電極２の間隙
にポリピロ−ルの橋を形成した後、重合を止める。微細
電極２に被着するポリピロ−ルの厚さは、電流量（１〜
５ｍＡ）又は重合時間（５〜１５秒）を調整して調節す
ることができる。
【００２２】このようにしてポリピロ−ルを重合させた
微細電極は、図１に示すように、斜線で示す電極の表面
６（重合前の電極を示す図３において、黒く見える金電
極５の表面に対応する）及びその周囲に、黒色で示され
るポリピロ−ル７を成長させたものである。
微細電極は、図１に示すように、斜線で示す電極の表面
６（重合前の電極を示す図３において、黒く見える金電
極５の表面に対応する）及びその周囲に、黒色で示され
るポリピロ−ル７を成長させたものである。
【００２３】次に、電解液を小さい陽イオンを含有する
水溶液に代えて還元し、ポリピロ−ルに陽イオンを浸透
させる。
水溶液に代えて還元し、ポリピロ−ルに陽イオンを浸透
させる。
【００２４】このときの電圧（−０．５〜−１．０Ｖ）
及び還元時間（３〜１０分）を調節して、フィルムの還
元程度、すなわちイオン伝導特性を付与することができ
る。
及び還元時間（３〜１０分）を調節して、フィルムの還
元程度、すなわちイオン伝導特性を付与することができ
る。
【００２５】また、前述のようにピロ−ルを重合して微
細電極にポリピロ−ルをフィルム状に形成させた後、例
えば、ドデシル硫酸ナトリウム／水系のような水溶液系
で、重合時と反対の極性の電圧（−２．５Ｖ）で長時間
（２４時間）還元しても、大きなドデシル硫酸イオンは
、フィルムの外に抜け出られなく、代りに相対的に小さ
い陽イオンがフィルムの中に入るので、漸次、電気的中
性になる。
細電極にポリピロ−ルをフィルム状に形成させた後、例
えば、ドデシル硫酸ナトリウム／水系のような水溶液系
で、重合時と反対の極性の電圧（−２．５Ｖ）で長時間
（２４時間）還元しても、大きなドデシル硫酸イオンは
、フィルムの外に抜け出られなく、代りに相対的に小さ
い陽イオンがフィルムの中に入るので、漸次、電気的中
性になる。
【００２６】電気的中性か否かの確認は、ＥＤＳ／ＥＰ
ＭＡ（Ｅｎｅｒｇｙ ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒ
ａｙｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ／ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｐ
ｒｏｂｅ ｍｉｃｒｏａｎａｌｙｓｏｒ）を用いた。フ
ィルムが非常に薄くなれば完全に電気的中性にするのが
困難であり、このときポリピロ−ルの伝導メカニズムは
、電子伝導だけでなく、イオン伝導にも起因する。
ＭＡ（Ｅｎｅｒｇｙ ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒ
ａｙｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ／ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｐ
ｒｏｂｅ ｍｉｃｒｏａｎａｌｙｓｏｒ）を用いた。フ
ィルムが非常に薄くなれば完全に電気的中性にするのが
困難であり、このときポリピロ−ルの伝導メカニズムは
、電子伝導だけでなく、イオン伝導にも起因する。
【００２７】このようにして製造した高分子センサは、
湿度感応性が１０４ 〜１０６ Ωの領域で現われ、感
湿速度が５秒〜１０分である。
湿度感応性が１０４ 〜１０６ Ωの領域で現われ、感
湿速度が５秒〜１０分である。
【００２８】
【実施例】（実施例１）以下、本発明の実施例では、全
て、図２に示す単一の電気重合反応槽（容量４０ｃｃ）
を用いた。
て、図２に示す単一の電気重合反応槽（容量４０ｃｃ）
を用いた。
【００２９】陽極には、図４に示すフォトマスクを用い
たフォトリトグラフィ−法で作製した、図３に示す微細
電極２を、陰極には、白金電極（３×６ｃｍ）を用い、
陽極と陰極は、並行に１．５ｃｍ隔てて配置した。本実
施例に用いた微細電極２の長幅電極と短幅電極との間隔
は、約５μｍ であった。
たフォトリトグラフィ−法で作製した、図３に示す微細
電極２を、陰極には、白金電極（３×６ｃｍ）を用い、
陽極と陰極は、並行に１．５ｃｍ隔てて配置した。本実
施例に用いた微細電極２の長幅電極と短幅電極との間隔
は、約５μｍ であった。
【００３０】電解質としてドデシル硫酸テトラアンモニ
ウムを用い、これを精製したアセトニトリル４０ｃｃに
溶解して０．０３６ｍｏｌ／ｌ の溶液を調製し、これ
にピロ−ルを混合して重合用の電解液４を調製した。
ウムを用い、これを精製したアセトニトリル４０ｃｃに
溶解して０．０３６ｍｏｌ／ｌ の溶液を調製し、これ
にピロ−ルを混合して重合用の電解液４を調製した。
【００３１】前記ピロ−ルは、塩化カルシウムを加えた
後、一次乾燥し、次いで水素化カルシウムで２次乾燥し
、減圧蒸留（２２〜２５℃）したものを用いた。
後、一次乾燥し、次いで水素化カルシウムで２次乾燥し
、減圧蒸留（２２〜２５℃）したものを用いた。
【００３２】重合時に用いた電解液中のピロ−ルの濃度
は、０．０３６ｍｏｌ／ｌ であった。重合は、２０〜
２５℃で電流３ｍＡを流しながら１０秒間行い、図１に
示すようにポリピロ−ルを微細電極上に形成した。
は、０．０３６ｍｏｌ／ｌ であった。重合は、２０〜
２５℃で電流３ｍＡを流しながら１０秒間行い、図１に
示すようにポリピロ−ルを微細電極上に形成した。
【００３３】次に、図２の電解槽で電解液４として過塩
素酸カリウム水溶液を用い、微細電極２に形成したポリ
ピロ−ルを、電圧−０．７５Ｖ で５分間還元し、電子
伝導性を低下させ、イオン伝導特性を相対的に増加させ
た。
素酸カリウム水溶液を用い、微細電極２に形成したポリ
ピロ−ルを、電圧−０．７５Ｖ で５分間還元し、電子
伝導性を低下させ、イオン伝導特性を相対的に増加させ
た。
【００３４】このようにして作製した高分子湿度センサ
を用い、相対湿度（ＲＨ％）に対する抵抗変化を測定し
た（２５℃）。相対湿度１００％は、蒸留水を用い、０
％は、Ｐ２ Ｏ５ 粉末を用いて維持した。また、相対
湿度２０％は塩化カルシウムの飽和水溶液で、５８％は
硝酸マグネシウム飽和水溶液で、７５％は塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で維持した。結果を図５に示す。
を用い、相対湿度（ＲＨ％）に対する抵抗変化を測定し
た（２５℃）。相対湿度１００％は、蒸留水を用い、０
％は、Ｐ２ Ｏ５ 粉末を用いて維持した。また、相対
湿度２０％は塩化カルシウムの飽和水溶液で、５８％は
硝酸マグネシウム飽和水溶液で、７５％は塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で維持した。結果を図５に示す。
【００３５】（実施例２）還元用の電解液に用いた過塩
素酸カリウム水溶液に代えて過塩素酸ナトリウム水溶液
を用いたほかは、実施例１と同様にして高分子湿度セン
サを作製した。
素酸カリウム水溶液に代えて過塩素酸ナトリウム水溶液
を用いたほかは、実施例１と同様にして高分子湿度セン
サを作製した。
【００３６】（実施例３）重合用電解液に用いたドデシ
ル硫酸テトラアンモニウムのアセトニトリル溶液に代え
て、ドデシル硫酸ナトリウム水溶液を用いたほかは、実
施例１と同様にして高分子湿度センサを作製した。
ル硫酸テトラアンモニウムのアセトニトリル溶液に代え
て、ドデシル硫酸ナトリウム水溶液を用いたほかは、実
施例１と同様にして高分子湿度センサを作製した。
【００３７】（実施例４）重合用電解液に用いたドデシ
ル硫酸テトラアンモニウムのアセトニトリル溶液に代え
て、ドデシル硫酸ナトリウム水溶液を用いたほかは、実
施例２と同様にして高分子湿度センサを作製した。
ル硫酸テトラアンモニウムのアセトニトリル溶液に代え
て、ドデシル硫酸ナトリウム水溶液を用いたほかは、実
施例２と同様にして高分子湿度センサを作製した。
【００３８】
【発明の効果】本発明の高分子湿度センサは、湿度感応
性と感湿速度が優れており、湿度感応性が１０４ 〜１
０６ Ωの領域で現われ、感湿速度が数十秒〜数分であ
る。
性と感湿速度が優れており、湿度感応性が１０４ 〜１
０６ Ωの領域で現われ、感湿速度が数十秒〜数分であ
る。
【図１】ポリピロ−ルを形成した後の微細電極構成図
【
図２】ピロ−ル電気重合反応槽の概略図
図２】ピロ−ル電気重合反応槽の概略図
【図３】ポリピ
ロ−ルを形成する前の微細電極構成図
ロ−ルを形成する前の微細電極構成図
【図４】フォトリ
トグラフィ−に用いるフォトマスクの拡大図
トグラフィ−に用いるフォトマスクの拡大図
【図５】ポリピロ−ル湿度センサの湿度感応性を示すグ
ラフ
ラフ
１・・・直流電源
２・・・微細電極
３・・・対極
４・・・電解液
５・・・金電極
Claims (6)
- 【請求項１】 微細電極面にドデシル硫酸陰イオンを
ド−ピングしたポリピロ−ルを被着し、次いで該ポリピ
ロ−ルに陽イオンを浸透させて塩を形成させたことを特
徴とする高分子湿度センサ。 - 【請求項２】 ドデシル硫酸陰イオンを含有する溶液
に単量体ピロ−ルを混合した溶液を重合用電解液として
用い、センサ構造を有する微細電極を陽極に、白金板を
陰極に設置し、直流電源を印加しながら単量体ピロ−ル
を重合させ、該微細電極にドデシル硫酸陰イオンをド−
ピングしたフィルム状のポリピロ−ルを形成させ、次い
で電解液として陽イオンを含有する溶液を用い、該陽極
及び陰極にそれぞれ反対極性の直流電源を印加しながら
還元し、該ポリピロ−ルにドデシル硫酸陰イオンを抑留
させるとともに、該陽イオンを該ポリピロ−ルに浸透さ
せて塩を形成させることを特徴とする高分子湿度センサ
の製造方法。 - 【請求項３】 重合用電解液がアセトニトリルにドデ
シル硫酸テトラブチルアンモニウムを混合した電解液で
ある請求項２記載の製造方法。 - 【請求項４】 重合用電解液がドデシル硫酸ナトリウ
ム水溶液である請求項２記載の製造方法。 - 【請求項５】 微細電極が、ガラス又はアルミナ基板
上にタングステン被膜を形成し、ニッケルを被着し、そ
の上に感光性高分子をコ−ティングした後、蝕板印刷法
で電極構造の像を形成し、蝕刻した部分に金めっきを行
った後、感光性高分子、ニッケル及びタングステンを順
に蝕刻し、長幅部部分電極と短幅部部分電極電極がくし
の歯状に交互に配列した電極である請求項２記載の製造
方法。 - 【請求項６】 各部分電極の幅が、約１６μｍ であ
り、部分電極の間隔が、約５μｍ である請求項５記載
の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR11492/1990 | 1990-07-27 | ||
| KR1019900011492A KR940004667B1 (ko) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | 고분자 습도센서 및 전기화학적 방법에 의한 고분자 습도센서의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04232846A true JPH04232846A (ja) | 1992-08-21 |
| JPH0679001B2 JPH0679001B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=19301732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3192787A Expired - Lifetime JPH0679001B2 (ja) | 1990-07-27 | 1991-07-08 | 高分子湿度センサ及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5122237A (ja) |
| JP (1) | JPH0679001B2 (ja) |
| KR (1) | KR940004667B1 (ja) |
| DE (1) | DE4124149A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6213541B1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-04-10 | Textron Automotive Company | Cowl assembly |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU6836796A (en) * | 1995-08-31 | 1997-03-19 | Toshio Kunugi | High-sensitivity method of deformation of pyrrole polymer film |
| TW571093B (en) * | 1998-12-28 | 2004-01-11 | Tdk Corp | Moisture sensor |
| US6730212B1 (en) | 2000-10-03 | 2004-05-04 | Hrl Laboratories, Llc | Sensor for chemical and biological materials |
| US7008524B2 (en) * | 2000-10-03 | 2006-03-07 | Hrl Laboratories, Llc | Sensors with variable response behavior |
| US20040092004A1 (en) * | 2002-11-07 | 2004-05-13 | Hrl Laboratories, Llc | Sensor for detection of enzyme and enzyme detection method for aerosolized bacteria in the enviromnment |
| US6894512B2 (en) * | 2003-03-24 | 2005-05-17 | Israel Aircraft Industries Ltd. | Method for detecting hidden corrosion and a sensor for use in the same |
| KR100717442B1 (ko) * | 2004-09-09 | 2007-05-14 | 대우전자부품(주) | 습도센서의 전극 제조방법 |
| KR100680311B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-02-08 | 이정록 | 수분 감지용 센서의 제조방법 |
| KR100530386B1 (ko) | 2005-08-03 | 2005-11-22 | (주)코스트플러스코리아 | 숙성 마늘의 제조방법 |
| WO2010050987A1 (en) * | 2008-11-03 | 2010-05-06 | Sikorsky Aircraft Corporation | Corrosion sensor system |
| US9851267B1 (en) | 2016-06-01 | 2017-12-26 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Force-sensing element |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4563263A (en) * | 1982-01-15 | 1986-01-07 | Terumo Corporation | Selectively permeable film and ion sensor |
| US4562725A (en) * | 1982-07-31 | 1986-01-07 | Shimadzu Corporation | Moisture sensor and a process for the production thereof |
| JPS5924234A (ja) * | 1982-07-31 | 1984-02-07 | Shimadzu Corp | 湿度センサ−及びその製造方法 |
| JPS60201244A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Ricoh Co Ltd | 湿度センサ |
| US4582575A (en) * | 1984-09-04 | 1986-04-15 | Rockwell International Corporation | Electrically conductive composites and method of preparation |
| JPS61128478A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Toyota Motor Corp | 導電性高分子材料製負極の製造方法 |
| DE3672473D1 (de) * | 1985-12-23 | 1990-08-09 | Hoffmann La Roche | Verfahren zur herstellung von ionenselektiven elektroden zur untersuchung von bestimmten ionen in loesung. |
| DK626986A (da) * | 1985-12-25 | 1987-06-26 | Terumo Corp | Ionsensor |
| US4707244A (en) * | 1986-01-21 | 1987-11-17 | Beckman Industrial Corporation | Solid state sensor element |
| JPH0684953B2 (ja) * | 1986-11-25 | 1994-10-26 | 株式会社トクヤマ | 湿度センサ−素子 |
| US4791374A (en) * | 1986-12-12 | 1988-12-13 | The Lubrizol Corporation | Acid sensor |
| JPS6424755A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Recording apparatus |
| JPH0295153A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-05 | Shibaura Eng Works Co Ltd | ライザ並びにその製造方法及ぎ該ライザを用いた回転子 |
-
1990
- 1990-07-27 KR KR1019900011492A patent/KR940004667B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-01-22 US US07/644,304 patent/US5122237A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-08 JP JP3192787A patent/JPH0679001B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-20 DE DE4124149A patent/DE4124149A1/de not_active Ceased
- 1991-07-31 US US07/738,791 patent/US5304295A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6213541B1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-04-10 | Textron Automotive Company | Cowl assembly |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0679001B2 (ja) | 1994-10-05 |
| KR920003052A (ko) | 1992-02-29 |
| US5122237A (en) | 1992-06-16 |
| KR940004667B1 (ko) | 1994-05-27 |
| US5304295A (en) | 1994-04-19 |
| DE4124149A1 (de) | 1992-02-06 |
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