JPH04230650A - ウレタン生成物及びカーボネート生成物の製造 - Google Patents

ウレタン生成物及びカーボネート生成物の製造

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JPH04230650A
JPH04230650A JP3222760A JP22276091A JPH04230650A JP H04230650 A JPH04230650 A JP H04230650A JP 3222760 A JP3222760 A JP 3222760A JP 22276091 A JP22276091 A JP 22276091A JP H04230650 A JPH04230650 A JP H04230650A
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JP
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group
solvent
nitrogenous compound
thf
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JP3222760A
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William Dennis Mcghee
ウイリアム デニス マックギー
Dennis P Riley
デニス パトリック リレイ
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Monsanto Co
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Monsanto Co
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    • C07C269/00Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C269/02Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups from isocyanates with formation of carbamate groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
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    • C07C271/08Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C68/00Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C68/04Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from carbon dioxide or inorganic carbonates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明はウレタン及びカーボネー
トの製造法、更に詳しくはアミン、二酸化炭素及びアリ
ルハライドからウレタンを、またアルコール、二酸化炭
素及びアリルハライドからカーボネートをそれぞれ製造
する新規かつ有用な方法に関する。 【0002】 【従来の技術】ウレタン及びカーボネートは、典型的に
は、第一アミン又はアルコールとホスゲンとのイソシア
ネート又はカーボーネートを形成する反応によって合成
されてきた。反応後、イソシアネートをアルコールと反
応させて対応するウレタンを形成する。ホスゲンは非常
に有毒であるので、生成物及び作業員の安全の観点から
非常に注意深い取り扱いが必要とされる。イソシアネー
トは増感剤(sensitizer)であるが、これも
極めて有毒である。従って、ホスゲンを使用せずに経済
的な方法で、かつイソシアネートを生成させずにウレタ
ン生成物を製造することは、この技術分野において相当
の意義を達成することになろう。 【0003】米国特許第4,467,089号明細書に
は、第二アミン及び第三アミンと二酸化炭素とのN−置
換カルバミン酸の対応する第三アミンを製造する同時反
応によるある種の特定のカルバミン酸誘導体の製造が開
示される。第二アミンと第三アミンとを等モル割合で過
剰の二酸化炭素の存在下、穏やかな条件下において一緒
にする。第二アミンは第三アミンの存在下でCO2 と
反応して対応するジ置換第三カルバミン酸アンモニウム
塩を形成する。この塩は、特にポリウレタン配合物にお
ける使用のための熱活性化性の遅延作用触媒として有用
であると言われる。 【0004】近畿化学会(日本)のケミストリーエクス
プレス(Chemistry  Express)、第
1巻、第4号、第224〜227頁(1986年)には
、第一及び第二アミンはCO2 を吸収してカルバミン
酸アミン塩を形成すること、及び当量の1,8−ジアザ
ビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ−7−エン(DBU)
を加えると、追加のCO2 が吸収されてDBU−カル
バミン酸塩を形成することが開示される。DBU−カル
バミン酸塩はアルキル化剤と反応するとカルバミン酸エ
ステル(ウレタン)を形成する。ウレタン生成物の収率
と選択率はアルキル化剤の性質に大きく依存する。ジブ
チルアミンをDBUの存在下でCO2 と反応させ、得
られるDBU−カルバミン酸塩をアルキル化剤としての
塩化ブチルと反応させるときは、僅か17%の収率が実
現されるに過ぎない。臭化ブチルでは、収率は86%で
ある。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】しかして、有毒なホス
ゲンを使用せずに経済的な方法でウレタン及びカーボネ
ート生成物を高い選択率及び収率で製造することができ
る技術の開発が望まれる。 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明はO−アリリック
(allylic)ウレタン及びO−アリリックカーボ
ネートの新規かつ有用な製造法を提供するものである。 本発明方法の好ましい態様は次の一般式【化8】 を有する−アリリックウレタン及びO−アリリックカー
ボネートの製造法である。ただし、上記の式において、
R1 はアリルハライド部分に由来するアリル基を表し
;Aは−NR2 R3 及び−OR4 より成る群から
選択される基を表し;R2 、及びR3 はそれぞれ独
立に水素、及びそれぞれ1〜約22個の炭素原子を有す
るアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアル
ケニル、アリール、アルアルキル、アルケンアリール及
びアルカリール基を表すが、ただしR2 及びR3 の
多くても1個は水素であり;そしてR4 はそれぞれ1
〜約22個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、
シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、アルア
ルキル、アルアルケニル、アルケンアリール及びアルカ
リール基を表す。 【0007】本発明のO−アリリックウレタン及び同カ
ーボネートの製造法は適当な第一若しくは第二モノ−若
しくはポリアミン、又は適当な第一、第二若しくは第三
モノ−アルコール若しくはポリオールを二酸化炭素と反
応されて対応するカルバミン酸アンモニウム塩又はカー
ボネート塩を形成し、次いでこの塩をパラジウム第三ホ
スフィン触媒の存在下でアリルハライドと反応させるこ
とを特徴とする。反応は強塩基性の窒素質塩基、好まし
くは第三アミン塩基を使用して行われる。R2 及びR
3 は窒素と一緒に結合されて飽和又は不飽和の複素環
式の5〜9員環基、例えばモルホリノ、ピロリジノ、ピ
ペリジノ及び同様の基を形成してよい。更に、R2 又
はR3 の一方は 【化9】 【0008】(式中、RはR2 について上記で定義し
た通りであり、R1 は上記で定義した通りであり、そ
してR5 は1〜約22個の炭素原子を有する、直鎖又
は分枝鎖であることができるアルキレン基を表す。)で
あることができ、即ち本発明の新規なウレタンはジウレ
タンであることができ、またR4 は 【化10】 【0009】(式中、nは0〜約8の整数であり、R1
 及びR2は上記で定義した通りであり、そしてR5 
は1〜約22個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝鎖で
あることができるアルキレン基を表す。)であることが
できる。 【0010】本発明はCO2 、第一又は第二モノ−又
はポリアミン及び第三アミン塩基から前以て形成された
カルバメートアニオンによる、或はCO2 、第一、第
二又は第三モノ−アルコール又はポリオール及び第三ア
ミン塩基から前以て形成されたカーボネートアニオンに
よるπ−アリルパラジウム第三ホスフィン錯体に対する
吸核的攻撃に基づくものである。本発明に従って製造さ
れるウレタン生成物は特に、例えば架橋剤のような化学
的用途に有用である。本発明に従って製造されるカーボ
ネート生成物は耐破砕性光学レンズ、フェース  シー
ルド(face  shield)及び窓に有用なポリ
マーの製造に有用である。 【0011】本発明によれば、ウレタンは適当な第一又
は第二モノ−若しくはジアミン又はそれらの混合物、二
酸化炭素及び第三アミン塩基を制限された帯域、例えば
反応器の中で接触、反応させて対応するカルバミン酸ア
ンモニウム塩を形成することによって製造される。同様
に、本発明によれば、カーボネートは適当な第一、第二
又は第三モノ−アルコール若しくはジオール又はポリオ
ール或はそれらの混合物、二酸化炭素及び第三アミン塩
基を制限された帯域、例えば反応器の中で接触、反応さ
せて対応するカーボネート塩を形成することによって製
造される。アミン又はアルコールは溶液状となし、その
溶液に二酸化炭素を通して泡立てるのが好ましい。反応
は昇圧又は昇温の必要なしに僅かに発熱する反応として
進行して対応するカルバメートアニオンのアンモニウム
塩又は対応するカーボネートアニオンの塩のいずれかを
与える。二酸化炭素との反応中に少なくとも本質的に化
学量論量の第三アミンを使用すると、所望とされるウレ
タン及びカーボネート生成物が改良された収率で得られ
る。 【0012】触媒パラジウム源として作用するパラジウ
ム第三ホスフィン錯体を用意し、カルバミン酸塩若しく
はカーボネート塩の溶液か、又はカルバミン酸塩若しく
はカーボネート塩のスラリーのいずれかの中でアリルハ
ライド化合物と接触、反応させる。カルバーメートアニ
オン又はカーボネートアニオンはパラジウム(II)に
配位されたπ−アリル部分を求核的様式で攻撃する。ウ
レタン及びカーボネートは次に反応から常法で優れた収
率で回収される。 【0013】カルバメートアニオンのアンモニウム塩は
強有機塩基の存在下で溶液状で製造することができる。 強塩基の使用は平衡をカルバメートアニオンの生成の方
向にシフトさせる。第一又は第二アミンとの間の反応を
塩基の存在下で行う場合、反応は式(1)によって表す
ことができる。得られるカルバミン酸アンモニウム塩溶
液は通常均一である。 【式1】       RR’NH+塩基+CO2 =RR’NC
O2 − H塩基+     (1)【0014】式2
はパラジウム触媒の存在下におけるカルバメートアニオ
ンのアリルハライドへの付加の結果を示す。 【式2】 【0015】反応は通常穏やかな条件下で、例えば25
℃及び110psiの二酸化炭素圧下でスムースに進行
して対応するO−アリリック生成物を高収率で与える。 【0016】本発明に従ってカルバミン酸エステルを製
造するのに使用される適当な第一又は第二アミンは一般
式R2 R3 NHで表すことができる。ただし、式中
のR2 及びR3 はそれぞれ独立に水素(ただし、R
2 及びR3 の多くても一個は水素である)、それぞ
れ1〜約22個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝鎖で
あることができる、アルキル、アルケニル、シクロアル
キル、シクロアルケニル、アリール、アルアルキル、ア
ルアルケニル、アルケンアリール及びアルカリール基、
並びに式−(−R5 −)n −NHR(式中、RはR
2 について上記で定義した基を表し、R5 は約1〜
約22個の炭素原子を有するアルキレン基を表し、そし
てnは0〜約8の整数を表す。)で表される基を表す。 R2 及びR3 の例を挙げると、メチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、
t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、n−ヘキシ
ル、n−オクチル、フェニル、ベンジル等がある。この
ような適当なアミンの具体例にN−エチル(ベンジルア
ミン)、N,N−ジアリルアミン、N,N−ジエチルア
ミン、2−ブテニル−1,4−ビス(N,N−ジエチル
アミン)、N−シクロヘキシルアミン、N,N’−ジメ
チルヘキサメチレン−ビス−1,6−ジアリルアミン等
がある。更に、R2 及びR3 は窒素と一緒に結合さ
れて飽和又は不飽和の5〜9員環基を形成することがで
きる。このような環基の例を挙げると、モルホリノ、ピ
ロリジノ、ピペリジノ等がある。適当なアミンにはまた
、例えばテトラエチレンペンタミン、ジエチレントリア
ミン、トリエチレンテトラミン及びペンタエチレンヘキ
サミンのようなポリアミンがある。 【0017】アミンはCO2 と反応して対応するカル
バミン酸アンモニウム塩を可逆的に形成する。この平衡
反応を更に有利にカルバミン酸アンモニウム塩にシフト
させるために強塩基性の窒素含有塩基を加える。このよ
うな窒素塩基に第三アミン(例えば、トリエチルアミン
、ジイソプロピルエチルアミン、キヌクリデン等)、ア
ミジン類(例えば、DBU、1,8−ジアザビシクロ〔
5.4.0〕ウンデセ−7−エン等)及びグアニジン類
(例えば、テトラメチルグアニジン、テトラエチルグア
ニジン等)がある。 【0018】カーボネートアニオンの塩は強塩基、例え
ば強有機塩基の存在下で溶液状で製造することができる
。アルコールとの間の反応は式(3)で表すことができ
る。得られるカーボネート塩溶液は通常均一である。 【式3】     R’R”COH+塩基+CO2 =RR’R”
COCO2 − H塩基+     (3) 【001
9】式(4)は式3の錯体のパラジウムπ−アリルハラ
イド錯体に対する付加の結果を示すものである。 【式4】 【0020】典型的には、反応は穏やかな条件下で、例
えば25℃及び110psiのCO2 圧下でスムース
に進行して対応するO−アリリック生成物を高収率で与
える。 【0021】本発明に従ってカーボネートエステルを製
造するのに用いられる適当な第一、第二及び第三アルコ
ールは一般式R7 R8 R9 COHで表すことがで
きる。 ただし、式中のR7 、R8 及びR9 はそれぞれ独
立に水素、及びそれぞれ1〜約22個の炭素原子を有す
る、直鎖又は分枝鎖であることができるアルキル、アル
ケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール
、アルアルキル、アルアルケニル、アルケンアリール及
びアルカリール基、式−(−R5 −)n−OH(式中
、R5 及びnは前記定義の通りである)で表される基
を表すか、又はCと一緒になって芳香族環構造を形成す
る。R7 ,R8 及びR9 の例を挙げると、メチル
、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、
イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル
、n−ヘキシル、n−オクチル、フェニル、ベンジル等
がある。適当なアルコールの具体例を挙げると、フェノ
ール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、エタ
ノール、n−ブタノール、イソプロパノール等がある。 適当なアルコールにはまた、例えばソルビトール、ペン
タエリスリトール等のようなポリオールがある。 【0022】本発明の利点は、アミン又はアルコールと
CO2 との間の反応が温和な温度と圧力の下で進行す
るということである。室温と110psiのCO2 圧
が適当である。反応は0.1気圧乃至超臨界圧力(su
percritical  pressure)の範囲
のCO2 圧下、−78℃乃至室温の温度で行うのが好
ましい。 【0023】本発明における使用に適したアリルハライ
ドは式 【化11】 で表すことができる。ただし、式中のR10、R11、
R12、R13、R14及びR15は水素、及びそれぞ
れ1〜約22個の炭素原子を有する、直鎖又は分枝鎖で
あることができるアルキル、アルケニル、シクロアルキ
ル、シクロアルケニル、アリール、アルアルキル、アル
アルケニル、アルカリール及びアルケンアリール基を表
し、そしてXはCl及びBrラジカルを表す。R10〜
R15で包含される基の例にR2 及びR3 について
、並びにR7 、R8 及びR9 について例示した基
がある。適当なアリルハライドの例を挙げると、2−メ
チルアリルクロライド、1,4−ジクロロ−シス−2−
ブテン、1,4−ジクロロ−トランス−2−ブテン、4
−クロロ−2−ブテン及び3−クロロシクロヘキセンが
ある。 【0024】アリルハライド、パラジウム(II)触媒
錯体及びカルバミン酸アンモニウム塩はπ−アリルがカ
ルバメートアニオン又はカーボネートアニオンからの求
核的攻撃を受けるような条件下で接触、反応せしめられ
る。好ましいアリルハライドはアリルクロライドである
。 【0025】パラジウム第三ホスフィン触媒は、例えば
(ジベンジリデンアセトン)3 Pd2 (Pd2 d
ba3 )、例えば2−ビス−ジフェニルホスフィノエ
タン(DIPHOS)のような第三ジホスフィン又はト
リフェニルホスフィンのようなプレ(即ち、前)−触媒
系を用いて製造される。好ましい第三ホスフィンはDI
PHOSである。この及び他の第三ホスフィン触媒はこ
の技術分野において周知の方法によって製造することが
できる。例えば、都合のよいプレー触媒系、例えば空気
安定性のPd2 dba3 を用いて製造することがで
きる。このPd°系にホスフィン源、例えば第三ホスフ
ィンをパラジウムのモル当たりホスフィン少なくとも2
モルのモル比で加える。例えば、CA州、ミル  バレ
ー(Mill  Valley)のユニヴァーシティー
  サイエンス  ブックス社(University
Science  Books)刊(1987年)、コ
ルマン(Collman)等の「有機遷移金属化学の原
理と応用(Principles  and  App
lications  of  Organotran
sition  MetalChemistry)」を
参照されたい。この文献を本明細書で引用、参照するも
のとする。適当な触媒に(Pd2 dba3 )+(D
IPHOS)、Pd(PPh3 )4 、(Pd2 d
ba3 )+(PPh3 )及び〔アリルPdCl〕2
+PPh3 がある。 【0026】反応は適当な有機溶剤中で行われる。有機
溶剤にテトラヒドロフラン、DMSO、1,2−ジメト
キシエタン、グライム(glyme)、その他のエーテ
ル及びポリエーテル系溶剤、並びに塩化メチレン、1,
2−ジクロロエタン及びその他の塩素化溶剤がある。好
ましい溶剤はエーテル化(etherated)溶剤、
例えばTHF及びグライムである。 【0027】アミン生成物を越えるウレタンの高い選択
率(酸素の攻撃対窒素の攻撃)及びエーテルを越えるカ
ーボネートの高い選択率を得るためにそのアニオンを本
質的に化学量論量の塩基の使用によって安定化する。本
発明において用いられている用語の塩基は反応体である
アミン又はアルコールに対する付加反応において用いら
れる塩基を意味する。これは前に定義した第三アミン塩
基である。前以て形成したカルバメートアニオン又はカ
ーボネートアニオンを二酸化炭素圧下でアリリッククロ
ライドの溶液に適当なパラジウム/ホスフィン触媒と共
に加えると、O−アリリックウレタン及び同カーボネー
トが高い収率と選択率で、かつ高い速度で得られる。カ
ルバメート形成の際の塩基の選択はより高い選択率、従
ってより高い収率を達成するために重要である。塩基は
以下に示される一般構造の一方を有するのが好ましい。 【化12】 【0028】これらの塩基はこの技術分野において周知
であり、その幾つかは市販されている。このような塩基
の例を挙げると、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0
〕ノネ−5−エン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデンセ−7−エン−(DBU)、7
−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ〔4.4.0
〕デセ−5−エン(MTBD)及びシクロヘキシルテト
ラメチルグアニジン(CyTMG)がある。好ましくは
、出発物質のアミン又はアルコールに対する塩基のモル
比は約1:1〜約10:1の範囲である。好ましいモル
比は約1:1〜約1.5:1の範囲である。最も好まし
いモル比は1:1である。アルコールの混合物及びアミ
ンの混合物が本発明の方法において効果的に用いること
ができ、この態様も本発明において意図されるものであ
る。更に、アルコール官能基とアミン官能基の両者を含
む化合物、例えばジエタノールアミンが本発明の方法に
おいて効果的に用いることができ、この態様も本発明に
おいて意図されるものである。加えて、アルコール/ア
ミン混合物、例えばN−ベンジル−N−エチルアミンと
ベンジルアルコールとの混合物が本発明の方法において
効果的に用いることができ、この態様も本発明において
意図されるものである。 【0029】アルコール、アミン及びアリルハライドに
ついて前記した一般式の意図された均等化合物は、別の
点でそれら一般式の化合物に対応し、かつ同じ一般的性
質を有する化合物、即ち各種R基の1個以上が前記一般
式で定義された置換基の単に変形したもの、例えばRが
高級アルキル基であるか、又は例えばハライド、アミノ
置換基、ヒドロキシ置換基等のような置換基を含む化合
物である。更に、置換基が水素として示されるか、又は
水素であることができる場合、その位置の水素以外の置
換基の正確な化学的性質はその置換基が全合成操作に悪
影響を及ぼさない限りは重要でない。例えば、上記のア
ルコール及びアミンが1官能性及び2官能性のアルコー
ル及びアミンである場合、本発明における使用に適した
それらアルコール及びアミンの均等物にポリオール及び
ポリアミンがある。 【0030】上記の化学反応はそれら反応が本発明化合
物の製造に対して最も広く適用されるものとして一般的
に開示されている。しかし、場合によっては、これら反
応は開示される範囲に含まれる各化合物に対して記載の
通りに適用しなくてもよい。このように適用しない場合
の化合物は当業者であれば容易に分かるだろう。総ての
このような場合において、これら反応は当業者に公知の
常用の修正法で、例えば妨害性基を適切に保護すること
によって、別の常用試薬に変更することによって、反応
条件を日常的に採用される範囲で修正することによって
、及び同様の手段によってうまく行うことができるか、
又は本明細書に開示される他の反応か、さもなければ常
用の反応が本発明の対応する化合物の製造に適用可能で
ある。総ての製造法において、出発物質は総て公知のも
のであるか、又は公知の出発物質から容易に製造可能な
ものである。 【0031】 【実施例】本発明を次に説明される実施例において更に
明らかにする。これらの実施例において、部及び百分率
は特に明記されなければモル基準で与えられている。 【0032】次の実施例で使用したアミン及びアルコー
ルは総てアルドリッチ  ケミカル社(Aldrich
  Chemical  Company)かコダック
ケミカル社(Kodak  Chemical  Co
mpany)から得たもので、入手したままで使用した
。窒素下にある無水の溶剤、1,2−ビス(ジフェニル
ホスフィノ)エタン(DIPHOS)、トリフェニルホ
スフィン、DBN(1,5−ジアザビシクロ〔4.3.
0〕ノネ−5−エン)、DBU(1,8−ジアザビシク
ロ〔5.4.0〕ウンデセ−7−エン)、トリス(ジベ
ンジリデンアセトン)ジパラジウム(Pd2 dba3
 )、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ム及びアリルパラジウムクロライド二量体はアルドリッ
チ  ケミカル社から購入し、MTBD(7−メチル−
1,5,7−トリアザビシクロ〔4.4.0〕デセ−5
−エン)はフルカ社(Fluka)から入手し、CyT
MG(シクロヘキシルテトラメチルグアニジン)はブレ
ダーレックエーチ(BredereckH.)、ブレダ
ーレック  ケー(Bredereck  K.)のC
hem  Ber、94、2278〜2295(196
1)に記載の一般的方法に従って合成した。 【0033】ガスクロマトグラフ分析は30メーターの
メガボア(Megabore)DB−1(3μm)J&
Wサイエンチフィック(Scientific)カラム
を使用しているモデル8000のオートサンプラーを持
つヴァリアンモデル3400ガスクロマトグラフで行っ
た。ウレタン生成物はこれを精製し、 1H  NMR
、13C  NMR、質量分光分析、IR及び元素分析
で同定した。核磁気共鳴スペクトルはヴァリアンVXR
−300又はVXR−400スペクトロメータで得た。 マススペクトルはFABで、又は試薬ガスとしてイソブ
タンを用いる化学的イオン化法で得た。赤外スペクトル
はニコレット(Nicolet)FT−IRで得た。ポ
リマーの分子量の情報はWISP700オートサンプラ
ー、600Eシステムコントローラー、直列に配置され
た500Å、103 Å、104 Å及び105 Åの
ゲル透過カラム、410ディファレンシャル  レフラ
クトメーター(Differential  Refr
actometer)及びマキシマ(Maxima)8
20ウォークステーションから成るGPCウォーターズ
システム(Waters  System)で得た。分
子量はポリスチレン標準に基づく。 【0034】実施例1 6ozのフィッシャーポーター(Fischer−Po
rter)びんにN−エチル(ベンジル)アミン2.7
08g(20.0ミリモル)、DBU3.76g(24
.7ミリモル)及びトリデカン186mg(1ミリモル
:内部標準として)を加えた。これにTHF15mL(
ミリリットル)を加えて澄明な溶液を得た。フィッシャ
ーポーターびんを圧力ヘッドにつなぎ、その溶液の上に
攪拌しながら温室において約80psiの二酸化炭素を
加えた。二酸化炭素を加えると、溶液は僅かに暖まり、
そして2時間後CO2 の吸収が止まった。 【0035】第2のフィッシャーポーターびんにdba
3 Pd299mg(0.108ミリモル)及びビス−
ジフェニルホスフィノエタン107mg(0.267ミ
リモル)を加えた。このフィッシャーポーターびんを圧
力ヘッドにつないだ。この装置を二酸化炭素でフラッシ
ュし、続いてTHF15mL(乾燥、空気を含まず)を
加えると紫色の溶液が得られた。この溶液は色がゆっく
りと淡くなった。15分後、このパラジウム−DIPH
OS混合物にアリルクロライド2.89g(50.8ミ
リモル)を加えると、溶液は暗黄色に変わった。この溶
液を室温で15分間攪拌した。 【0036】このカルバミン酸塩溶液を二酸化炭素の圧
力を用いて上記パラジウム−アリルクロライド混合物に
室温において急速に攪拌しながら加えてその溶液をフィ
ッシャーポーターびんから反応容器に押しやった。この
反応混合物の上に25℃において110psiの二酸化
炭素のヘッド圧を加えた。2時間後、反応混合物から既
知少量を採取した(この間に大量の白色固体が溶液から
沈澱した)。PhCH2 (Et)NCO2 CHCH
=CH2 の収率はガスクロマトグラフィーにより82
%と計算された。G.C.で観察された他の唯一の生成
物は約1%のPhCH2 (Et)NCHCH=CH2
 であった。 【0037】実施例2 N−ベンジル−N−エチルアリルカルバメート:フィッ
シャーポーターびんにN−ベンジル−N−エチルアミン
13.5g(0.1モル)、DBU16.1g(0.1
06モル)及びトリデカン1g(5.38ミリモル)(
G.C.の内部標準として)を加えた。これに無水のT
HF15mLを加えて澄明な溶液を得た。フィッシャー
ポーターびんを圧力ヘッドにつなぎ、その溶液の上に攪
拌しながら室温において約35psiの二酸化炭素を加
えた。二酸化炭素を加えると、溶液は僅かに暖まり、そ
して2時間後CO2 の吸収が止まった。 【0038】第2のフィッシャーポーターびんにPd2
 dba3100mg(0.11ミリモル)及びDIP
HOS(ビス−ジフェニルホスフィノエタン)108m
g(0.27ミリモル)を加えた。このフィッシャーポ
ーターびんを圧力ヘッドにつなぎ、この装置を二酸化炭
素でフラッシュした。この溶液に無水THF(45mL
)を加えると紫色の溶液が得られた。溶液の色はゆっく
りと黄色に変わった。15分後、アリルクロライド16
.35g(0.214モル)を加え、その反応混合物を
室温で15分間攪拌した。 【0039】このカルバミン酸塩溶液を過剰の二酸化炭
素圧を用いて上記パラジウム−DIPHOS−アリルク
ロライド混合物に急速に攪拌しながら室温において加え
てそのカルバミン酸塩溶液を触媒と共に反応器に押しや
った。次に、反応混合物の上に80psigの二酸化炭
素のヘッド圧を加え、反応混合物を室温で21時間攪拌
した。この時間中に白色固体が沈澱した。この時間後に
圧力を解放し、その黄色の溶液をシリカゲルを通して濾
過した(これは触媒を失活させる)。濾液を濃縮すると
、後に黄色の油が残った。5トル(125〜130℃)
で蒸留すると、1が澄明な油として17.17g(78
.4%)得られた。 1H  NMR(CDCl3 )
δ7.39−7.26(m,5H)、6.0(br,1
H)、5.4−5.2(br,2H)、4.69(br
  d,J=5Hz,2H)、4.54(s,2H)、
3.32(br,2H)、1.13(br  t,J=
6.9Hz,3H)。IR(フィルム)1705、16
47;MS(CI、メタン)m/z=220(MH+)
。 【0040】実施例3 実施例2に記載の方法を行って次のウレタン及びカーボ
ネートを製造した。ただし、記載される場合はこの方法
にある修正を加えた。 【0041】N,N−ジ−アリルアリルカルバメート:
生成物は4トル(76〜80℃)で蒸留することによっ
て単離した;93%。 1H  NMR(CDCl3 
)δ5.93(m,1H),5.78(m,2H),5
.26(dq,J=17.2,1.7Hz,1H),5
.15−5.08(重なり合っている、m,5H),4
.54(dt,J=5.4,1.5Hz,2H),3.
85(br  d,J=5.5Hz,4H).13C{
 1H}NMR(CDCl3 )δ155.9,135
.1,134.6,116.7,116.9,66.4
,49.6(br).IR(フイルム)1705,16
46;MS(CI,メタン)m/z=182(MH+)
.元素分析、計算値:C,66.27;H,8.34;
N,7.73.測定値:C,66.27;H,8.01
;N,7.98. 【0042】N,N−ジ−アリル−2−メチルアリルカ
ルバメート:生成物は5トル(78〜85℃)で蒸留す
ることによって単離した;67.5%。 1H  NM
R(CDCl3 )δ5.78(m,2H),5.16
(s,2H),5.13(br,2H),4.92(d
,J=10.3Hz,2H),4.52(s,2H),
3.88(br,4H),1.75(s,3H).13
C{ 1H}NMR(CDCl3 )δ156.3,1
41.1,134.0,117.3(br),112.
5,69.1,49.3(br),19.9.IR(フ
イルム)1705,1659,1646;MS(CI,
メタン)m/z=196(MH+).元素分析、計算値
:C,67.66;H,8.78;N,7.17.測定
値:C,67.31;H,8.85;N,7.11. 【0043】N,N−ジ−エチルアリルカルバメート:
50%CH2 Cl2 /ヘキサンを用いるシリカゲル
上でのクロマトグラフィーにより単離した(35%)。  1H  NMR(CDCl3 )δ5.97(m,1
H),5.32(dq,J=17.2,1.7Hz,1
H),5.22(dq,J=10.5,1.5Hz,1
H),4.61(dt,J=5,1.4Hz,2H),
3.32(q,J=7.2Hz,4H),1.15(t
,J=7.2Hz,6H).13C{ 1H}NMR(
CDCl3 )δ156.2,133.9,117.3
,66.1,42(br),14.1(br).IR(
フイルム)1701、1649. 【0044】2−ブテニル−1,4−ビス(N,N−ジ
−エチルカルバメート):生成物は20%酢酸エチル/
ヘキサンを用いるシルカゲル上でのクロマトグラフィー
により単離した(澄明な油として22%単離された)。  1HNMR(CDCl3 )δ5.78(m,2H)
,4.72(d,J=5  Hz),3.30(br 
 q,J=6.9Hz,8H),1.14(t,J=7
.1Hz,12H).13C{ 1H}NMR(CDC
l3 )δ156.2,128.9,61.2,41.
9(br),14.2(br).IR(フイルム)17
00;MS(CI,メタン)m/z=287(MH+)
.【0045】N−シクロヘキシルアリルカルバメート
:実施例2の方法をこれに次の変更を加えて実施した:
共塩基としてCyTMGを用い、そして反応を30℃で
行った。生成物は50%CH2 Cl2 /50%ヘキ
サンを用いるシリカゲル上でのクロマトグラフィーによ
り単離した(澄明な油として30%単離された)。 1
H  NMR(CDCl3 )δ5.95(m,1H)
,5.32(dq,J=17.2,1.5Hz,1H)
,5.23(dq,J=10.4,1.4Hz,1H)
,4.65(br  s,N−H),4.57(br 
 d,J=5.4Hz,2H),3.52(dr  m
,1H),1.99−1.10(m,シクロヘキシル,
10H).13C{ 1H}NMR(CDCl3 )δ
155.9,133.6,118.0,65.8,50
.4,33.9,26.0,25.3.IR(フイルム
)3325,1698,1647;MS(CI,メタン
)m/z=184(MH+). 【0046】N,N’−ジメチルヘキサメチレン−ビス
−1,6−(ジアリル−カルバメート):生成物は15
%酢酸エチル/ヘキサンを用いてクロマトグラフィーに
より単離した(澄明な油として50%単離された)。 
1H  NMR(CDCl3 )δ5.93(m,2H
),5.29(dq,J=17.2,1.5Hz,2H
),5.19(dq,10.4,1.3Hz,2H)4
.57(dt,J=5.4,1.4Hz,4H),3.
25(t,J=7.3Hz,4H),2.89(s,6
H),1.53(m,4H),1.30(m,4H).
13C{ 1H}NMR(CDCl3 )δ156.6
,133.8,117.5,66.3,49.2(br
),36.5(br)28.0(br),26.9.I
R(フイルム)1700,1649;MS(CI,メタ
ン)m/z=313(MH+).元素分析、計算値:C
,61.51;H,9.03;N,8.97.測定値:
C,61.37;H,9.01;N,9.00.【00
47】ベンジルアリルカーボネート:実施例2の方法を
次のように変更して実施した:塩基としてCyTMGを
用い、そして反応を30℃で行った。生成物は100%
ヘキサンを用いてクロマトグラフィーにより単離した(
澄明な液体として64%単離された)。 1H  NM
R(CDCl3 )δ7.45−7.30(m,5H)
,5.98(m,1H),5.40(dq,17.2,
1.5Hz,1H),5.30(dq,J=10.4,
1.3Hz,1H),5.22(s,2H),4.68
(dt,J=5.8,1.3Hz,2H).13C{ 
1H}NMR(CDCl3 )δ155.5,135.
8,132.1,129.1,129.0,128.8
,119.4,70.2,69.1.IR(フイルム)
1754,1650;MS(FAB,n−BuOH)m
/z=181(MH+). 【0048】フエニルアリルカーボネート:実施例2の
方法を次のように変更して実施した:塩基としてCyT
MGを用い、そして反応を30℃で行った。生成物は2
0トル、85℃において蒸留することによって単離した
(澄明な液体として31%単離された)。 1H  N
MR(CDCl3 )δ.7.35(t,J=7.5H
z,2H),7.0(重なり合っている,3H),6.
12(m,1H),5.48(dd,J=17.2,1
.5Hz  1H)5.35(dd,J=10.5,1
.4Hz,1H)4.60(d,J=5.4Hz,2H
)13C{ 1H}NMR(CDCl3 )δ.159
.2,133.9,130.0,121.4,118.
1,115.3,69.3.IR(フイルム)1746
,1650. 【0049】以上、本発明の例示態様を詳しく説明した
が、当業者には本発明の精神と範囲を逸脱しない限りに
おいて種々の修正は明らかであり、当業者であればそれ
らの修正を容易になし得ることは分かるだろう。従って
、前記特許請求の範囲は前記の実施例及び説明によって
限定されるものではなく、それら特許請求の範囲は本発
明に入る特許可能な新規性の諸特徴の総てを、当業者に
よって均等なものとして取り扱われるだろう本発明に係
わる総ての特徴を含めて包含すると解されるものである
。 【0050】実施例4 実施例2に記載の方法に従って、N−ベンジルーN−エ
チルアミン、CO2、アリルクロライド及び塩基の間で
反応を行った。塩基は塩基であるグアニジン又はアミジ
ンを用いて選択性の増加を第三アミン、即ちジイソプロ
ピルエチルアミンと対比して証明するために変えた。結
果を表1に示す。 【表1】 【0051】反応は総てPd2 dba3 /ホスフィ
ン触媒を内部G.C.標準としてのトリデカン又はビフ
ェニルと共に用い、THF中室温において80〜100
psigの二酸化炭素圧下で行う。 aDBN=1,5
−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノネ−5−エン; b
DBU=1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデ
セ−7−エン; cCyTMG=シクロヘキシル−テト
ラメチルグアニジン; dMTBD=7−メチル−1,
5,7−トリアザビシクロ〔4.4.0〕デセ−5−エ
ン。 【0052】実施例5 反応を、各種の溶剤を用いたことを除き実施例2の方法
に従って行った。表2に示されているように、エーテル
化溶剤のTHF及びグライムが選択率を著しく増加させ
る。 【表2】 【0053】反応は総てPd2 dba3 /ホスフィ
ン触媒を内部G.C.標準としてのトリデカン又はビフ
ェニルと共に用い、室温において80〜100psig
の二酸化炭素圧下で行う。 aDBU=1,8−ジアザ
ビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ−7−エン。 【0054】実施例6 反応を、触媒を変えたことを除き実施例2に従って行っ
た。結果を表3に示す。 【表3】 【0055】反応は総て内部G.C.標準としてトリデ
カン又はビフェニルを用い、THF中室温において80
〜100psigの二酸化炭素圧下で行う。 bDBU
=1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ−7
−エン。 【0056】実施例7 実施例2の方法に従って各種の求核試薬を各種の共塩基
及びアリルハライドと併用した。これら反応の結果を表
4に示す。 【表4】 【0057】反応は総てPd2 dba3 /DIPH
OS触媒又はPPh3 触媒を内部G.C.標準として
のトリデカン又はビフェニルと共に用い、THF中室温
において80〜100psigの二酸化炭素圧下で行う
。実験は総てカルバメート/カーボネートの転化率とし
て100%を示す。 aDBU=1,8−ジアザビシク
ロ〔5.4.0〕ウンデセ−7−エン; bCyTMG
=シクロヘキシル−テトラメチルグアニジン; c反応
は30℃で行う;d %アミンは%アリル−N(Me)
(CH2 )6 N(Me)CO2 −アリルを示す。 【0058】上記の方法により得られた生成物はポリウ
レタン及びポリカーボネートを製造するのに用いること
ができる。このような生成物は所望とされる最終用途に
依存して、例えばポリウレタンについては繊維、塗料、
成型用途等、またポリカーボネートについてはレンズ、
窓、電話部品等の用途に依存して、この技術分野におい
て周知の多数の重合条件の任意の1つに付すことができ
る。例えば、ニューヨーク(New  York)のジ
ョンワイレー  アンド  サンズ社(John  W
iley  &  Sons)から1985年に刊行さ
れたマーク  エーチ(Mark  H.)、ビカルス
  エヌ(Bikales  N.)、オーヴァーベル
ガーシー(Overberger  C.)、メンジェ
ス  ジー(Menges  G.)、クロシェヴィッ
ツ  ジェー(Kroschwitz  J.)著「エ
ンサイクロペディア  オブ  ポリマー  サイエン
ス  アンド  エンジニアリング(Encyclop
edia  of  Polymer  Scienc
e  andEngineering)」第2版を参照
されたい。この文献をここに引用、参照するものとする
。更に、ジアミン、ポリアミン、ジオール、ポリオール
又はそれらの混合物とジアリリッハライド又はポリ(ア
リリック)ポリ(ハライド)とを用いてリビングポリマ
ーを製造することができる。 【0059】実施例8 N,N’−ジメチルヘキサメチレン−1,6−ジアミン
と1,4−ジクロロ−2−ブテンからのポリウレタンの
製造。 【0060】N,N’−ジメチルヘキサメチレン−1,
6−ジアミン(7.2g、0.05モル)、CyTMG
(21.7g、0.11モル)及び乾燥THF30mL
をフィッシャーポーターびんに加え、それを圧力ヘッド
に取り付けた。これに室温で二酸化炭素(60psig
)を加えた(CO2 を加えると溶液は暖まった)。 【0061】第2のフィッシャーポーターびんにPd(
PPh3 )4 250mg(0.22モル)、1,4
−ジクロロ−2−ブテン6.25g(0.05モル)及
び乾燥THF40mLを加えた。 【0062】これを圧力ヘッドに取り付け、その黄色溶
液の上に60psigのCO2 を加えた。1時間後、
そのジカルバメート溶液をPd錯体及びアリルクロライ
ドが入っているフィッシャーポーターびんに移した。こ
の反応混合物を60psigのCO2 圧下、室温にお
いて3日間攪拌した。 【0063】この時間の後、圧力を反応器から解放し、
粗rxn物質(黄色溶液及び白色沈澱)をセライトを通
して濾過した。セライトを洗浄するためにTHFを用い
た。濾液を濃縮すると褐色の油が残った。この油をジエ
チルエーテルに滴下すると、溶液から濃い油状物質が分
離した。これを溶液からデカンテーションすることによ
って集め、次いでその油をジエチルエーテルで繰り返し
洗浄した。GPC分析すると、MW =8900、Mn
 =5400、Mw /Mn =1.66、H1 1 
 NMR(CDDl3 )δ5.75(br,2H)、
4.71(d,J=4.4Hz,4H)、3.26(b
r,4H)、2.90(s,6H)、1.53(br,
4H)、1.32(br,4H)。IR(CHCl3 
)1692。

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  次の:(a)CO2 とアミン、アル
    コール、アミノアルコール又はそれらの混合物とを強塩
    基性窒素質化合物の存在下、溶剤中で接触、反応させて
    対応するカルバミン酸アンモニウム塩又はカーボネート
    塩を形成し、そして (b)該塩をパラジウム第三ホスフィン触媒系の存在下
    でアリルハライドと反応させる工程を含んで成る、ウレ
    タン及びカーボネートの製造法。
  2. 【請求項2】  溶剤がTHF、DMSO、1,2−ジ
    メトシキエタン及びグライムより成る群から選択された
    ものである、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】  溶剤がエーテル化溶剤である、請求項
    1に記載の方法。
  4. 【請求項4】  溶剤がTHF及びグライムより成る群
    から選択されたものである、請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】  パラジウム第三ホスフィン触媒系が(
    Pd2 dba3 )+(DIPHOS)、Pd(PP
    h3 )4 、(Pd2 dba3 )+(PPh3 
    )及び〔アリルPdCl〕2 +PPh3 より成る群
    から選択されたものである、請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】  塩基性窒素質化合物がアミジン類及び
    グアニジン類より成る群から選択されたものである、請
    求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】  塩基性窒素質化合物がDBU、DBN
    、MTBD及びCyTMGより成る群から選択されたも
    のである、請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】  次の: (a)CO2 とアミン、アルコール、アミノアルコー
    ル又はそれらの混合物とを強塩基性窒素質化合物の存在
    下、溶剤中で接触、反応させて対応するカルバミン酸ア
    ンモニウム塩又はカーボネート塩を形成し、そして(b
    )該塩をパラジウム第三ホスフィン触媒系の存在下でア
    リルハライドと反応させる工程を含んで成る、式:【化
    1】 を有する化合物の製造法:ただし、式中R1 はアリル
    基を表し;Aは−NR2 R3 及び−OR4 より成
    る群から選択される基を表し;R2 、R3 及びR4
     はそれぞれ独立に水素、それぞれ1〜約22個の炭素
    原子を有するアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
    シクロアルケニル、アリール、アルアルキル、アルアル
    ケニル、アルケンアリール又はアルカリール基を表し;
    R2 及びR3 は基−NR2 R3 の窒素と一緒に
    結合されて複素環式の5〜9員環基を形成してもよく;
    R2 又はR3 は式:【化2】 の基を表すか、又はR4 は式: 【化3】 (式中、RはR2 について上記で定義したものと同じ
    である。)を表し;R5 は1〜約22個の炭素原子を
    有するアルキレン基を表し;そしてnは0〜約8の整数
    である。
  9. 【請求項9】  化合物が式: 【化4】 を有するウレタンである、請求項8に記載の方法:ただ
    し、式中R1 はアリル基を表し;R2 及びR3 は
    それぞれ独立に水素、及びそれぞれ1〜約22個の炭素
    原子を有するアルキル、アルケニル、シクロアルキル、
    シクロアルケニル、アリール、アルアルキル、アルアル
    ケニル、アルケンアリール及びアルカリール基を表し;
    又はR2 及びR3 の一方は式: 【化5】 (式中、R1 は上記定義の通りであり、RはR2 に
    ついて定義した基を表し、R5 は1〜約22個の炭素
    原子を有するアルキレン基を表し、そしてnは0〜約8
    の整数である。)の基を表すか;又はR2 及びR3 
    は窒素と一緒に結合されて飽和又は不飽和の複素環式の
    5〜9員環基を形成する。
  10. 【請求項10】  化合物が式: 【化6】 を有するカーボネートである、請求項8に記載の方法:
    ただし、式中R1 はアリル基を表し;R4 はそれぞ
    れ1〜約22個の炭素原子を有するアルキル、アルケニ
    ル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ア
    ルアルキル、アルアルケニル、アルケンアリール又はア
    ルカリール基、及び式: 【化7】 (式中、R1  は上記定義の基を表し、R5 は1〜
    約22個の炭素原子を有するアルキレン基を表し、そし
    てnは0〜8の整数である。)で表される基を表す。
  11. 【請求項11】  溶剤がTHF、DMSO、1,2−
    ジメトキシエタン及びグライムより成る群から選択され
    たものである、請求項8に記載の方法。
  12. 【請求項12】  溶剤がエーテル化溶剤である、請求
    項8に記載の方法。
  13. 【請求項13】  溶剤がTHF及びグライムより成る
    群から選択されたものである、請求項8に記載の方法。
  14. 【請求項14】  パラジウム第三ホスフィン触媒系が
    (Pd2 dba3 )+(DIPHOS)、Pd(P
    Ph3 )4 、(Pd2 dba3 )+(PPh3
     )及び〔アリルPdCl〕2 +PPh3 より成る
    群から選択されたものである、請求項8に記載の方法。
  15. 【請求項15】  塩基性窒素質化合物がアミジン類及
    びグアニジン類より成る群から選択されたものである、
    請求項8に記載の方法。
  16. 【請求項16】  塩基性窒素質化合物がDBU、DB
    N、MTBD及びCyTMGより成る群から選択された
    ものである、請求項8に記載の方法。
  17. 【請求項17】  次の: (a)CO2 とアミン、アルコール、アミノアルコー
    ル又はそれらの混合物とを強塩基性窒素質化合物の存在
    下、溶剤中で接触、反応させて対応するカルバミン酸塩
    又はカーボネート塩を形成し、 (b)該塩をパラジウム第三ホスフィン触媒系の存在下
    でアリルハライドと反応させ、そして (c)工程bの生成物を重合条件下で重合開始剤と反応
    させる工程を含んで成る、ポリウレタン及びポリカーボ
    ネートの製造法。
  18. 【請求項18】  溶剤がTHF、DMSO、1,2−
    ジメトキシエタン及びグライムより成る群から選択され
    たものである、請求項17に記載の方法。
  19. 【請求項19】  溶剤がエーテル化溶剤である、請求
    項17に記載の方法。
  20. 【請求項20】  溶剤がTHF及びグライムより成る
    群から選択されたものである、請求項17に記載の方法
  21. 【請求項21】  パラジウム第三ホスフィン触媒系が
    (Pd2 dba3 )+(DIPHOS)、Pd(P
    Ph3 )4 、(Pd2 dba3 )+(PPh3
     )及び〔アリルPdCl〕2 +PPh3 より成る
    群から選択されたものである、請求項17に記載の方法
  22. 【請求項22】  塩基性窒素質化合物がアミジン類及
    びグアニジン類より成る群から選択されたものである、
    請求項17に記載の方法。
  23. 【請求項23】  塩基性窒素質化合物がDBU、DB
    N、MTBD及びCyTMGより成る群から選択された
    ものである、請求項17に記載の方法。
  24. 【請求項24】  次の:(a)CO2 とジアミン、
    ポリアミン、ジオール、ポリオール若しくはアミノアル
    コール又はそれらの混合物とを強塩基性窒素質化合物の
    存在下、溶剤中で接触、反応させて対応するカルバミン
    酸塩又はカーボネート塩を形成し、そして (b)該塩をパラジウム第三ホスフィン触媒系の存在下
    でジアリリック−ジハライド又はポリ(アリリック)ポ
    リ(ハライド)と反応させる工程を含んで成る、ポリウ
    レタン及びポリカーボネートの製造法。
  25. 【請求項25】  溶剤がTHF、DMSO、1,2−
    ジメトキシエタン及びグライムより成る群から選択され
    たものである、請求項24に記載の方法。
  26. 【請求項26】  溶剤がエーテル化溶剤である、請求
    項24に記載の方法。
  27. 【請求項27】  溶剤がTHF及びグライムより成る
    群から選択されたものである、請求項24に記載の方法
  28. 【請求項28】  パラジウム第三ホスフィン触媒系が
    (Pd2 dba3 )+(DIPHOS)、Pd(P
    Ph3 )4 、(Pd2 dba3 )+(PPh3
     )及び〔アリルPdCl〕2 +PPh3 より成る
    群から選択されたものである、請求項24に記載の方法
  29. 【請求項29】  塩基性窒素質化合物がアミジン類及
    びグアニジン類より成る群から選択されたものである、
    請求項24に記載の方法。
  30. 【請求項30】  塩基性窒素質化合物がDBU、DB
    N、MTBD及びCyTMGより成る群から選択された
    ものである、請求項24に記載の方法。
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