JPH04226188A - 接触改質の再循環ガスから硫黄分を除去する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガソリンの沸点範囲に
あるナフサ原料の接触改質に使用するプロセス装置から
の硫黄分の除去方法に関する。該硫黄分は、触媒の予備
硫化が原因となる硫黄分のほか、原料に本来的に含まれ
る硫黄分がある。この除去方法はプロセスガスライン中
で大きい粒子のニッケルトラップを使用することによっ
て達成される。

【０００２】

【従来の技術】接触改質は、ナフサまたは直留ガソリン
のオクタン価を向上させるための十分に確立された精製
方法である。改質は次の反応で生成した種々の分子の変
換または炭化水素の反応の総合的効果として定義するこ
とができる。その反応とはシクロヘキサン類の脱水素反
応、アルキルシクロペンタン類の脱水素異性化反応、並
びにパラフィン及びオレフィンの脱水素環化反応によっ
て芳香族化する反応；ｎ‐パラフィンの異性化反応；シ
クロヘキサン類へのアルキルシクロペンタン類の異性化
反応；置換芳香族化合物の異性化反応；並びにガス及び
不可避なコークス（このコークスは触媒表面に堆積する
）を生成するハイドロクラッキングである。接触改質に
おいては、通常、実質的に原子状にアルミナ等の多孔質
無機酸化物の担体の表面に分散された単独または複数の
金属水素化‐脱水素化（水素移動）成分（通常は白金で
ある）を含有する多官能性の触媒が使用されている。 通常はハロゲン化物、特にクロライドを含有する担体は
、異性化反応、環化反応、及び脱水素環化反応に必要と
される酸性官能価を提供する。

【０００３】改質反応には、吸熱反応と発熱反応があり
、全般的には前者が優勢であるが、特に改質反応の早い
段階では前者が優勢で、終盤では後者が優勢である。 この見地から、１つの反応器から他の反応器へ送られる
反応流分を加熱するための装置を備える直列に連結され
た複数の反応器を含む改質装置を使用するのが常識とな
ってきている。このような改質装置には３つの主要なタ
イプがあり、それらは半再生式、循環式及び連続式であ
る。通常、半再生式及び循環式では固定床式反応器が採
用され、連続式では流動床式反応器が採用されている。 半再生式改質装置では、最終的に装置全体が触媒の再生
及び再活性化のために運転を停止されるまで、コークス
の堆積によって起こる触媒の不活性化を相殺するために
徐々にそして漸進的に温度を上げながら運転される。循
環式改質装置では、複数の反応器は、別々に孤立してい
るかまたは配管を種々操作することによって事実上ライ
ンから孤立して設置されている。触媒は、一連の反応器
を運転したままでコークス堆積物を除去することによっ
て再生され、次いで再活性化される。最近では、触媒の
再生及び再活性化のために一連の反応器系から外され、
しかるのち、該反応器系に復帰する「スイング反応器」
が、反応器系のうちの１つの反応器に取って代わってい
る。連続式改質装置では、固定床式反応器反応器とは異
なり、流動床式反応器であって触媒を連続的に添加及び
回収するものである。回収された触媒は離れた再生反応
器で再生される。

【０００４】改質において、硫黄化合物は１〜２ｐｐｍ
　存在するだけで、触媒、特に最近の硫黄に敏感な複合
金属触媒の活性を害し、Ｃ５　以上の液体収量を低下さ
せる。 例えば、白金‐レニウム触媒は硫黄に被毒し易いので、
触媒活性とＣ５　以上の液体収量の過剰な損失を回避す
るために硫黄分を０．１ｗｐｐｍ以下に減少させること
が必要である。

【０００５】一般に、全ての石油ナフサ原料は硫黄分を
含んでいる。必然的に、殆どの硫黄分は、ニッケルまた
はコバルトまたはその両方と共にモリブデンを含む通常
の水素化脱硫触媒であってアルミナ等の担体に担持され
た触媒を使用した水素化精製処理によって原料から除去
される。水素化精製の条件はより厳しくできるので、実
質的に全ての硫黄分はＨ２　Ｓの形でナフサから除去さ
れる。とはいえ、少量のオレフィンも生成する。その結
果、水素化精製装置から出てくる流分を冷却したとき、
Ｈ２　Ｓとオレフィンが結合してメルカプタンを生成し
、硫黄分がナフサ中に再導入されることになる。このこ
とから、精製装置が高価であってもよいのなら、原料か
ら実質的に全ての硫黄分を除去できる極めて過酷な条件
の水素化精製プロセスを採用することができるが、重量
で約１〜２ｐｐｍ　より低い硫黄分を常に維持すること
はかなりコストがかかる。また、水素化精製装置が不調
であるときは、その間水素化精製された生成物の硫黄濃
度は、例えば５０ｐｐｍ　またはそれ以上とかなり高く
なる。

【０００６】水素化は原料から殆どの硫黄分を除去する
かも知れないが、触媒の予備硫化が別の硫黄源がになる
ので、接触改質においては尚も硫黄分の問題が残ってい
るのである。新たに調製した触媒または新たに再生した
触媒の活性金属部位を原料と接触させる前に不動態化す
ることが一般に必要である。これは過剰な脱メチル化反
応、液体収量の低下及び温度が制御不能となる可能性を
防止するのに役立つ。不動態化はまず水素で触媒を還元
し、続いて、Ｈ２　Ｓ、ジ‐ｔｅｒｔ‐ポリスルフィド
（ＴＮＰＳ）または他の適当な硫黄化合物、特に有機硫
黄化合物の形で約０．１重量％の硫黄分で触媒を処理す
ることにより行われる。装置を正常に運転している間、
この硫黄分の殆どが触媒から徐々に放出され、製品燃料
ガスを系から取り出す間に除去され、残り（元の約３０
％以下）が系内に循環する。循環式改質装置ではこの残
存循環硫黄分が反応器全体で反応性を衰えさせることに
なる。

【０００７】主として原料から硫黄分を除去するために
種々の技術が使用されてきた。例えば、一定の範囲で成
功を収めた硫黄分の除去方法が米国特許第　４，６３４
，５１５号に教示されている。この特許はアルミナに担
持された大きい粒子のニッケル触媒の固定床を使用する
ことによって液相原料流分から硫黄分を除去する方法を
教示している。この方法は約１４９〜２６０℃（３００
〜５００°Ｆ）の温度で行うものである。かかる方法は
実際に原料中に含まれる硫黄分を除去するが、触媒の予
備硫化が原因となる硫黄分の除去については教示してい
ない。米国特許第　４，５１９，８２９号は、ＰＮＡｓ
の生成を抑制するために１〜１５重量％の鉄を、大きい
粒子のニッケルと共に添加することによって、この方法
を改良したものである。

【０００８】再循環ガス流分に使用し得る、ガス流分か
ら硫黄分を除去する種々の技術も提案されている。例え
ば、亜鉛アルミナスピネルを使用することによって硫黄
分を除去する方法が提案されている（米国特許第　４，
２６３，０２０号及び第　４，６９０，８０６号を参照
のこと）　。スピネル組成物を使用する欠点は、例えば
、１〜２％とそれらが比較的低い硫黄容量しか有さず、
それ故、それら自身を再生する設備が必要なことである
。また、酸化亜鉛トラップ等の亜鉛トラップを使用する
ことも提案されている（例えば、米国特許第　４，７１
７，５５２号、　４，３７１，５０７号及び第　４，３
１３，８２０号を参照のこと）。酸化亜鉛トラップはク
ロライドの存在で急速に劣化する傾向があり、従って、
亜鉛トラップの上流にクロライドトラップが必要である
。

【０００９】他に種々の高温トラップの使用が教示され
ている。米国特許第　４，１８７，２８２号は約２４９
〜５００℃（４８０〜９３２°Ｆ）の温度で鉄／銅／チ
タン酸化物を使用することを教示しており、米国特許第
　４，２７３，７４８号は４５０℃（８４２°Ｆ）及び
７０４．４℃（１３００°Ｆ）の温度で処理する二重の
鉄／ニッケル酸化物床を使用することを教示しており、
そして米国特許第　４，１４０，７５２号は活性炭に担
持したバナジウム、ニッケル及び／またはカリウムを使
用することを教示している。

【００１０】硫黄分を除去するための上記の方法のある
ものは、種々の程度で商業的成功を収めているが、原料
中に元から存在する硫黄分並びに触媒の予備硫化が原因
となる硫黄分の両方の硫黄分を除去する方法が依然とし
て当該技術分野において必要とされているのである。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、炭化
水素質原料の接触改質における再循環ガス中に存在する
硫黄分を除去する方法を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、水素の
存在下、改質プロセス装置中でガソリンの沸点範囲の炭
化水素質原料を改質するための改良された方法が提供さ
れる。即ち、前記プロセス装置は直列に連結された複数
の反応器を含み、該複数の反応器はリード反応器及び１
またはそれ以上の下流反応器（その最後のものがテール
反応器である）を含み、そして、各反応器は担持された
貴金属含有触媒を含有し、水素含有ガスが１またはそれ
以上の該下流反応器から該リード反応器へと再循環され
るものであって、該再循環ガスが該リード反応器に入る
前に担体上に分散された約１０〜約７０重量％のニッケ
ルを含有する硫黄トラップに通されることを特徴とする
ものである。

【００１３】本発明の好ましい態様においては、該トラ
ップを通過するガス流分も約３．５重量％までのクロラ
イドを含有する。本発明の他の好ましい態様においては
、該プロセス装置は循環式装置であり、そして、ニッケ
ルの少なくとも約５０％が還元状態にあり、かつ、約７
５オングストローム以上の平均サイズを有する金属結晶
からなっている。

【００１４】本発明の方法による改質に通常用いられる
原料は、沸点がガソリン範囲にある全ての炭化水素質原
料である。かかる原料の例としては、沸点が約２１〜約
２６０℃（約７０〜約５００°Ｆ）、好ましくは約８２
〜約２０４℃（約１８０〜約４００°Ｆ）の軽質炭化水
素油がある。かかる原料には、直留ナフサ、石炭または
オイルシェール由来のナフサの如き人造ナフサ、熱分解
または接触分解されたナフサ、水素化分解されたナフサ
またはそれらの種々のブレンド品または留分がある。

【００１５】本発明で実際に使用しているように、改質
に適した触媒には一官能性及び二官能性の両方の複合金
属Ｐｔ含有改質触媒がある。好ましい触媒は、水素化‐
脱水素化官能性及び酸性官能性を含む二官能性改質触媒
である。異性化反応に重要な酸性官能性は、多孔性で吸
着性のある、金属成分の支持体または担体として使用さ
れる耐火性酸化物材料、好ましくはアルミナとの共同作
用であると考えられる。該金属成分は、典型的には、白
金等の第ＶＩＩＩ族の貴金属であって、一般に水素化‐
脱水素化官能性に寄与する。担体材料はゼオライト等の
結晶アルミノシリケートであってもよい。本発明で使用
できるゼオライトの例としては、有効な細孔直径を有す
るゼオライト、特にＬ‐ゼオライト、ゼオライトＸ及び
ゼオライトＹである。好ましくは、第ＶＩＩＩ族の貴金
属は白金である。元素の周期率表の第　ＩＩＩＡ、第Ｉ
ＶＡ、第ＩＢ、第ＶＩＢ及び第　ＶＩＩＢの金属から選
ばれた１またはそれ以上のプロモーター金属を存在させ
てもよい。該プロモーター金属は、触媒組成物の総重量
に対し、原子を基準として計算して、約０．０１〜約５
重量％、好ましくは約０．１〜３重量％、より好ましく
は約０．２〜３重量％の量で、酸化物、硫化物または原
子状態の形で存在してもよい。該触媒組成物は、比較的
高い表面積、例えば、約１００〜２５０ｍ２／ｇ　を有
するのが好ましい。ここで引用している元素の周期率表
は、サージェント‐ウェルフ（Ｓｅｒｇｅａｎｔ−Ｗｅ
ｌｃｈ）科学会社によって発行され、１９７９年を著作
権日とするものであり、カタログ番号Ｓ‐１８８０６と
して彼らから入手することができる。

【００１６】改質触媒は、通常、触媒の必要な酸性官能
価に寄与するハロゲン化物成分を含有している。このハ
ロゲン化物成分は、最終的な触媒組成物に対し、原子を
基準として計算して、約０．１〜３．５重量％、好まし
くは約０．５〜１．５重量％の量で存在し、クロライド
であるのが好ましい。一般に、白金族金属は、最終的な
触媒組成物に対し、原子を基準として計算して、約０．
０１〜５重量％の量で触媒上に存在するのが好ましい。 より好ましくは、該触媒は約０．１〜２重量％の白金族
金属、特に約０．１〜２重量％の白金を含むのが好まし
い。本発明での使用に適した他の白金族金属は、パラジ
ウム、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム
及びそれらの混合物である。

【００１７】第１図を参照すると、オンストリーム反応
器Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ及びスイング反応器Ｓを含む複反応器
システム並びにいずれの反応器の触媒の周期的な再生及
び再活性化にも容易に使用することのできるマニホール
ドを含む循環式改質プロセス装置が示されている。スイ
ング反応器Ｓは反応器Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤとマニホールド
で接続されているので、オフストリームになった反応器
の触媒を再生及び再活性化するために代用反応器として
使用することができる。直列のＡ，Ｂ，Ｃ及びＤのうち
のいくつかは、１つの反応器が触媒の再生及び再活性化
のためにオフストリームとなっていてもスイング反応器
Ｓをその代用にすることができるように連絡できる。ス
イング反応器Ｓの触媒の再生及び再活性化のために備え
ることもできる。

【００１８】オンストリーム反応器Ａ，Ｂ，Ｃ及びＤは
、それぞれ別個の加熱炉またはヒーターＦＡ　，ＦＢ　
，ＦＣ　及びＦＤを備えており、それら全てはプロセス
を連結している符号１０で示される配管及びバルブによ
って直列に連結しているので、その結果、原料はそれぞ
れＦＡ　Ａ，ＦＢ　Ｂ，ＦＣ　Ｃ及びＦＤ　Ｄを連続的
に通過することができ、または、反応器Ａ，Ｂ，Ｃ及び
Ｄは大体同じ単位を構成しているので、それらが再生及
び再活性化を必要とする場合はそれらのどれも、それぞ
れ、スイング反応器Ｓで代用することができる。これは
、スイングヘッダー２０の上部及び下部のラインに連結
している所定の反応器の各サイドのバルブを開け、次い
で、流体が前記スイング反応器Ｓに入りそしてそこから
出てゆくように前記反応器の両サイド上のライン１０の
バルブを閉めることによって、再生のために循環路から
外される所定の反応器とスイング反応器を「並列」にす
ることにより行われる。再生設備（これについては第２
図に示されている）は、再生ヘッダー３０の上部及び下
部のラインを形成している連結配管及びバルブの平行循
環路を通って、反応器Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ及びＳのそれぞれ
に分岐しているので、それぞれの反応器のいずれも該装
置の他の反応器及び再生され再活性化されたその触媒か
ら別個に孤立化できるのである。

【００１９】４番目の反応器またはテール反応器からの
生成物は、主成分である水素とメタン及び硫化水素等の
硫黄含有ガスに気‐液分離器で蒸発分離されて塔頂から
留出する。この流分は燃料ガスと再循環ガスに分けられ
る。該再循環ガスは、まず再加圧され、次いで硫黄分ト
ラップを通過し、そして、リード反応器のＦＡ　の上流
で新しい原料と混合され、反応器システムに戻されるの
が好ましい。分離器残油はＬＰＧに安定化され、ガソリ
ンプールにブレンドされる。

【００２０】第２図は、反応器でコークスが堆積して不
活性化した触媒、例えば、運転を止めてスイング反応器
Ｓで代用されている反応器Ｄの触媒の再生及び再活性化
に使用される、上記に説明したプロセス装置のうちの再
生及び再活性化循環路を描写したものである。触媒再生
及び再活性化循環路は、一般にコンプレッサー、再生器
加熱炉ＦＲ　を含み、コークスが堆積して不活性化した
触媒の再生及び再活性化のために運転を止めている反応
器Ｄと直列に連結している。そのように形成された循環
路は、図に示すように、水、酸素、硫化水素及び塩酸を
注入するための位置も含んでいる。改質触媒の再生及び
再活性化のより詳細な議論は、米国特許第４，７６９，
１２８号に見ることができる。

【００２１】コークスが堆積して不活性化した触媒の再
生の間、酸素が再循環ガスコンプレッサーの上流に注入
され、再生器加熱炉ＦＲ　を通って反応器Ｄに入る。コ
ークスが除去された触媒の再活性化において、もし必要
であれば酸素、硫化水素、塩酸及び水が反応器Ｄに注入
され、塊状になった触媒金属または触媒の成分である複
数の金属が再分散される。触媒が原料と接触する前に触
媒を不動態化するため硫化水素を加える。硫化水素、塩
酸及び水は再生器加熱炉ＦＲ　の下流で加えられる。

【００２２】分離器塔頂留出ガスに含まれる硫黄分は生
成物ガスラインに配置された大きい粒子のニッケルトラ
ップを使用することにより除去され得る。それは分離器
の上方部分に設置することもできる。例えば、硫黄分ト
ラップは、ガス状生成物が再循環ガス流分と燃料ガス流
分に分けられる前であって、気‐液分離器のあとのガス
状生成物ラインの部分（Ｘ）；再循環ガスライン中の（
Ｙ）〔コンプレッサーの上流（Ｙ’）または下流（Ｙ）
〕；または再循環ガスが原料と混合されたあとであって
原料ラインのリード反応器の加熱炉に入る前の部分（Ｚ
）；に配置することができる。該硫黄分トラップは、気
‐液分離器の上方部分（Ｘ’）の中に組み込んでもよい
。このようにすると、硫黄分トラップはガスと共に塔頂
に運ばれる液体の飛沫を抑制することになろう。 Ｘ，Ｘ’，Ｙ，Ｙ’及びＺの符号は、第１図において使
用されている。

【００２３】硫黄分トラップは、アルミナに担持され、
大きな結晶サイズで高度に還元された形のニッケル吸着
剤の床で充填されている。一般に、ニッケル濃度は触媒
床の総重量（乾燥体基準）に対して約１０〜約７０重量
％、好ましくは約４５重量％以上、より好ましくは約４
５〜５５重量％である。少なくとも５０％、好ましくは
６０％のニッケルが還元状態で存在し、そして、該金属
の結晶は平均直径が７５オングストロームより大きく、
好ましくは少なくとも平均直径が約９５オングストロー
ムである。特に、吸着剤中のニッケル成分は、担持され
た成分の総重量（乾燥体基準）に対して約４５〜約５５
重量％、好ましくは約４５〜約５２重量％の原子状また
は金属のニッケルである。ニッケルの結晶のサイズは、
平均直径が約１００〜約３００オングストロームより大
きい。このように特徴付けられたニッケル吸着剤は、担
持ニッケル触媒またはより小さな金属結晶で平衡ニッケ
ル含量を有する吸着剤よりも硫黄分捕捉において遥かに
効果的である。

【００２４】該ニッケル含有吸着剤は、流分がＨＣｌを
含む場合でさえも効果的である。このＨＣｌは改質にお
いて多くの場合に存在するものである。というのは、ク
ロライドは触媒から絶えず失われるが、ナフサ原料中の
少量の有機塩化物がこれに置き替わるからである。ニッ
ケル‐アルミナ吸着剤または触媒のアルミナ成分は、好
ましくはγ‐アルミナであり、微量の不純物を含有して
いるがその量は一般に触媒の総重量（乾燥体基準）に対
して約１％未満である。特に、アルミナは低含有量でシ
リカを有する。即ち、シリカ含有量はアルミナの重量（
乾燥体基準）に対して約０．７％を超えるべきではなく
、好ましくは約０〜０．５％である。

【００２５】上記のように本発明及びその好ましい態様
及び最も好ましい態様を記載したので、以下の実施例を
参照することによって本発明はより明瞭になるであろう
。該実施例は本発明を説明することを目的としており、
本発明を制限するためのものとして解釈するべきではな
い。

【００２６】

【実施例】実施例１ この実施例は、約８２．２℃（１８０°Ｆ）という低い
温度で、大きい粒子のニッケルがかなりの量のＨ２　Ｓ
を吸収するかどうかを確認する実験である。ＴＧＡ（熱
重量分析）による硫黄分吸収試験を行い、全圧を１気圧
、温度をそれぞれ２６０℃（５００°Ｆ）及び８２．２
℃（１８０°Ｆ）に設定した場合の硫黄分トラップ中の
大きい粒子のニッケルの性能を比較した。約１００ｍｇ
の新鮮な触媒をチャージし、アルゴン気流下で減量が認
められなくなるまで４８２℃（９００°Ｆ）で加熱した
。次いで、それをアルゴン気流で２６０℃（５００°Ｆ
）まで冷却した。温度が一定になった後、２６０℃（５
００°Ｆ）で２容量％Ｈ２　Ｓ及び９８容量％アルゴン
からなる流分を導入し、硫黄分吸収による増加重量を時
間と共に測定し、吸収曲線から吸収が殆ど認められなく
まで続けた。新鮮な触媒を使用して８２．２℃（１８０
°Ｆ）で同じ実験を行った。

【００２７】大きい粒子のニッケルの能力を増加重量（
Ｈ２　Ｓ吸収量）を測定することにより決定し、以下の
表１に示した。

【００２８】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　表　　１　　　　　　　　　　　　
　　───────────────────────
　　　　　　　　　　　　　　　　温度，℃（°Ｆ）　
　　　　　　　　　％Ｈ２　Ｓ，吸収量　　　　　　　
　　　　　　　──────────────────
─────　　　　　　　　　　　　　　　　２６０℃
（５００°Ｆ）　　　　　　　　　　　　２６　　　　
　　　　　　　　　　　　８２．２℃（１８０°Ｆ）　
　　　　　　　　　２２　　　　　　　　　　　　　　
───────────────────────

【０
０２９】実施例２ この実施例は、作業条件に近い条件で行ったものであり
、温度を８２．２℃（１８０°Ｆ）にした。この温度は
循環式接触改質プロセス装置における再循環ガス流分の
代表的温度である。大きい粒子のニッケルのサンプルを
ＨＣｌで飽和した。得られた大きい粒子のニッケルのサ
ンプルは約２０重量％のＨＣｌを含有していた。該サン
プルを微量天秤に載せ、温度８２．２℃（１８０°Ｆ）
で３０分間０．１容量％のＨ２　Ｓを含有する水素を作
用させた。Ｈ２　Ｓ吸収量は約１０％であった。

【００３０】この実施例も、クロライドの存在下で大き
な粒子のニッケルを使用することによって硫黄分が除去
されることを明らかにしている。

【００３１】実施例３ 装填された床の中に１５ｇの大きな粒子のニッケルを入
れ、温度８２．２℃（１８０°Ｆ）、全圧１気圧、及び
流速２７Ｌ（ＳＴＰ）／時間で水素中に２容量％のＨ２
　Ｓを含むガス流分を接触させた。９重量％Ｈ２　Ｓを
吸収したあと、Ｈ２　Ｓはニッケルを突破し始めた。

【図面の簡単な説明】

【図１】複数のオンストリーム反応器、マニホールドを
含む代用またはスイング反応器並びに触媒の再生及び再
活性化設備と共に使用する反応器のバイパスを含む典型
的な循環式改質プロセス装置の簡略化した流れ図である
。

【図２】典型的な触媒の再生及び再活性化設備、及び、
本発明により行われる、循環式装置の所定の反応器内の
、コークスにより不活性化された触媒を再生及び再活性
化する方法の簡略化した流れ図である。

【符号の説明】

Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｓ　　反応器 ＦＡ　、ＦＢ　、ＦＣ　、ＦＤ　　　加熱炉Ｘ、Ｘ’、
Ｙ、Ｙ’、Ｚ　　硫黄分トラップを設置すべき部分の例
示

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　沸点がガソリンの範囲である炭化水素
   質原料を接触改質する方法であって、該改質が改質プロ
   セス装置中、水素の存在下、改質条件下で行われ、前記
   プロセス装置が直列に連結された複数の反応器を含み、
   前記各反応器は改質触媒を含有し、そして、前記プロセ
   ス装置がコークスで不活性化した触媒を再生する再生循
   環路を含み、前記再生工程が硫黄含有ガスでの処理を伴
   うものであり、そして、前記プロセス装置が気‐液分離
   器を含み、そこで分離されたガスの一部が再循環され、
   残りが製品ガスとして捕集される方法において、担体に
   分散された約１０〜約７０重量％のニッケルを含む触媒
   を含有する硫黄分トラップを気‐液分離器と最初の反応
   器の間で用いることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】　　硫黄分トラップが約４５〜約７０重量
   ％のニッケルを含むことを特徴とする、請求項１記載の
   方法。
3. 【請求項３】　　少なくとも５０％のニッケルが還元状
   態であり、かつ、約７５オングストロームより大きい平
   均サイズを有する金属結晶を含むことを特徴とする、請
   求項２記載の方法。
4. 【請求項４】　　約３．５重量％までのクロライドが存
   在することを特徴とする、請求項３記載の方法。
5. 【請求項５】　　硫黄分トラップが再循環ガスライン中
   にあることを特徴とする、請求項１記載の方法。
6. 【請求項６】　　硫黄分トラップが気‐液分離器から再
   循環ガスラインまでの間にあることを特徴とする、請求
   項１記載の方法。
7. 【請求項７】　　硫黄分トラップが気‐液分離器の上方
   部分内に設置されていることを特徴とする、請求項１記
   載の方法。
8. 【請求項８】　　プロセス装置が半再生式装置、半循環
   式装置及び循環式装置からなる群から選ばれたプロセス
   装置であることを特徴とする、請求項１記載の方法。
9. 【請求項９】　　プロセス装置が半再生式装置、半循環
   式装置及び循環式装置からなる群から選ばれたプロセス
   装置であることを特徴とする、請求項４記載の方法。
10. 【請求項１０】　　プロセス装置が循環式装置であるこ
    とを特徴とする、請求項８記載の方法。
11. 【請求項１１】　　プロセス装置が循環式装置であるこ
    とを特徴とする、請求項９記載の方法。
12. 【請求項１２】　　プロセス装置が循環式装置あること
    を特徴とする、請求項１記載の方法。
13. 【請求項１３】　　硫黄分トラップが、原料と再循環ガ
    スの混合物がそれを通過できるように、最初の反応器の
    直前に設置されていることを特徴とする、請求項１記載
    の方法。