JPH04217985A - 3位に脱離基を有する6−置換−4β−メチル−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ−2−エン−7−オン−2−カルボキシレート - Google Patents
3位に脱離基を有する6−置換−4β−メチル−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタ−2−エン−7−オン−2−カルボキシレートInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、6−,1−及び2−置換カルバ
ペネム抗生物質(II)
ペネム抗生物質(II)
【化2】
【化3】
【0002】の調製に有用な或る種の6−及び4−置換
−1−アザビシクロ〔3・2・0〕ヘプタン−3,7−
ジオン−2−カルボキシレート(I)に関するものであ
る。式中、R5 はナトリウム、カリウムのような塩陽
イオン、又は除去し得るカルボキシ保護基、又は薬学的
に許容されるエステル基である。R1 、R2 、R3
、R4 及びR8 は、水素、置換及び非置換の
以下の化合物:1−10の炭素原子を有するアルキル、
アルケニル及びアルキニル:シクロアルキル環部分に3
−6の炭素原子、アルキル部分に1−6の炭素原子を有
するシクロアルキル、スピロシクロアルキル、シクロア
ルキルアルキル及びアルキルシクロアルキル:フェニル
などのアリール:アリール部分がフェニルであり、アル
キルが1−6の炭素原子を有するアルアルキル、アルア
ルケニル及びアルアルキニル:ヘテロアリール、ヘテロ
アルアルキル、ヘテロシクリル及びヘテロシクリルアル
キル:上述の基に対する単数又は複数の置換基が、アミ
ノ、モノ−、ジ−及びトリアルキルアミノ、ヒドロキシ
、アルコオキシ、メルカプト、アルキルチオ、フェニル
チオなどのアリールチオ、スルフアモイル、アミジノ、
グアニジノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、フルオロ、シア
ノ及びカルボキシから成る群から選ばれる場合:上述の
ヘテロ環部分の単数又は複数のヘテロ原子が、1−4の
酸素、窒素又は硫黄原子から成る群から選ばれる場合:
上述の置換基のアルキル部分が1−6の炭素原子を有す
る場合:から成る群から独立して選択される。
−1−アザビシクロ〔3・2・0〕ヘプタン−3,7−
ジオン−2−カルボキシレート(I)に関するものであ
る。式中、R5 はナトリウム、カリウムのような塩陽
イオン、又は除去し得るカルボキシ保護基、又は薬学的
に許容されるエステル基である。R1 、R2 、R3
、R4 及びR8 は、水素、置換及び非置換の
以下の化合物:1−10の炭素原子を有するアルキル、
アルケニル及びアルキニル:シクロアルキル環部分に3
−6の炭素原子、アルキル部分に1−6の炭素原子を有
するシクロアルキル、スピロシクロアルキル、シクロア
ルキルアルキル及びアルキルシクロアルキル:フェニル
などのアリール:アリール部分がフェニルであり、アル
キルが1−6の炭素原子を有するアルアルキル、アルア
ルケニル及びアルアルキニル:ヘテロアリール、ヘテロ
アルアルキル、ヘテロシクリル及びヘテロシクリルアル
キル:上述の基に対する単数又は複数の置換基が、アミ
ノ、モノ−、ジ−及びトリアルキルアミノ、ヒドロキシ
、アルコオキシ、メルカプト、アルキルチオ、フェニル
チオなどのアリールチオ、スルフアモイル、アミジノ、
グアニジノ、ニトロ、クロロ、ブロモ、フルオロ、シア
ノ及びカルボキシから成る群から選ばれる場合:上述の
ヘテロ環部分の単数又は複数のヘテロ原子が、1−4の
酸素、窒素又は硫黄原子から成る群から選ばれる場合:
上述の置換基のアルキル部分が1−6の炭素原子を有す
る場合:から成る群から独立して選択される。
【0003】本発明は、抗生物質であり、以下の一般式
(I)
(I)
【化4】
で表示されるIのカルボキシル誘導体に関するものであ
る。式中、X′は酸素、硫黄、又はNR′(R′=H又
は1−6の炭素原子を有する低級アルキル)であり:R
3 ′はなかんずく水素、トリアルキルシリル等の常法
の保護基、アシル、ビシクロβ−ラクタム抗生物質業界
に於て知られている薬学的に許容される塩、エステル及
びアミドから成る群から代表的には選択される。R3
′の定義は以下に詳細に示されている。
る。式中、X′は酸素、硫黄、又はNR′(R′=H又
は1−6の炭素原子を有する低級アルキル)であり:R
3 ′はなかんずく水素、トリアルキルシリル等の常法
の保護基、アシル、ビシクロβ−ラクタム抗生物質業界
に於て知られている薬学的に許容される塩、エステル及
びアミドから成る群から代表的には選択される。R3
′の定義は以下に詳細に示されている。
【0004】本発明は、このような化合物I及びIIの
調製方法に関するものである。新規抗生物質に対する必
要性は、絶えることなく存在している。残念なことに、
既存の抗生物質を継続して広範囲に使用すると、それに
対する抵抗性の病原菌が生ずるが故に、抗生物質の有効
性が次第に失われていく。更に、既知抗生物質は、ある
種の微生物にしか有効でないという欠点がある。従って
、新規抗生物質の検索は絶えることなく行われるのであ
る。
調製方法に関するものである。新規抗生物質に対する必
要性は、絶えることなく存在している。残念なことに、
既存の抗生物質を継続して広範囲に使用すると、それに
対する抵抗性の病原菌が生ずるが故に、抗生物質の有効
性が次第に失われていく。更に、既知抗生物質は、ある
種の微生物にしか有効でないという欠点がある。従って
、新規抗生物質の検索は絶えることなく行われるのであ
る。
【0005】従って、動物及び人間の治療及び非生物系
に対して有用な抗生物質IIを、中間体Iを経由して供
給することが本発明の目的である。これらの抗生物質は
エス・アウレウス(S. aureus)、ストレプ・
ピオゲネス(Strep. pyogenes)及びビ
ー・ズブチリス(B. subtilis)のようなグ
ラム陽性細菌及びイー・コリ(E. coli)、シュ
ードモナス(Pseudomonas)、プロテウス
モルガニイ(Proteus morganii)、
セラチア(Serratia) 及びクレブシエラ(K
lebsiella) のようなグラム陰性細菌の両者
によって代表される広範囲の病原菌に対して活性である
。
に対して有用な抗生物質IIを、中間体Iを経由して供
給することが本発明の目的である。これらの抗生物質は
エス・アウレウス(S. aureus)、ストレプ・
ピオゲネス(Strep. pyogenes)及びビ
ー・ズブチリス(B. subtilis)のようなグ
ラム陽性細菌及びイー・コリ(E. coli)、シュ
ードモナス(Pseudomonas)、プロテウス
モルガニイ(Proteus morganii)、
セラチア(Serratia) 及びクレブシエラ(K
lebsiella) のようなグラム陰性細菌の両者
によって代表される広範囲の病原菌に対して活性である
。
【0006】このような最終生産物IIは、以下の係属
中の米国特許及び米国特許出願中で開示及び特許請求さ
れている。 1) 米国特許第4,232,036 号2) 米
国特許出願・出願番号第99,275号(1979年1
2月3日出願) 3) 米国特許出願・出願番号第99,288号(1
979年12月3日出願) 4) 米国特許第4,218,462 号前述の係属
中の特許出願及び発行された特許が、置換基R1 、R
2 、R3 、R4 及びR5 を定義している範囲、
R8 及びこれらの最終生成物IIの有用性を定義して
いる範囲を本特許中に引用文献として取り入れている。
中の米国特許及び米国特許出願中で開示及び特許請求さ
れている。 1) 米国特許第4,232,036 号2) 米
国特許出願・出願番号第99,275号(1979年1
2月3日出願) 3) 米国特許出願・出願番号第99,288号(1
979年12月3日出願) 4) 米国特許第4,218,462 号前述の係属
中の特許出願及び発行された特許が、置換基R1 、R
2 、R3 、R4 及びR5 を定義している範囲、
R8 及びこれらの最終生成物IIの有用性を定義して
いる範囲を本特許中に引用文献として取り入れている。
【0007】本発明の工程は以下の反応式に便宜的に集
約される。
約される。
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【0008】図式に関して説明すると、2→3の酸化は
、塩化メチレン、メタノール、クロロホルム等の溶媒中
、オゾン等の酸化剤を用い、−100°から0℃の温度
で0.1から4時間2を処理し、次いで粗生成物をm−
クロロ過安息香酸、過酸化水素、過酢酸等の酸化剤によ
り、0℃から100℃の温度に於て1ないし100時間
処理することにより遂行される。R°は容易に除去され
る保護基であり、以下に定義する通りである。
、塩化メチレン、メタノール、クロロホルム等の溶媒中
、オゾン等の酸化剤を用い、−100°から0℃の温度
で0.1から4時間2を処理し、次いで粗生成物をm−
クロロ過安息香酸、過酸化水素、過酢酸等の酸化剤によ
り、0℃から100℃の温度に於て1ないし100時間
処理することにより遂行される。R°は容易に除去され
る保護基であり、以下に定義する通りである。
【0009】3→4の付加は、1,1′−カルボニルジ
イミダゾール等を用い、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、アセトニトリル等の溶媒中、0から70℃の
温度で3を処理し、次いで0から70℃の温度に於て1
.1ないし3.0当量の(R7O2CCH2CO2)2
Mgを添加して1ないし48時間処理することにより
実行される。R7 は薬学的に許容されるエステル部分
又はp−ニトロベンジル、ベンジル等の容易に除去され
るカルボキシル基の保護基である。
イミダゾール等を用い、テトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、アセトニトリル等の溶媒中、0から70℃の
温度で3を処理し、次いで0から70℃の温度に於て1
.1ないし3.0当量の(R7O2CCH2CO2)2
Mgを添加して1ないし48時間処理することにより
実行される。R7 は薬学的に許容されるエステル部分
又はp−ニトロベンジル、ベンジル等の容易に除去され
るカルボキシル基の保護基である。
【0010】保護基R°の除去(4→5)は(R°=t
−ブチルジメチルシリルの場合)、メタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶触中、塩
酸、硫酸、酢酸等の酸の存在下、0から100℃の温度
に於て2ないし18時間4を酸加水分解することによっ
て実行される。ジアゾ化合物6は、5を CH3CN、
CH2Cl2、THF等の溶媒中、p−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニルアジド、メ
タンスルホニルアジド等のアジドを用い、トリエチルア
ミン、ピリジン、ジエチルアミン等の塩基の存在下、1
−50時間、0−50℃で処理することにより5から調
製される。環化(6→7)は、ベンゼン、トルエン、T
HF、シクロヘキサン、酢酸エチル等の溶媒中、25か
ら110℃の温度に於て、6を1−5時間、ビス(アセ
チルアセトナート)Cu(II)〔Cu(acac)2
〕、CuSO4 、Cu粉末、 Rh(OAc)2
又は Pd(OAc)2 等の触媒の存在下処理するこ
とによって実行される。別法として、環化は6をパイレ
ックスフィルター(300nm以上の波長)を通して、
ベンゼン CCl4 、ジエチルエーテル等の溶媒中、
0−25℃の温度で0.5から2時間照射することによ
って実行される。〔“OAc”=アセテート〕
−ブチルジメチルシリルの場合)、メタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶触中、塩
酸、硫酸、酢酸等の酸の存在下、0から100℃の温度
に於て2ないし18時間4を酸加水分解することによっ
て実行される。ジアゾ化合物6は、5を CH3CN、
CH2Cl2、THF等の溶媒中、p−カルボキシベン
ゼンスルホニルアジド、トルエンスルホニルアジド、メ
タンスルホニルアジド等のアジドを用い、トリエチルア
ミン、ピリジン、ジエチルアミン等の塩基の存在下、1
−50時間、0−50℃で処理することにより5から調
製される。環化(6→7)は、ベンゼン、トルエン、T
HF、シクロヘキサン、酢酸エチル等の溶媒中、25か
ら110℃の温度に於て、6を1−5時間、ビス(アセ
チルアセトナート)Cu(II)〔Cu(acac)2
〕、CuSO4 、Cu粉末、 Rh(OAc)2
又は Pd(OAc)2 等の触媒の存在下処理するこ
とによって実行される。別法として、環化は6をパイレ
ックスフィルター(300nm以上の波長)を通して、
ベンゼン CCl4 、ジエチルエーテル等の溶媒中、
0−25℃の温度で0.5から2時間照射することによ
って実行される。〔“OAc”=アセテート〕
【001
1】脱離基Xの導入(7→8)は、無水p−トルエンス
ルホン酸、無水p−ニトロフェニルスルホン酸、無水2
,4,6−トリイソプロピルフェニルスルホン酸、無水
メタンスルホン酸、トルエンスルホニルクロリド、p−
ブロモフェニルスルホニルクロリド、ジフェニルクロロ
ホスフェート等のアシル化剤PXによってケトエステル
7をアシル化することによって行われる。式中、Xはト
ルエンスルホニルオキシ、p−ニトロフェニルスルホニ
ルオキシ、メタンスルホニルオキシ、p−ブロモフェニ
ルスルホニルオキシ等の相当する脱離基、及び常法によ
って導入され、当業界に於て周知の他の脱離基である。 そのような脱離Xの代表的な例は、前述したものも含め
て以下に示すものがある。
1】脱離基Xの導入(7→8)は、無水p−トルエンス
ルホン酸、無水p−ニトロフェニルスルホン酸、無水2
,4,6−トリイソプロピルフェニルスルホン酸、無水
メタンスルホン酸、トルエンスルホニルクロリド、p−
ブロモフェニルスルホニルクロリド、ジフェニルクロロ
ホスフェート等のアシル化剤PXによってケトエステル
7をアシル化することによって行われる。式中、Xはト
ルエンスルホニルオキシ、p−ニトロフェニルスルホニ
ルオキシ、メタンスルホニルオキシ、p−ブロモフェニ
ルスルホニルオキシ等の相当する脱離基、及び常法によ
って導入され、当業界に於て周知の他の脱離基である。 そのような脱離Xの代表的な例は、前述したものも含め
て以下に示すものがある。
【化9】
【化10】
典型的には、脱離基Xを導入する上述のアシル化反応は
、塩化メチレン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等の溶媒中、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチ
ルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等の塩基の存在
下、−20から40℃の温度に於て、0.5から5時間
実行する。中間体8の脱離基Xはハロゲンであることも
可能である。ハロゲン脱離基は、φ3PCl2 、φ3
PBr2 、 (φO)3PBr2 、塩化オキザリル
、 PBr3 等のハロゲン化剤を用いて、CH2Cl
2、 CH3CN、THF等の溶媒中、ジイソプロピル
エチルアミン、トリエチルアミン又は4−ジメチルアミ
ノピリジン等の塩基の存在下7を処理することにより導
入される。〔φ=フェニル〕
、塩化メチレン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド等の溶媒中、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチ
ルアミン、4−ジメチルアミノピリジン等の塩基の存在
下、−20から40℃の温度に於て、0.5から5時間
実行する。中間体8の脱離基Xはハロゲンであることも
可能である。ハロゲン脱離基は、φ3PCl2 、φ3
PBr2 、 (φO)3PBr2 、塩化オキザリル
、 PBr3 等のハロゲン化剤を用いて、CH2Cl
2、 CH3CN、THF等の溶媒中、ジイソプロピル
エチルアミン、トリエチルアミン又は4−ジメチルアミ
ノピリジン等の塩基の存在下7を処理することにより導
入される。〔φ=フェニル〕
【0012】反応8→9は
、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド等
の溶媒中、ほぼ当量ないし過剰量のメルカプタン試薬
HSR8 (R8 は上で定義した通りである)の存在
下8を処理することによって実行される。代表的なメル
カプタン試薬は、HSCH2CH2NHR8′である。 R8′は水素、又は炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど
の塩基の存在下、−40℃から25℃の温度で、1ない
し72時間処理することによって容易に除去し得るp−
ニトロベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベンジル
オキシカルボニル等のN−保護基である。メルカプタン
試薬HSCH2CH2NHR8′は、典型的には、所望
する酸クロリドの存在下、炭酸水素ナトリウム、水酸化
ナトリウム等の塩基の存在下、水性ジエチルエーテル、
水性ジオキサン、水性アセトン等の溶媒中、0から25
℃の温度に於て0.5から4時間アミノエチルメルカプ
タンを処理することによて調製される。
、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド等
の溶媒中、ほぼ当量ないし過剰量のメルカプタン試薬
HSR8 (R8 は上で定義した通りである)の存在
下8を処理することによって実行される。代表的なメル
カプタン試薬は、HSCH2CH2NHR8′である。 R8′は水素、又は炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム
、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど
の塩基の存在下、−40℃から25℃の温度で、1ない
し72時間処理することによって容易に除去し得るp−
ニトロベンジルオキシカルボニル、o−ニトロベンジル
オキシカルボニル等のN−保護基である。メルカプタン
試薬HSCH2CH2NHR8′は、典型的には、所望
する酸クロリドの存在下、炭酸水素ナトリウム、水酸化
ナトリウム等の塩基の存在下、水性ジエチルエーテル、
水性ジオキサン、水性アセトン等の溶媒中、0から25
℃の温度に於て0.5から4時間アミノエチルメルカプ
タンを処理することによて調製される。
【0013】最終脱保護段階9→IIは、加水分解又は
水素添加等の常法の手段によって遂行される。典型的に
は、ジオキサン−水−エタノール、テトラヒドロフラン
−水性リン酸2カリウム−イソプロパノール等の溶媒中
、9を1ないし4気圧の水素圧のもとで、パラジウム炭
素、水酸化パラジウム等の水素添加触媒の存在下、0か
ら50℃の温度で、0.5から4時間処理するとIIが
得られる。図式Iに関連して、モノ置換中間体物質3(
R2 =H)の調製に以下の反応図式もまた採用される
。
水素添加等の常法の手段によって遂行される。典型的に
は、ジオキサン−水−エタノール、テトラヒドロフラン
−水性リン酸2カリウム−イソプロパノール等の溶媒中
、9を1ないし4気圧の水素圧のもとで、パラジウム炭
素、水酸化パラジウム等の水素添加触媒の存在下、0か
ら50℃の温度で、0.5から4時間処理するとIIが
得られる。図式Iに関連して、モノ置換中間体物質3(
R2 =H)の調製に以下の反応図式もまた採用される
。
【化11】
【化12】
【化13】
【0014】3(式中、R2 =H)を調製するための
上述の図式に関して云えば、4−(1−置換−2−アセ
トキシビニル)アゼチジノン−2−オン(3′)は、例
えば(R1 = CH3):クロロスルホニルイソシア
ネート及び1−アセトキシ−2−メチルブタジエンのよ
うなアシルオキシブタジエン(1′)を無水ジエチルエ
ーテル等の溶媒中、約−30°から0℃の温度に於て窒
素雰囲気下に反応させることによって調製される。反応
中間体2′は、加水分解によって3′に変換される。3
′を還元して4−(1−メチル−2−アセトキシエチル
)−2−アゼチジノン(4′)を供給するための反応は
、白金、パラジウム又はそれらの酸化物等の触媒の存在
下、1ないし20気圧の水素圧のもとで、エタノール、
酢酸エチル等の溶媒中、0°から25℃の温度で、5分
ないし1時間水素添加するといった常法の手段によって
実行される。4−(2−ヒドロキシ−1−メチル−エチ
ル)−2−アゼチジノン化合物5は、4′の加水分解に
よって入手される。8−オキソ−2,2,5−トリメチ
ル−3−オキサ−1−アザビシクロ〔4・2・0〕オク
タン化合物6′は、3弗化ボロンエーテレートなどの触
媒の存在下、塩化メチレン等の溶媒中、0℃から40℃
の温度に於て1ないし40分間、5′を2,2−ジメト
キシプロパンで処理することによって得られる。6′の
アルキル化によって7′が得られる。典型的には、6′
はリチウムイソプロピルアミド、ナトリウムヒドリド、
フェニルリチウム、ブチルリチウム等の強塩基を用いて
、テトラヒドロフラン(THF)、エーテル、ジメトキ
シエタン等の溶媒中、−80°から0℃の温度で処理さ
れる。この際適当なアルキル化剤R6X(R6 は上述
した通りであり、Xは塩素、又は臭素である。別法とし
てアルキル化剤はR6 トシレート、R6 −メシレー
ト又はアセトアルデヒド等のアルデヒド又はケトンであ
っても良い)を加えて、モノアルキル化物7′を得る。 所望する時は、アルキル化工程6′→7′を繰り返すこ
とによって、7′からジアルキル化物を得ることが可能
である。
上述の図式に関して云えば、4−(1−置換−2−アセ
トキシビニル)アゼチジノン−2−オン(3′)は、例
えば(R1 = CH3):クロロスルホニルイソシア
ネート及び1−アセトキシ−2−メチルブタジエンのよ
うなアシルオキシブタジエン(1′)を無水ジエチルエ
ーテル等の溶媒中、約−30°から0℃の温度に於て窒
素雰囲気下に反応させることによって調製される。反応
中間体2′は、加水分解によって3′に変換される。3
′を還元して4−(1−メチル−2−アセトキシエチル
)−2−アゼチジノン(4′)を供給するための反応は
、白金、パラジウム又はそれらの酸化物等の触媒の存在
下、1ないし20気圧の水素圧のもとで、エタノール、
酢酸エチル等の溶媒中、0°から25℃の温度で、5分
ないし1時間水素添加するといった常法の手段によって
実行される。4−(2−ヒドロキシ−1−メチル−エチ
ル)−2−アゼチジノン化合物5は、4′の加水分解に
よって入手される。8−オキソ−2,2,5−トリメチ
ル−3−オキサ−1−アザビシクロ〔4・2・0〕オク
タン化合物6′は、3弗化ボロンエーテレートなどの触
媒の存在下、塩化メチレン等の溶媒中、0℃から40℃
の温度に於て1ないし40分間、5′を2,2−ジメト
キシプロパンで処理することによって得られる。6′の
アルキル化によって7′が得られる。典型的には、6′
はリチウムイソプロピルアミド、ナトリウムヒドリド、
フェニルリチウム、ブチルリチウム等の強塩基を用いて
、テトラヒドロフラン(THF)、エーテル、ジメトキ
シエタン等の溶媒中、−80°から0℃の温度で処理さ
れる。この際適当なアルキル化剤R6X(R6 は上述
した通りであり、Xは塩素、又は臭素である。別法とし
てアルキル化剤はR6 トシレート、R6 −メシレー
ト又はアセトアルデヒド等のアルデヒド又はケトンであ
っても良い)を加えて、モノアルキル化物7′を得る。 所望する時は、アルキル化工程6′→7′を繰り返すこ
とによって、7′からジアルキル化物を得ることが可能
である。
【0015】8′→3の変換は酸化によって行う。最も
好ましい酸化は、8′をアセトン、ベンゼン、ヘキサン
等の溶媒中に、0℃から50℃の温度に於て懸濁し、ジ
ョーンズ試薬等の酸化剤によって処理することによって
遂行される。別法として、8′を50%トリクロロ酢酸
/水を用いて、0°から50℃に於て10分から1時間
処理して中間体アルコールを与え、次いでこれをジョー
ンズ試薬によって3に酸化することによって、化合物3
は8′から調製可能である。N−保護基R°は、最初に
図式Iに示したようにして、次いで16→17の工程を
行うことによって導入することが可能である。R°もま
た定義してある。
好ましい酸化は、8′をアセトン、ベンゼン、ヘキサン
等の溶媒中に、0℃から50℃の温度に於て懸濁し、ジ
ョーンズ試薬等の酸化剤によって処理することによって
遂行される。別法として、8′を50%トリクロロ酢酸
/水を用いて、0°から50℃に於て10分から1時間
処理して中間体アルコールを与え、次いでこれをジョー
ンズ試薬によって3に酸化することによって、化合物3
は8′から調製可能である。N−保護基R°は、最初に
図式Iに示したようにして、次いで16→17の工程を
行うことによって導入することが可能である。R°もま
た定義してある。
【0016】
出発物質1及び2の調製
───────────
出発試薬1に関しては、その調製は一般的には J.
Amer. Chem. Soc. 74,661(
1952)中 E. B. Reid 及び T. E
. Gompfによって、 J. Org.Chem.
23, 1063(1958)中 R. Ciola
及び K. L. Burwell, Jr. によっ
て、及びベルギー特許 632,193(1963)中
R. Polster 及び E. Schorfに
よって記載されている。 以下の図式は1の調製を要約したものである。
Amer. Chem. Soc. 74,661(
1952)中 E. B. Reid 及び T. E
. Gompfによって、 J. Org.Chem.
23, 1063(1958)中 R. Ciola
及び K. L. Burwell, Jr. によっ
て、及びベルギー特許 632,193(1963)中
R. Polster 及び E. Schorfに
よって記載されている。 以下の図式は1の調製を要約したものである。
【化14】
【0017】上の図式に関して云えば、ジエステル12
は2塩基酸11を塩化チオニルによって2時間還流処理
し、次いでエタノールと80℃で4時間反応させること
によって調製される。エーテル中、リチウムアルミニウ
ムヒドリドを用いて4時間還流することにより、ジエス
テル12を還元し、次いで10% NaOH を用いて
加水分解することによりジオール13が得られる。これ
を更に塩化チオニルと反応させると2塩化物14が得ら
れる。 2塩化物14は、別法として15は塩化アルミニウムの
存在下エチレンで処理することにより調製可能である。 2塩化物14をポリエチレングリコール中2−メチルキ
ノリン、DBU又は水酸化ナトリウム等の塩基によって
処理すると、期待した3−置換1,4−ペンタジエン1
が得られる。2の調製は以下の図式に要約してある。
は2塩基酸11を塩化チオニルによって2時間還流処理
し、次いでエタノールと80℃で4時間反応させること
によって調製される。エーテル中、リチウムアルミニウ
ムヒドリドを用いて4時間還流することにより、ジエス
テル12を還元し、次いで10% NaOH を用いて
加水分解することによりジオール13が得られる。これ
を更に塩化チオニルと反応させると2塩化物14が得ら
れる。 2塩化物14は、別法として15は塩化アルミニウムの
存在下エチレンで処理することにより調製可能である。 2塩化物14をポリエチレングリコール中2−メチルキ
ノリン、DBU又は水酸化ナトリウム等の塩基によって
処理すると、期待した3−置換1,4−ペンタジエン1
が得られる。2の調製は以下の図式に要約してある。
【化15】
【0018】上の図式に関して云えば、置換アゼチジノ
ン16は、3−置換1,4−ペンタジエン1とクロロス
ルホニルイソシアネートを25℃から60℃に於て加圧
容器中、3−12日間反応させ、次いで生成した混合物
を、pH6.5−7.5の亜硫酸ナトリウム水溶液によ
り0℃から25℃、5分から60分間加水分解すること
によって調製される。アゼチジノン16を変換して(1
6→17)保護基R°を導入する。この保護基は、例え
ばt−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシ
リル、トリフェニルシリル、イソプロピルジメチルシリ
ル等の3有機シリル基、又は例えば3,4−ジメトキシ
ベンジル等であることが可能である。シリル化保護が好
ましく、典型的には、R°は16をジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド、テト
ラヒドロフラン等の溶媒中、t−ブチルメチルクロロシ
ラン、t−ブチルジフェニルクロロシラン、トリフェニ
ルクロロシラン等のシリル化剤を用い、−20°から2
5℃の温度に於て、0.5から24時間、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン又はイミダゾール等
の塩基の存在下処理することにより導入される。
ン16は、3−置換1,4−ペンタジエン1とクロロス
ルホニルイソシアネートを25℃から60℃に於て加圧
容器中、3−12日間反応させ、次いで生成した混合物
を、pH6.5−7.5の亜硫酸ナトリウム水溶液によ
り0℃から25℃、5分から60分間加水分解すること
によって調製される。アゼチジノン16を変換して(1
6→17)保護基R°を導入する。この保護基は、例え
ばt−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシ
リル、トリフェニルシリル、イソプロピルジメチルシリ
ル等の3有機シリル基、又は例えば3,4−ジメトキシ
ベンジル等であることが可能である。シリル化保護が好
ましく、典型的には、R°は16をジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリル、ヘキサメチルホスホラミド、テト
ラヒドロフラン等の溶媒中、t−ブチルメチルクロロシ
ラン、t−ブチルジフェニルクロロシラン、トリフェニ
ルクロロシラン等のシリル化剤を用い、−20°から2
5℃の温度に於て、0.5から24時間、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン又はイミダゾール等
の塩基の存在下処理することにより導入される。
【0019】17のアルキル化は、18を与える。典型
的には、17をリチウムジイソプロピルアミド、ナトリ
ウムヒドリド、フェニルリチウム又はブチルリチウム等
の強塩基を用いて、テトラヒドロフラン(THF)、エ
ーテル、ジメトキシエタン等の溶媒中、−80℃から0
℃の温度で処理する。この際適当なアルキル化剤、R6
X (R6 は上で定義した通りであり、Xは沃素、塩
素、又は臭素である。別法として、アルキル化剤はR6
−トシレート、R6 −メシレート又はアセトアルデ
ヒド等のアルデヒド又はケトンであることが可能である
。)を加え、モノ−アルキル化物18を供給する。所望
する時は、アルキル化工程17→18を繰り返すことに
よりジアルキル化物2を、18から得ることが可能であ
る。
的には、17をリチウムジイソプロピルアミド、ナトリ
ウムヒドリド、フェニルリチウム又はブチルリチウム等
の強塩基を用いて、テトラヒドロフラン(THF)、エ
ーテル、ジメトキシエタン等の溶媒中、−80℃から0
℃の温度で処理する。この際適当なアルキル化剤、R6
X (R6 は上で定義した通りであり、Xは沃素、塩
素、又は臭素である。別法として、アルキル化剤はR6
−トシレート、R6 −メシレート又はアセトアルデ
ヒド等のアルデヒド又はケトンであることが可能である
。)を加え、モノ−アルキル化物18を供給する。所望
する時は、アルキル化工程17→18を繰り返すことに
よりジアルキル化物2を、18から得ることが可能であ
る。
【0020】本発明の前述の記述に於て、適当な試薬
HSR8 (8→9)は、代表的なものが以下の表に示
してある。 HSCH2CH2CH2NHCO2PNB 、PNBO
2CNHCH2CH2CH2SX 、
HSR8 (8→9)は、代表的なものが以下の表に示
してある。 HSCH2CH2CH2NHCO2PNB 、PNBO
2CNHCH2CH2CH2SX 、
【化16】
【0021】HSCH2CH2NHCO2PNB、HS
C(CH3)2CH2NHCO2PNB、HSφ、 HSCH2 φ、 HSC(CH3)3 、 HSC φ3 、
C(CH3)2CH2NHCO2PNB、HSφ、 HSCH2 φ、 HSC(CH3)3 、 HSC φ3 、
【化17】
【0022】及び類似物(φ=フェニル:及びPBN=
p−ニトロベンジル)、 CH3SH 、 CH3CH2SH、 CH3(CH2)2SH 、 (CH3)2CHSH、 CH3(CH2)3SH 、 (CH3)2CH(CH2)2SH、 CH2 ≡ CHCH2SH、 CH≡CCH2SH、
p−ニトロベンジル)、 CH3SH 、 CH3CH2SH、 CH3(CH2)2SH 、 (CH3)2CHSH、 CH3(CH2)3SH 、 (CH3)2CH(CH2)2SH、 CH2 ≡ CHCH2SH、 CH≡CCH2SH、
【化18】
【0023】φ(CH2)3SH(φ=フェニル)、φ
(CH2)2SH 、 HO(CH2)2SH、 H2N(CH2)2SH 、 H2N(CH2)3SH 、 CH3(CH2)2NH(CH2)2SH 、
(CH2)2SH 、 HO(CH2)2SH、 H2N(CH2)2SH 、 H2N(CH2)3SH 、 CH3(CH2)2NH(CH2)2SH 、
【化19
】
】
【0024】(CH3)2N(CH2)2SH 、(C
H3CH2)2N(CH2)2SH、HO2C(CH2
)2SH、 φCH2SH 、
H3CH2)2N(CH2)2SH、HO2C(CH2
)2SH、 φCH2SH 、
【化20】
【0025】同様に最終的な環の位置6位にR6 及び
/或はR7 を導入する(17→18→2)ための適当
なアルキル化剤は: φCH2CHO、 φCH2CH2CHO 、 CH2O CH3I、 φCH2B、 CH3COCH3、 である。本発明の化合物Iに関しては
/或はR7 を導入する(17→18→2)ための適当
なアルキル化剤は: φCH2CHO、 φCH2CH2CHO 、 CH2O CH3I、 φCH2B、 CH3COCH3、 である。本発明の化合物Iに関しては
【化21】
【0026】R1 及びR2 に対して最も好ましいも
のには次のものが含まれる。 エチル、 プロピル、 イソプロピル、 シクロプロピル、 フェニル、 ベンジル、 スピローシクロプロピル R6 及びR7 に対する最も好ましい基は次の通りで
ある。R6 =Hであり、R7 はヒドロキシメチル、
1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、2−
ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシエチルから選ばれ
る。R8の最も好ましいものは、アミノエチルチオ、ア
ミノプロピルチオ、アミノシクロプロピルチオ、アミノ
イソプロピルチオ、アミジノイソプロピルチオ及びグア
ニジノエチルチオである。
のには次のものが含まれる。 エチル、 プロピル、 イソプロピル、 シクロプロピル、 フェニル、 ベンジル、 スピローシクロプロピル R6 及びR7 に対する最も好ましい基は次の通りで
ある。R6 =Hであり、R7 はヒドロキシメチル、
1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、2−
ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシエチルから選ばれ
る。R8の最も好ましいものは、アミノエチルチオ、ア
ミノプロピルチオ、アミノシクロプロピルチオ、アミノ
イソプロピルチオ、アミジノイソプロピルチオ及びグア
ニジノエチルチオである。
【0027】保護基として使用される好ましいエステル
は、R3′がベンジル、p−ニトロベンジル、o−ニト
ロベンジル、t−ブチル、ブロモ−t−ブチル、t−ブ
チルジメチルシリル、トリメチルシリル、トリクロロエ
チルであるもの、或はR3′がピバロイルオキシメチル
、アリル、メタアリル、(2−メチルチオ)−エチル、
3−メチル−2−ブテニル、p−t−ブチルベンジル、
5−インダニル、3−フタリジル等の薬学的に許容され
るエステルであるものである。本発明において、「容易
に除去しうるカルボキシル遮蔽基」とは、カルボキシル
基の酸性水素に代わる通常の置換基を意味し、それによ
りそのカルボキシル基が、全合成の種々の工程中で使用
されるどの試薬とも反応することを防ぐものである。こ
のようなカルボキシル基の遮蔽は、カルボキシル基を含
む、好ましくない競争反応が生ずるのを防ぐ。従って、
これらの化合物は、すべて中間体である。通常の遮蔽置
換基もまた、容易に除去しうるものである。このことは
、それが選択的に除去可能であり、即ち、カルバペネム
核及び側鎖上で行われる普通の反応操作の間は除去され
ないものであり、一方、カルバペネム核の基本骨格及び
その上にある未保護状態の置換基を不安定にするまでに
は過酷ではない反応操作により、除去しうるものである
。本発明の新規なカルバペネム化合物の薬学的に許容し
うるエステル類は、薬学化学者にとっては極めて明かな
ものである。例えば米国特許第 4,309,438号
の第9欄61行乃至12欄51行に詳しく記載されてい
るものがある。 この米国特許をここに挿入する。このような薬学的に許
容しうるエステルには、生理的条件下で、加水分解され
るもの、例えばピバロイルオキシメチル、アセトキシメ
チル、フタリジル、インダニルおよびメトキシメチルな
どが含まれる。また、米国特許第 4,479,947
号に、詳細に記載されているものも含む。この米国特許
もここに挿入する。本発明の新規なカルバペネム化合物
は、YがCOOR5(式中、R5は容易に除去しうるカ
ルボキシル遮蔽基である)で表わされる構造をとること
ができる。このような通常の遮蔽基は、以下に示される
合成操作の間、カルボキシル基を保護的に遮蔽するため
に用いられる既知のエステル基である。これらの通常の
遮蔽基は、容易に除去可能である。即ち、それらは、必
要に応じて、切断あるいは分子中の他の部分の分裂を生
じない操作により除去できるのである。このような操作
には、化学的な加水分解や酵素的な加水分解、温和な条
件下での化学的な還元剤との処理、そして接触水素添加
などが含まれる。このようなエステル保護基には、ベン
ズヒドリル、p−ニトロベンジル、トリクロロエチル、
トリメチルシリルのようなシリル、o−ニトロベンジル
、4−ピリジルメチル、そしてメチル、エチル、または
t−ブチルのようなC1−C6アルキルなどが含まれる
。本発明によって入手し得る最終化合物IIは、種々の
グラム陽性及びグラム陰性細菌に有効な価値ある抗生物
質であり、従って人間及び家畜薬として有用である。そ
のような感受性の細菌の代表的なものとして、スタフイ
ロコツカス アウレウス(Staphylococc
us aureus)、エシエリシア コリ(Esc
herichia coli) 、クレブシエラ ニ
ューモニア(Klebsiella pneumoni
a) 、セラチア(Serratia) 、サルモネラ
チホーサ(Salmonella typhosa
) 、シュードモナス(Pseudomonas)及び
バクテリウム プロテウス(Bacterium p
roteus)があげられる。生成した化合物は、更に
動物飼料の添加剤として、食品の保存剤として、及び殺
菌剤として使用することが可能である。例えば、これら
化合物を水溶液組成物中0.1から100ppm の範
囲の濃度て使用し、医学及び歯科用の器具上での有害な
細菌の生育を阻止し、殺菌し、工業的応用面、例えば水
性塗料及び製紙の白水中での有害な細菌の生育を阻止す
るための殺菌剤として使用することが可能である。
は、R3′がベンジル、p−ニトロベンジル、o−ニト
ロベンジル、t−ブチル、ブロモ−t−ブチル、t−ブ
チルジメチルシリル、トリメチルシリル、トリクロロエ
チルであるもの、或はR3′がピバロイルオキシメチル
、アリル、メタアリル、(2−メチルチオ)−エチル、
3−メチル−2−ブテニル、p−t−ブチルベンジル、
5−インダニル、3−フタリジル等の薬学的に許容され
るエステルであるものである。本発明において、「容易
に除去しうるカルボキシル遮蔽基」とは、カルボキシル
基の酸性水素に代わる通常の置換基を意味し、それによ
りそのカルボキシル基が、全合成の種々の工程中で使用
されるどの試薬とも反応することを防ぐものである。こ
のようなカルボキシル基の遮蔽は、カルボキシル基を含
む、好ましくない競争反応が生ずるのを防ぐ。従って、
これらの化合物は、すべて中間体である。通常の遮蔽置
換基もまた、容易に除去しうるものである。このことは
、それが選択的に除去可能であり、即ち、カルバペネム
核及び側鎖上で行われる普通の反応操作の間は除去され
ないものであり、一方、カルバペネム核の基本骨格及び
その上にある未保護状態の置換基を不安定にするまでに
は過酷ではない反応操作により、除去しうるものである
。本発明の新規なカルバペネム化合物の薬学的に許容し
うるエステル類は、薬学化学者にとっては極めて明かな
ものである。例えば米国特許第 4,309,438号
の第9欄61行乃至12欄51行に詳しく記載されてい
るものがある。 この米国特許をここに挿入する。このような薬学的に許
容しうるエステルには、生理的条件下で、加水分解され
るもの、例えばピバロイルオキシメチル、アセトキシメ
チル、フタリジル、インダニルおよびメトキシメチルな
どが含まれる。また、米国特許第 4,479,947
号に、詳細に記載されているものも含む。この米国特許
もここに挿入する。本発明の新規なカルバペネム化合物
は、YがCOOR5(式中、R5は容易に除去しうるカ
ルボキシル遮蔽基である)で表わされる構造をとること
ができる。このような通常の遮蔽基は、以下に示される
合成操作の間、カルボキシル基を保護的に遮蔽するため
に用いられる既知のエステル基である。これらの通常の
遮蔽基は、容易に除去可能である。即ち、それらは、必
要に応じて、切断あるいは分子中の他の部分の分裂を生
じない操作により除去できるのである。このような操作
には、化学的な加水分解や酵素的な加水分解、温和な条
件下での化学的な還元剤との処理、そして接触水素添加
などが含まれる。このようなエステル保護基には、ベン
ズヒドリル、p−ニトロベンジル、トリクロロエチル、
トリメチルシリルのようなシリル、o−ニトロベンジル
、4−ピリジルメチル、そしてメチル、エチル、または
t−ブチルのようなC1−C6アルキルなどが含まれる
。本発明によって入手し得る最終化合物IIは、種々の
グラム陽性及びグラム陰性細菌に有効な価値ある抗生物
質であり、従って人間及び家畜薬として有用である。そ
のような感受性の細菌の代表的なものとして、スタフイ
ロコツカス アウレウス(Staphylococc
us aureus)、エシエリシア コリ(Esc
herichia coli) 、クレブシエラ ニ
ューモニア(Klebsiella pneumoni
a) 、セラチア(Serratia) 、サルモネラ
チホーサ(Salmonella typhosa
) 、シュードモナス(Pseudomonas)及び
バクテリウム プロテウス(Bacterium p
roteus)があげられる。生成した化合物は、更に
動物飼料の添加剤として、食品の保存剤として、及び殺
菌剤として使用することが可能である。例えば、これら
化合物を水溶液組成物中0.1から100ppm の範
囲の濃度て使用し、医学及び歯科用の器具上での有害な
細菌の生育を阻止し、殺菌し、工業的応用面、例えば水
性塗料及び製紙の白水中での有害な細菌の生育を阻止す
るための殺菌剤として使用することが可能である。
【0028】これらの抗生物質は単独、或は種々の薬学
的調製物中の一活性成分として使用することが可能であ
る。これら抗生物質及び相当する塩は、カプセル形とし
て、或は、錠剤、粉剤、溶液又は懸濁液又はエリキシル
として使用することが可能である。これら抗生物質は経
口的、静脈又は筋肉内投与が可能である。経口投与用の
錠剤及びカプセルは、単位投薬形にすることが可能であ
り、結合剤(例えば、シロップ、アラビアゴム、ゼラチ
ン、ソルビトール、トラガカント又はポリビニルピロリ
ドン等)、充填剤(例えば、乳糖、砂糖、とうもろこし
澱粉、リン酸カルシウム、ソルビトール又はグリシン)
、潤滑剤(例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、
ポリエチレングリコール、シリカ)、分散剤(例えば、
ジャガイモ澱粉)又は許容される湿潤剤(ラウリル硫酸
ナトリウム等)などの常法の補形薬を含有することが可
能である。錠剤は当業界周知の方法に従って被覆するこ
とが可能である。経口用液状組成物は、水性又は油性懸
濁液、溶液、乳化液又はシロップの形をとることが可能
であり、或は使用前に水又は他の適当な媒体によって再
構成するための乾燥製品とすることも可能である。 そのような液状調製物は、懸濁剤〔例えば、ソルビトー
ル、シロップ、メチルセルロース、グルコース/糖シロ
ップ、ゼラチン、ヒドロキシメチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル
、又は水素付加した食用油(アーモンド油、分画したコ
コナッツ油など)、油状エステル、プロピレングリコー
ル又はエチルアルコールなど〕又は保存剤(例えば、メ
チル又はプロピルp−ヒドロキシベンゾエート又はソル
ビン酸など)を含有することが可能である。
的調製物中の一活性成分として使用することが可能であ
る。これら抗生物質及び相当する塩は、カプセル形とし
て、或は、錠剤、粉剤、溶液又は懸濁液又はエリキシル
として使用することが可能である。これら抗生物質は経
口的、静脈又は筋肉内投与が可能である。経口投与用の
錠剤及びカプセルは、単位投薬形にすることが可能であ
り、結合剤(例えば、シロップ、アラビアゴム、ゼラチ
ン、ソルビトール、トラガカント又はポリビニルピロリ
ドン等)、充填剤(例えば、乳糖、砂糖、とうもろこし
澱粉、リン酸カルシウム、ソルビトール又はグリシン)
、潤滑剤(例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、
ポリエチレングリコール、シリカ)、分散剤(例えば、
ジャガイモ澱粉)又は許容される湿潤剤(ラウリル硫酸
ナトリウム等)などの常法の補形薬を含有することが可
能である。錠剤は当業界周知の方法に従って被覆するこ
とが可能である。経口用液状組成物は、水性又は油性懸
濁液、溶液、乳化液又はシロップの形をとることが可能
であり、或は使用前に水又は他の適当な媒体によって再
構成するための乾燥製品とすることも可能である。 そのような液状調製物は、懸濁剤〔例えば、ソルビトー
ル、シロップ、メチルセルロース、グルコース/糖シロ
ップ、ゼラチン、ヒドロキシメチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ステアリン酸アルミニウムゲル
、又は水素付加した食用油(アーモンド油、分画したコ
コナッツ油など)、油状エステル、プロピレングリコー
ル又はエチルアルコールなど〕又は保存剤(例えば、メ
チル又はプロピルp−ヒドロキシベンゾエート又はソル
ビン酸など)を含有することが可能である。
【0029】注射用の組成物は、単位投薬形のアンプル
として、或は多重投与用の容器に入れて供給することが
可能である。組成物は油性又は水性媒体中の懸濁液、溶
液又は乳化液の形をとることが可能であり、懸濁剤、安
定剤及び/或は分散剤等の組成剤を含有することが可能
である。別法として、活性成分は、例えばピローゲンを
含まぬ滅菌した水等の適当な媒体を用いて再構成し得る
粉末の形とすることも可能である。
として、或は多重投与用の容器に入れて供給することが
可能である。組成物は油性又は水性媒体中の懸濁液、溶
液又は乳化液の形をとることが可能であり、懸濁剤、安
定剤及び/或は分散剤等の組成剤を含有することが可能
である。別法として、活性成分は、例えばピローゲンを
含まぬ滅菌した水等の適当な媒体を用いて再構成し得る
粉末の形とすることも可能である。
【0030】組成物は鼻及び喉の粘膜、又は気管支組織
を通して吸収させるのに適した形として調製することも
可能であり、便宜的に粉末、液体スプレー、吸入剤、舐
剤、喉ペイント等の形にすることも可能である。眼又は
耳に投薬するために、調製物を個々のカプセルとして、
液体又は半固体の形として提供することが可能であり、
或はドロップ等として使用することが可能である。局所
投与物は、軟こう、クリーム、ローション等の疎水性又
は親水性の組成物とすることが可能である。更に担体に
加えて、本組成物は安定剤、結合剤、抗酸化剤、保存剤
、潤滑剤、懸濁剤、粘性剤又は芳香剤等の他の成分を含
有することが可能である。これに加えて、他の活性成分
をこの組成物中に添加し、抗生物質活性をより広範囲の
ものとすることも可能である。家畜用薬品として、本組
成物は、例えば永続性の、或は速効性の乳腺内組成物用
に調製することが可能である。
を通して吸収させるのに適した形として調製することも
可能であり、便宜的に粉末、液体スプレー、吸入剤、舐
剤、喉ペイント等の形にすることも可能である。眼又は
耳に投薬するために、調製物を個々のカプセルとして、
液体又は半固体の形として提供することが可能であり、
或はドロップ等として使用することが可能である。局所
投与物は、軟こう、クリーム、ローション等の疎水性又
は親水性の組成物とすることが可能である。更に担体に
加えて、本組成物は安定剤、結合剤、抗酸化剤、保存剤
、潤滑剤、懸濁剤、粘性剤又は芳香剤等の他の成分を含
有することが可能である。これに加えて、他の活性成分
をこの組成物中に添加し、抗生物質活性をより広範囲の
ものとすることも可能である。家畜用薬品として、本組
成物は、例えば永続性の、或は速効性の乳腺内組成物用
に調製することが可能である。
【0031】投薬量は、主として治療すべき対象の一般
的な健康状態及び体重、投与経路、及び投与回数に依存
する。一般的感染には非経口的経路が好ましく、腸管感
染には経口投与が好ましい。一般に、1日の経口投与量
は対象の体重1kg当り約2ないし約600mgの活性
成分から成り、これを1日に1回又は複数回投与する。 成人1日当りの好ましい投薬用は、体重1kg当り活性
成分が約15ないし150mgの範囲内である。本組成
物は、例えば固体又は液体の経口的に摂取し得る形のよ
うな、いくつかの単位投薬形とすることが可能である。 単位投薬物当りの組成物は、液体或は固体にかかわらず
0.1%から99%の活性物質を含有することが可能で
あるが、好ましい範囲は約10−60%である。組成物
は一般に約15mgから約1500mgの活性成分を含
有するが、しかし一般的には約100mgから1000
mgの範囲内の投薬量を採用するのが好ましい。非経口
投与の場合、単位投薬物は通常やや酸性の滅菌水溶液中
の、又は溶液とすることを意図した可溶性の粉末を形を
した純粋な化合物である。
的な健康状態及び体重、投与経路、及び投与回数に依存
する。一般的感染には非経口的経路が好ましく、腸管感
染には経口投与が好ましい。一般に、1日の経口投与量
は対象の体重1kg当り約2ないし約600mgの活性
成分から成り、これを1日に1回又は複数回投与する。 成人1日当りの好ましい投薬用は、体重1kg当り活性
成分が約15ないし150mgの範囲内である。本組成
物は、例えば固体又は液体の経口的に摂取し得る形のよ
うな、いくつかの単位投薬形とすることが可能である。 単位投薬物当りの組成物は、液体或は固体にかかわらず
0.1%から99%の活性物質を含有することが可能で
あるが、好ましい範囲は約10−60%である。組成物
は一般に約15mgから約1500mgの活性成分を含
有するが、しかし一般的には約100mgから1000
mgの範囲内の投薬量を採用するのが好ましい。非経口
投与の場合、単位投薬物は通常やや酸性の滅菌水溶液中
の、又は溶液とすることを意図した可溶性の粉末を形を
した純粋な化合物である。
【0032】本発明の化合物(I)のカルボキシル基を
含めた特に好ましい薬学的に許容される塩及びエステル
は、係属中の米国特許出願番号第 861,314号(
1977年12月16日出願)中で開示及び特許請求さ
れている。この特許出願は、なかんずく、チエナマイシ
ンのカルボキシル基の薬学的に許容される塩及びエステ
ルを意図している。本発明で好ましいものは、正にこれ
らの塩及びエステル類であり、これらのものは本特許中
に引用文献として取り入れている。米国特許出願・出願
番号第 861,314号中で開示されているのと同様
の方法によって調製される。例えば、特に好ましい塩に
はナトリウム、カリウム、アンモニウム等が含まれ、特
に好ましいエステルにはピバロイルメチル、p−t−ブ
チルベンジル、5−インダニル、3−フタリジル、3−
メチル−2−ブテニル等が含まれる。上で概要を説明し
た全合成に於て、R3′が薬学的に許容されるエステル
部分であった場合、もし最終生成物Iを薬学的に許容さ
れるエステルとして調製することが望ましければ、最終
の脱保護段階は不要であるということに注目すべきであ
る。
含めた特に好ましい薬学的に許容される塩及びエステル
は、係属中の米国特許出願番号第 861,314号(
1977年12月16日出願)中で開示及び特許請求さ
れている。この特許出願は、なかんずく、チエナマイシ
ンのカルボキシル基の薬学的に許容される塩及びエステ
ルを意図している。本発明で好ましいものは、正にこれ
らの塩及びエステル類であり、これらのものは本特許中
に引用文献として取り入れている。米国特許出願・出願
番号第 861,314号中で開示されているのと同様
の方法によって調製される。例えば、特に好ましい塩に
はナトリウム、カリウム、アンモニウム等が含まれ、特
に好ましいエステルにはピバロイルメチル、p−t−ブ
チルベンジル、5−インダニル、3−フタリジル、3−
メチル−2−ブテニル等が含まれる。上で概要を説明し
た全合成に於て、R3′が薬学的に許容されるエステル
部分であった場合、もし最終生成物Iを薬学的に許容さ
れるエステルとして調製することが望ましければ、最終
の脱保護段階は不要であるということに注目すべきであ
る。
【0033】本発明の特に好ましい具体例は構造Iの置
換基R8 上のいずれの未置換アミノ基もベルギー特許
第 848,545号(1977年5月20日発行)の
技術を使用して誘導体化してある、という点を除けば上
述したものと同じである。従ってこのアミノ基は
換基R8 上のいずれの未置換アミノ基もベルギー特許
第 848,545号(1977年5月20日発行)の
技術を使用して誘導体化してある、という点を除けば上
述したものと同じである。従ってこのアミノ基は
【化22】
(部分構造)で表示される。式中、X及びYは出版物に
よって定義されている。XがH又は低級アルキルであり
、Yが NH2である化合物が特に好ましい。以下の実
施例は、本発明の製品、工程、組成、治療法を例示した
ものであり、それらに限定することを意図したものでは
ない。反応温度は、すべて℃である。
よって定義されている。XがH又は低級アルキルであり
、Yが NH2である化合物が特に好ましい。以下の実
施例は、本発明の製品、工程、組成、治療法を例示した
ものであり、それらに限定することを意図したものでは
ない。反応温度は、すべて℃である。
【0034】実施例1
3,3−ジメチル−1,4−ペンタジエンの調製
【化2
3】
3】
【0035】操作a
β,β−ジメチルグルタール酸(アルドリッチ ケミ
カル社から入手)を塩化チオニル(68%過剰)と共に
2時間還流する。過剰の塩化チオニルを除去した後、無
水エタノール(109%過剰)を徐々に加える。この混
合物を3時間還流し、次いで蒸溜して生成物、ジエチル
β,β−ジメチルグルタレートを集める(98%収率)
。エーテル(860ml)中のリチウムアルミニウムヒ
ドリド(24g)懸濁液に、速かに撹拌しながらジエチ
ルβ,β−ジメチルグルタレートの溶液(124g、2
50mlエーテル中)を滴加する。この混合物を6時間
還流し、次いで室温にまで冷やす。水(25ml)をゆ
っくりと加える。次いで透明な有機層が得られるまで、
この混合物を10% NaOH で処理する。有機層を
分離し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、次いで真空
中で蒸発させると、ジオールが油(90%収率)、1.
0mmに於ける沸点95°、として得られる。この3,
3−ジメチル−1,5−ペンタンジオール(0.5モル
)を塩化チオニル(1.05モル)と共に3時間還流処
置する。真空中で過剰の塩化チオニルを除去した後、3
,3−ジメチル−1,5−ジクロロペンタンが得られる
(90%収率)。
カル社から入手)を塩化チオニル(68%過剰)と共に
2時間還流する。過剰の塩化チオニルを除去した後、無
水エタノール(109%過剰)を徐々に加える。この混
合物を3時間還流し、次いで蒸溜して生成物、ジエチル
β,β−ジメチルグルタレートを集める(98%収率)
。エーテル(860ml)中のリチウムアルミニウムヒ
ドリド(24g)懸濁液に、速かに撹拌しながらジエチ
ルβ,β−ジメチルグルタレートの溶液(124g、2
50mlエーテル中)を滴加する。この混合物を6時間
還流し、次いで室温にまで冷やす。水(25ml)をゆ
っくりと加える。次いで透明な有機層が得られるまで、
この混合物を10% NaOH で処理する。有機層を
分離し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、次いで真空
中で蒸発させると、ジオールが油(90%収率)、1.
0mmに於ける沸点95°、として得られる。この3,
3−ジメチル−1,5−ペンタンジオール(0.5モル
)を塩化チオニル(1.05モル)と共に3時間還流処
置する。真空中で過剰の塩化チオニルを除去した後、3
,3−ジメチル−1,5−ジクロロペンタンが得られる
(90%収率)。
【0036】3,3−ジメチル−1,5−ジクロロペン
タン(41g)を、170℃に於て48gの水酸化ナト
リウム及び40gのポリエチレングリコールテトラマー
混合物に滴加し、この混合物を蒸留すると3,3−ジメ
チル−1,4−ペンタジエンが得られる(66%)。 操作b −40℃に於て、1,3−ジクロロ−3−メチルブタン
(50g)を塩化アルミニウム(5g)と混合する。こ
の混合物にエチレンを4時間吹き込む。混合物を室温に
もどし、水で加水分解する。この混合物を酢酸エチルで
抽出すると、3,3−ジメチル−1,5−ジクロロペン
タンが得られる。0.5モルの3,3−ジメチル−1,
5−ジクロロペンタン、2−メチルキノリン(2モル)
及び沃化ナトリウム(0.1モル)の混合物を、ビグレ
ー(Vigreux)カラムを備えつけたフラスコ中で
還流する。 このカラムの頂部は凝縮器及び取りだし口になっている
。ジオレフィン1を8時間の反応期間中に集める。生成
物を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
タン(41g)を、170℃に於て48gの水酸化ナト
リウム及び40gのポリエチレングリコールテトラマー
混合物に滴加し、この混合物を蒸留すると3,3−ジメ
チル−1,4−ペンタジエンが得られる(66%)。 操作b −40℃に於て、1,3−ジクロロ−3−メチルブタン
(50g)を塩化アルミニウム(5g)と混合する。こ
の混合物にエチレンを4時間吹き込む。混合物を室温に
もどし、水で加水分解する。この混合物を酢酸エチルで
抽出すると、3,3−ジメチル−1,5−ジクロロペン
タンが得られる。0.5モルの3,3−ジメチル−1,
5−ジクロロペンタン、2−メチルキノリン(2モル)
及び沃化ナトリウム(0.1モル)の混合物を、ビグレ
ー(Vigreux)カラムを備えつけたフラスコ中で
還流する。 このカラムの頂部は凝縮器及び取りだし口になっている
。ジオレフィン1を8時間の反応期間中に集める。生成
物を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
【0037】実施例2
3−メチル−1,4−ペンタジエンの調製
【化24】
【0038】実施例1(a) の方法に従い、β,β−
ジメチルグルタール酸の代りに等量のβ−メチルグルタ
ール酸を使用すると、3−メチル−1,4−ペンタジエ
ンが得られる。
ジメチルグルタール酸の代りに等量のβ−メチルグルタ
ール酸を使用すると、3−メチル−1,4−ペンタジエ
ンが得られる。
【0039】実施例3
4−(1,1−ジメチル−プロ−2−エニル)アゼチジ
ン−2−オンの調製
ン−2−オンの調製
【化25】
【0040】3,3−ジメチル−1,4−ペンタジエン
(9.6g)及びクロロスルホニルイソシアネート(1
4.2g)を、封管中室温で6日間放置する。生成した
混合物を塩化メチレンでうすめ、20gのNa2SO3
及び50gの K2HPO4 を含有する水溶液で撹拌
しながら0−5℃に於て30分間ゆっくりと添加する。 有機層を分離し、MgSO4 で乾燥する。蒸発後、粗
生成物をシリカゲルG下のクロマトグラフィー(溶出液
は EtOAc)で精製すると3が得られる。
(9.6g)及びクロロスルホニルイソシアネート(1
4.2g)を、封管中室温で6日間放置する。生成した
混合物を塩化メチレンでうすめ、20gのNa2SO3
及び50gの K2HPO4 を含有する水溶液で撹拌
しながら0−5℃に於て30分間ゆっくりと添加する。 有機層を分離し、MgSO4 で乾燥する。蒸発後、粗
生成物をシリカゲルG下のクロマトグラフィー(溶出液
は EtOAc)で精製すると3が得られる。
【0041】実施例4
4−(1−メチル−プロ−2−エニル)アゼチジン−2
−オンの調製
−オンの調製
【化26】
【0042】実施例3の方法に従い、3,3−ジメチル
−1,4−ペンタジエンの代りに3−メチル−1,4−
ペンタジエンを使用すると表記化合物4が得られる。
−1,4−ペンタジエンの代りに3−メチル−1,4−
ペンタジエンを使用すると表記化合物4が得られる。
【0043】実施例5
5の調製
─────
【化27】
【0044】t−ブチルジメチルクロロシラン(7.5
1g)を、無水ジメチルホルムアミド(100ml)中
の4−(1,1−ジメチル−プロプ−2−エン)−アゼ
チジン−2−オン(6.54g)とトリエチルアミン(
12ml)の氷冷し、撹拌している溶液に1度に加える
。この反応混合物を0−5℃で1時間撹拌し、次いで室
温にもどす。真空中で大部分の溶媒を除去すると残渣が
得られ、これをジエチルエーテル(250ml)と水で
分配する。エーテル層を2.5Nの塩酸(5ml)、水
(3×50ml)及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥し、濾過して、真空中で蒸発させると粗生成物が
得られる。これをシリカゲル(石油エーテル中に20%
のエーテルを含有するもの)のクロマトグラフィーによ
り精製すると、5が得られる。
1g)を、無水ジメチルホルムアミド(100ml)中
の4−(1,1−ジメチル−プロプ−2−エン)−アゼ
チジン−2−オン(6.54g)とトリエチルアミン(
12ml)の氷冷し、撹拌している溶液に1度に加える
。この反応混合物を0−5℃で1時間撹拌し、次いで室
温にもどす。真空中で大部分の溶媒を除去すると残渣が
得られ、これをジエチルエーテル(250ml)と水で
分配する。エーテル層を2.5Nの塩酸(5ml)、水
(3×50ml)及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥し、濾過して、真空中で蒸発させると粗生成物が
得られる。これをシリカゲル(石油エーテル中に20%
のエーテルを含有するもの)のクロマトグラフィーによ
り精製すると、5が得られる。
【0045】実施例6
6の調製
─────
【化28】
【0046】無水テトラヒドロフラン(100ml)中
のジイソプロピルアミン(26.25ミリモル)の溶液
に、−78℃でヘキサン中のn−ブチルリチウム(26
.25ミリモル)を注射器によってゆっくりと添加する
。生成した溶液を15分間撹拌し、次いで無水テトラヒ
ドロフラン(25ml)中の5(25.0ミリモル)の
溶液を添加する。−78℃で15分間撹拌した後、注射
器によってアセトアルデヒド(75ミリモル)を加え、
生成した溶液を78℃で5分間撹拌する。注射器によっ
て飽和塩化アンモニウム溶液を加え、反応混合物を室温
にもどし、次いでエーテル(250ml)でうすめ、2
.5N塩酸溶液(2×50ml)、水(100ml)及
び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中
で溶媒を除去し、残渣をシリカゲル(1:1、エーテル
:石油エーテル)のクロマトグラフィーに付すと期待し
た生成物6が得られる。
のジイソプロピルアミン(26.25ミリモル)の溶液
に、−78℃でヘキサン中のn−ブチルリチウム(26
.25ミリモル)を注射器によってゆっくりと添加する
。生成した溶液を15分間撹拌し、次いで無水テトラヒ
ドロフラン(25ml)中の5(25.0ミリモル)の
溶液を添加する。−78℃で15分間撹拌した後、注射
器によってアセトアルデヒド(75ミリモル)を加え、
生成した溶液を78℃で5分間撹拌する。注射器によっ
て飽和塩化アンモニウム溶液を加え、反応混合物を室温
にもどし、次いでエーテル(250ml)でうすめ、2
.5N塩酸溶液(2×50ml)、水(100ml)及
び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中
で溶媒を除去し、残渣をシリカゲル(1:1、エーテル
:石油エーテル)のクロマトグラフィーに付すと期待し
た生成物6が得られる。
【0047】実施例7
7の調製
─────
【化29】
【0048】A.無水塩化メチレン(15ml)中のジ
メチルスルホキシド(10ミリモル)溶液に、−78℃
に於て注射器により、無水トリクロロ酢酸(7.5ミリ
モル)を滴加する。生成した混合物を−78℃で20分
間撹拌する。塩化メチレン(15ml)中の6(5.0
ミリモル)の溶液を注射器によって添加し、冷却浴を取
り除く。更に1時間経過した後、反応混合物を塩化メチ
レン(100ml)でうすめ、水(50ml)及び食塩
水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中で溶媒
を除去すると粗生成物が得られ、これをシリカゲル(2
:1、石油エーテル:エーテル)のクロマトグラフィー
に付すと7が得られる。
メチルスルホキシド(10ミリモル)溶液に、−78℃
に於て注射器により、無水トリクロロ酢酸(7.5ミリ
モル)を滴加する。生成した混合物を−78℃で20分
間撹拌する。塩化メチレン(15ml)中の6(5.0
ミリモル)の溶液を注射器によって添加し、冷却浴を取
り除く。更に1時間経過した後、反応混合物を塩化メチ
レン(100ml)でうすめ、水(50ml)及び食塩
水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中で溶媒
を除去すると粗生成物が得られ、これをシリカゲル(2
:1、石油エーテル:エーテル)のクロマトグラフィー
に付すと7が得られる。
【化30】
【0049】B.無水テトラヒドロフラン(16ml)
中のジイソプロピルアミン(4.10ミリモル)の溶液
に、−78℃に於て注射器によってヘキサン(4.10
ミリモル)中のn−ブチルリチウムを添加する。生成し
た溶液を−78℃で15分間撹拌し、次いで無水テトラ
ヒドロフラン(2ml)中の1−(t−ブチルジメチル
シリル)−4−(1,1−ジメチル−プロプ−2−エニ
ル)−アゼチジン−2−オン5(2.0ミリモル)の溶
液を加える。−78℃で更に15分経過した後、反応混
合物をテフロンチューブを通して、無水テトラヒドロフ
ラン(16ml)中のN−アセチルイミダゾール(4.
1ミリモル)の混合物に−78℃で添加する。生成した
黄色の反応混合物を−78℃で15分間撹拌し、次いで
飽和塩化アンモニウム溶液(10ml)を添加すること
によって反応を中止する。この反応混合物をエーテルで
うすめ、2.5Nの塩酸水(20ml)、水(25ml
)及び食塩水で洗う。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で濃縮する
と粗生成物が得られる。この物質をシリカゲル(2:1
、石油エーテル:エーテル)のクロマトグラフィーに付
すと7が得られる。
中のジイソプロピルアミン(4.10ミリモル)の溶液
に、−78℃に於て注射器によってヘキサン(4.10
ミリモル)中のn−ブチルリチウムを添加する。生成し
た溶液を−78℃で15分間撹拌し、次いで無水テトラ
ヒドロフラン(2ml)中の1−(t−ブチルジメチル
シリル)−4−(1,1−ジメチル−プロプ−2−エニ
ル)−アゼチジン−2−オン5(2.0ミリモル)の溶
液を加える。−78℃で更に15分経過した後、反応混
合物をテフロンチューブを通して、無水テトラヒドロフ
ラン(16ml)中のN−アセチルイミダゾール(4.
1ミリモル)の混合物に−78℃で添加する。生成した
黄色の反応混合物を−78℃で15分間撹拌し、次いで
飽和塩化アンモニウム溶液(10ml)を添加すること
によって反応を中止する。この反応混合物をエーテルで
うすめ、2.5Nの塩酸水(20ml)、水(25ml
)及び食塩水で洗う。 有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で濃縮する
と粗生成物が得られる。この物質をシリカゲル(2:1
、石油エーテル:エーテル)のクロマトグラフィーに付
すと7が得られる。
【0050】実施例8
6の調製
─────
【化31】
【0051】無水エーテル(20ml)中の沃化カリウ
ム(2.0ミリモル)及び7(2.0ミリモル)の混合
物に、室温でテトラヒドロフラン(4.8ミリモル)中
のK−セレクトライド(カリウム トリ−(2級)−
ブチルボロヒドリド)を注射器によって添加する。生成
した混合物を室温で2.5時間撹拌し、次いで氷酢酸(
9.6ミリモル)を添加して反応を止める。生成した混
合物を酢酸エチル(100ml)でうすめ、セライトで
濾過する。真空中で溶媒を除去すると、粗生成物が得ら
れ、これをシリカゲル(1:1、エーテル:石油エーテ
ル)のクロマトグラフィーに付すと1.90g(95%
)の6が得られる。
ム(2.0ミリモル)及び7(2.0ミリモル)の混合
物に、室温でテトラヒドロフラン(4.8ミリモル)中
のK−セレクトライド(カリウム トリ−(2級)−
ブチルボロヒドリド)を注射器によって添加する。生成
した混合物を室温で2.5時間撹拌し、次いで氷酢酸(
9.6ミリモル)を添加して反応を止める。生成した混
合物を酢酸エチル(100ml)でうすめ、セライトで
濾過する。真空中で溶媒を除去すると、粗生成物が得ら
れ、これをシリカゲル(1:1、エーテル:石油エーテ
ル)のクロマトグラフィーに付すと1.90g(95%
)の6が得られる。
【0052】実施例9
【化32】
【0053】無水条件下、0℃に於て60mlの塩化メ
チレン中の6(3.50g)の溶液を、4−ジメチルア
ミノピリジン(3.32g)及びO−ニトロベンジルク
ロロホルメート(5.88g)で処理する。この混合物
を室温にもどし、1時間撹拌する。生成した混合物を0
.1N HCl、水、食塩水及び水で洗う。有機層を分
離し、Na2SO4で乾燥し、真空中で蒸発させると粗
生成物が得られる。 この粗生成物を20mlのエーテルに溶かし、−5℃に
冷却するとO−ニトロベンジルアルコール(0.5g)
が得られるので、濾過により分離する。40%酢酸エチ
ル/シクロヘキサンで溶出するHPLC(シリカゲル)
によって精製すると、7aが得られる。
チレン中の6(3.50g)の溶液を、4−ジメチルア
ミノピリジン(3.32g)及びO−ニトロベンジルク
ロロホルメート(5.88g)で処理する。この混合物
を室温にもどし、1時間撹拌する。生成した混合物を0
.1N HCl、水、食塩水及び水で洗う。有機層を分
離し、Na2SO4で乾燥し、真空中で蒸発させると粗
生成物が得られる。 この粗生成物を20mlのエーテルに溶かし、−5℃に
冷却するとO−ニトロベンジルアルコール(0.5g)
が得られるので、濾過により分離する。40%酢酸エチ
ル/シクロヘキサンで溶出するHPLC(シリカゲル)
によって精製すると、7aが得られる。
【0054】実施例10
8の調製
─────
【化33】
【0055】乾燥した塩化メチレン(30ml)中の7
(3.0ミリモル)の溶液を−78℃に冷却し、反応混
合物が青色になるまで、オゾン気流を通ずる。次いでオ
ゾンの通気を止め、青色が消失するまで窒素を吹き込ん
で反応を止める。固体のm−クロロ過安息香酸(3.0
ミリモル)を加え、冷却浴を取り除く。反応混合物が室
温になったら、フラスコに還流凝縮器を取り付け、この
混合物を3日間加熱還流する。真空中で溶媒を除去する
と粗生成物が得られ、これをシリカゲル(2%の氷酢酸
を含有する塩化メチレン)のクロマトグラフィーに付す
と8が得られる。
(3.0ミリモル)の溶液を−78℃に冷却し、反応混
合物が青色になるまで、オゾン気流を通ずる。次いでオ
ゾンの通気を止め、青色が消失するまで窒素を吹き込ん
で反応を止める。固体のm−クロロ過安息香酸(3.0
ミリモル)を加え、冷却浴を取り除く。反応混合物が室
温になったら、フラスコに還流凝縮器を取り付け、この
混合物を3日間加熱還流する。真空中で溶媒を除去する
と粗生成物が得られ、これをシリカゲル(2%の氷酢酸
を含有する塩化メチレン)のクロマトグラフィーに付す
と8が得られる。
【0056】実施例10a
8aの調製
─────
【化34】
【0057】酸8(1.0ミリモル)を30mlの酢酸
エチル中、1気圧のH2 のもとで、0.1ミリモルの
10%Pd/Cの存在下、室温で30分間水素添加する
。混合物を触媒から濾過する。濾液を真空中で蒸発させ
ると8aが得られる。
エチル中、1気圧のH2 のもとで、0.1ミリモルの
10%Pd/Cの存在下、室温で30分間水素添加する
。混合物を触媒から濾過する。濾液を真空中で蒸発させ
ると8aが得られる。
【0058】実施例11
9の調製
─────
【化35】
【0059】無水テトラヒドロフラン(5ml)中の8
(1.0ミリモル)の溶液に、室温で1,1′−カルボ
ニルジイミダゾール(1.10ミリモル)を1度に加え
る。 生成した溶液を室温で6時間撹拌する。第2のフラスコ
に於て、無水テトラヒドロフラン(25ml)中のマロ
ン酸モノ−p−ニトロベンジルエステル溶液に、マグネ
シウムエトキシド(5ミリモル)を1度に加える。生成
した混合物を室温で1時間撹拌し、次いでポンプ吸引に
よってテトラヒドロフランを除去し、残渣をエーテルで
処理するとマグネシウム塩が得られる。次いでこのマグ
ネシウム塩を第1の反応フラスコに加え、生成した溶液
を室温で18時間撹拌する。次いで反応混合物を50m
lのエーテル中に注ぎ、0.5Nの塩酸溶液(20ml
)、水(20ml)、飽和重曹水(20ml)、食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中で溶媒を
除去すると粗生成物が得られ、これをシリカゲル(エー
テル)のクロマトグラフィーに付すと9が得られる。
(1.0ミリモル)の溶液に、室温で1,1′−カルボ
ニルジイミダゾール(1.10ミリモル)を1度に加え
る。 生成した溶液を室温で6時間撹拌する。第2のフラスコ
に於て、無水テトラヒドロフラン(25ml)中のマロ
ン酸モノ−p−ニトロベンジルエステル溶液に、マグネ
シウムエトキシド(5ミリモル)を1度に加える。生成
した混合物を室温で1時間撹拌し、次いでポンプ吸引に
よってテトラヒドロフランを除去し、残渣をエーテルで
処理するとマグネシウム塩が得られる。次いでこのマグ
ネシウム塩を第1の反応フラスコに加え、生成した溶液
を室温で18時間撹拌する。次いで反応混合物を50m
lのエーテル中に注ぎ、0.5Nの塩酸溶液(20ml
)、水(20ml)、飽和重曹水(20ml)、食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中で溶媒を
除去すると粗生成物が得られ、これをシリカゲル(エー
テル)のクロマトグラフィーに付すと9が得られる。
【0060】実施例12
10の調製
──────
【化36】
【0061】20mlの9:1(V/V)メタノール−
水中の9の溶液を0℃に冷却する。濃塩酸(0.34m
l)を加え、生成した溶液を0℃で15分間撹拌し、次
いで室温にもどす。2.5時間後、室温に於て反応混合
物を酢酸エチル(25ml)でうすめ、水(10ml)
及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中
で濃縮すると10が得られる。
水中の9の溶液を0℃に冷却する。濃塩酸(0.34m
l)を加え、生成した溶液を0℃で15分間撹拌し、次
いで室温にもどす。2.5時間後、室温に於て反応混合
物を酢酸エチル(25ml)でうすめ、水(10ml)
及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中
で濃縮すると10が得られる。
【0062】実施例13
11の調製
──────
【化37】
【0063】乾燥アセトニトリル(6ml)中の10(
253mg)及びp−トルエンスルホニルアジド(19
6mg)の混合物に、0℃に於てトリエチルアミン(2
63mg)を注射器によって添加する。添加が完了した
ら、冷却浴を取り除き、反応混合物を室温で1時間撹拌
する。 次いでこの混合物を酢酸エチル(50ml)でうすめ、
濾過する。濾液を真空中で濃縮し、残渣をシリカゲル(
酢酸エチル)の短いカラムを用いたクロマトグラフィー
に付すと11が得られる。
253mg)及びp−トルエンスルホニルアジド(19
6mg)の混合物に、0℃に於てトリエチルアミン(2
63mg)を注射器によって添加する。添加が完了した
ら、冷却浴を取り除き、反応混合物を室温で1時間撹拌
する。 次いでこの混合物を酢酸エチル(50ml)でうすめ、
濾過する。濾液を真空中で濃縮し、残渣をシリカゲル(
酢酸エチル)の短いカラムを用いたクロマトグラフィー
に付すと11が得られる。
【0064】実施例14
12の調製
──────
【化38】
【0065】シクロヘキサン(3ml)中の11(56
.4mg)及び酢酸ロジウム(II)(0.1mg)の
懸濁液に、窒素を10分間吹き込むことにより酸素を除
く。次いでこの混合物を78℃に1時間加熱する。加熱
中に、固体の出発物質は徐々に溶液に変る。次いでこの
混合物を冷却し、濾過して触媒を除き、濾液を真空中で
濃縮すると12が得られる。
.4mg)及び酢酸ロジウム(II)(0.1mg)の
懸濁液に、窒素を10分間吹き込むことにより酸素を除
く。次いでこの混合物を78℃に1時間加熱する。加熱
中に、固体の出発物質は徐々に溶液に変る。次いでこの
混合物を冷却し、濾過して触媒を除き、濾液を真空中で
濃縮すると12が得られる。
【0066】実施例15
p−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノエタンチオ
ールの調製
ールの調製
【化39】
【0067】600mlのジエチルエーテル(Et2O
)−75mlの H2Oを氷浴で冷却し、撹拌しながら
、これに3.2gのシステアミン塩酸塩(分子量=11
4:28.1ミリモル)を加える。75mlの H2O
中の7.14gのNaHCO3(分子量=84、85ミ
リモル)溶液を加える。氷浴を取り除き、室温に於て2
70mlの Et2O 中の6.75gのp−ニトロベ
ンジルクロロホルメート(分子量=216:31.3ミ
リモル)を1時間にわたって滴加する。更に10分経過
した後、層を分離する。エーテル層を150mlの0.
25N HClで抽出し、次いで200mlの食塩水で
抽出する。次いで各々の水層を引き続いて100mlの
Et2O により逆洗する。 Et2O 層を合せ、
無水MgSO4 で乾燥し、濾過し、N2 気流下で濃
縮する。結晶性残渣を少量のエーテルでスラリー化し、
濾過し、うす黄色の結晶を高真空下で乾燥すると、4.
7gのp−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノエタ
ンチオールが得られる(65%収率)。NMR(CDC
l3):8.18(d,J=8Hz、ニトロのオルト位
の芳香性プロトン)、7.47(d,J=8Hz、ニト
ロのメタ位の芳香性プロトン)、5.27(−NH−)
、5.20(s,−CH2 −NH−)、2.67(m
,−CH2 −SH)、1.35(t,J=8.5Hz
、−SH)値はTMSからの低磁場側へのppm 。I
R(CHCl3 溶液):カルボニル−1725cm−
1。M.S.:分子イオン−256、(M−47)20
9、(M−136)120、+ CH2φpNO2
136。
)−75mlの H2Oを氷浴で冷却し、撹拌しながら
、これに3.2gのシステアミン塩酸塩(分子量=11
4:28.1ミリモル)を加える。75mlの H2O
中の7.14gのNaHCO3(分子量=84、85ミ
リモル)溶液を加える。氷浴を取り除き、室温に於て2
70mlの Et2O 中の6.75gのp−ニトロベ
ンジルクロロホルメート(分子量=216:31.3ミ
リモル)を1時間にわたって滴加する。更に10分経過
した後、層を分離する。エーテル層を150mlの0.
25N HClで抽出し、次いで200mlの食塩水で
抽出する。次いで各々の水層を引き続いて100mlの
Et2O により逆洗する。 Et2O 層を合せ、
無水MgSO4 で乾燥し、濾過し、N2 気流下で濃
縮する。結晶性残渣を少量のエーテルでスラリー化し、
濾過し、うす黄色の結晶を高真空下で乾燥すると、4.
7gのp−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノエタ
ンチオールが得られる(65%収率)。NMR(CDC
l3):8.18(d,J=8Hz、ニトロのオルト位
の芳香性プロトン)、7.47(d,J=8Hz、ニト
ロのメタ位の芳香性プロトン)、5.27(−NH−)
、5.20(s,−CH2 −NH−)、2.67(m
,−CH2 −SH)、1.35(t,J=8.5Hz
、−SH)値はTMSからの低磁場側へのppm 。I
R(CHCl3 溶液):カルボニル−1725cm−
1。M.S.:分子イオン−256、(M−47)20
9、(M−136)120、+ CH2φpNO2
136。
【0068】実施例15a
【化40】
【0069】実施例15の方法に従い、実施例15のシ
ステアミン塩酸塩の代りに等量のアミノシクロプロピル
チオール塩酸塩を使用するとN−p−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノシクロプロピルチオが得られる。 実施例16 13の調製 ──────
ステアミン塩酸塩の代りに等量のアミノシクロプロピル
チオール塩酸塩を使用するとN−p−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノシクロプロピルチオが得られる。 実施例16 13の調製 ──────
【化41】
【0070】出発物質12(51mg)をアセトニトリ
ル(3ml)に溶かし、生成した溶液を0℃に冷却する
。注射器によりジイソプロピルエチルアミン(22mg
)を加え、生成した溶液を0℃で1時間撹拌し、次いで
乾燥アセトニトリル(1ml)中のジフェニルクロロホ
スフエート(51mg)を加える。生成した溶液を0℃
で1時間撹拌し、中間体12を得、次いで−25℃に冷
却する。注射器によりジイソプロピルエチルアミン(8
0.5mg)を加え、その後すぐに1mlの乾燥アセト
ニトリル中のN−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
アミノシクロプロピルチオール(40mg)溶液を加え
る。次いでこの反応混合物を冷蔵庫に70時間保存する
。この混合物を25mlの酢酸エチルでうすめ、食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中で溶媒を
除去すると、粗生成物が得られ、これをシリカゲルプレ
ート上のクロマトグラフィーで精製すると13が得られ
る。
ル(3ml)に溶かし、生成した溶液を0℃に冷却する
。注射器によりジイソプロピルエチルアミン(22mg
)を加え、生成した溶液を0℃で1時間撹拌し、次いで
乾燥アセトニトリル(1ml)中のジフェニルクロロホ
スフエート(51mg)を加える。生成した溶液を0℃
で1時間撹拌し、中間体12を得、次いで−25℃に冷
却する。注射器によりジイソプロピルエチルアミン(8
0.5mg)を加え、その後すぐに1mlの乾燥アセト
ニトリル中のN−p−ニトロベンジルオキシカルボニル
アミノシクロプロピルチオール(40mg)溶液を加え
る。次いでこの反応混合物を冷蔵庫に70時間保存する
。この混合物を25mlの酢酸エチルでうすめ、食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥する。真空中で溶媒を
除去すると、粗生成物が得られ、これをシリカゲルプレ
ート上のクロマトグラフィーで精製すると13が得られ
る。
【0071】実施例17
【化42】
【0072】テトラヒドロフラン(2ml)、0.1M
リン酸2カリウム溶液(1.4ml)及び2−プロパノ
ール(0.2ml)中の13(10mg)及び10%P
d/C−ボルホ−フアー型の混合物をパールシエーカー
上、40psi に於て30分間水素添加する。次いで
この混合物を濾過し、触媒を水で洗う。濾液及び洗液を
合せ、酢酸エチル−エチルエーテルで抽出し、次いで〜
3mlに濃縮し、凍結乾燥すると14が得られる。
リン酸2カリウム溶液(1.4ml)及び2−プロパノ
ール(0.2ml)中の13(10mg)及び10%P
d/C−ボルホ−フアー型の混合物をパールシエーカー
上、40psi に於て30分間水素添加する。次いで
この混合物を濾過し、触媒を水で洗う。濾液及び洗液を
合せ、酢酸エチル−エチルエーテルで抽出し、次いで〜
3mlに濃縮し、凍結乾燥すると14が得られる。
【0073】実施例18
【化43】
【0074】THF、20mlをN2 雰囲気下に入れ
、1.54mlのジイソプロピルアミンで処理し、−7
8℃に冷却する。ヘキサン(5.6ml)中の1.97
Mのn−ブチルリチウム溶液を5分間にわたって滴加す
る。この反応混合物を−78℃で10分間撹拌し、次い
で15mlのTHF中の5(2.14g)を5分間にわ
たって滴加することによって処理する。更に10分経過
後、ヘキサメチルホスホラミド(1.97ml)を添加
する。この混合物を更に10分間撹拌し、次いで2ml
の沃化メチルで処理する。 この反応混合物を−78℃で15分間撹拌し、25℃に
暖め、15分間撹拌する。この反応混合物を EtOA
cでうすめ、pH7のリン酸緩衝液で1度洗い、次いで
乾燥、蒸発させる。残渣を EtOAc/C6H6を溶
出液とするシリカゲルのクロマトグラフィーに付すと1
5が得られる。
、1.54mlのジイソプロピルアミンで処理し、−7
8℃に冷却する。ヘキサン(5.6ml)中の1.97
Mのn−ブチルリチウム溶液を5分間にわたって滴加す
る。この反応混合物を−78℃で10分間撹拌し、次い
で15mlのTHF中の5(2.14g)を5分間にわ
たって滴加することによって処理する。更に10分経過
後、ヘキサメチルホスホラミド(1.97ml)を添加
する。この混合物を更に10分間撹拌し、次いで2ml
の沃化メチルで処理する。 この反応混合物を−78℃で15分間撹拌し、25℃に
暖め、15分間撹拌する。この反応混合物を EtOA
cでうすめ、pH7のリン酸緩衝液で1度洗い、次いで
乾燥、蒸発させる。残渣を EtOAc/C6H6を溶
出液とするシリカゲルのクロマトグラフィーに付すと1
5が得られる。
【0075】実施例19
【化44】
【0076】無水テトラヒドロフラン中の新しく調製し
た1.1当量のリチウムイソプロピルアミドの溶液に、
−78℃、窒素雰囲気下で、予め−78℃に冷却してお
いた無水テトラヒドロフラン中の15の溶液を添加する
。 2分後、生成したリチウムエノレートを3当量のアセト
アルデヒドで処理する。この溶液を−78℃で30分間
撹拌し、次いで水に注ぐ。水層を食塩で飽和し、酢酸エ
チルで抽出する。酢酸エチル溶液を合せ、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過する。濾液を減圧下濃縮すると粗生
成物が得られる。酢酸エチル/ベンゼンを用いたシリカ
ゲルのクロマトグラフィーによって精製すると16が得
られる。
た1.1当量のリチウムイソプロピルアミドの溶液に、
−78℃、窒素雰囲気下で、予め−78℃に冷却してお
いた無水テトラヒドロフラン中の15の溶液を添加する
。 2分後、生成したリチウムエノレートを3当量のアセト
アルデヒドで処理する。この溶液を−78℃で30分間
撹拌し、次いで水に注ぐ。水層を食塩で飽和し、酢酸エ
チルで抽出する。酢酸エチル溶液を合せ、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過する。濾液を減圧下濃縮すると粗生
成物が得られる。酢酸エチル/ベンゼンを用いたシリカ
ゲルのクロマトグラフィーによって精製すると16が得
られる。
【0077】実施例20
18の調製
──────
【化45】
【0078】アセトン(60ml)中に懸濁したビシク
ロアゼチジノン(6.0g)を0℃に於て4Nのジョー
ンズ試薬(9.4ml)で処理する。ジョーンズ試薬で
処理すると混合物は均一になる。0℃で30分間撹拌し
た後、いくらかの白色沈澱が生ずる。50分後、イソプ
ロパノール(1.0ml)により10分間で反応を止め
る。この白色沈澱を濾過して集め、水及びアセトンで洗
うと3.2gの生成物が得られる。濾液を EtOAc
(200ml)で抽出すると、更に1.2gの生成物が
得られる。
ロアゼチジノン(6.0g)を0℃に於て4Nのジョー
ンズ試薬(9.4ml)で処理する。ジョーンズ試薬で
処理すると混合物は均一になる。0℃で30分間撹拌し
た後、いくらかの白色沈澱が生ずる。50分後、イソプ
ロパノール(1.0ml)により10分間で反応を止め
る。この白色沈澱を濾過して集め、水及びアセトンで洗
うと3.2gの生成物が得られる。濾液を EtOAc
(200ml)で抽出すると、更に1.2gの生成物が
得られる。
【0079】実施例21
19の調製:
【化46】
【0080】アゼチジンカルボン酸(0.37g)を5
mlの水に懸濁する。2.5N NaOH によりこの
混合物のpHを12.0に調節し、撹拌しながら室温で
30分間このpHに保つ。次いでこの混合物を2.5N
HClによりpH7.5に中和し、5mlの EtO
Acで抽出する。水層を分離し、濃縮し、凍結乾燥する
と白色固型物19が得られる。NMR(60M Hz
、D2O):δ 1.06(d)、1.25(d)、
2.40(m)、3.02(q)、3.56(q)、4
.05(m)。
mlの水に懸濁する。2.5N NaOH によりこの
混合物のpHを12.0に調節し、撹拌しながら室温で
30分間このpHに保つ。次いでこの混合物を2.5N
HClによりpH7.5に中和し、5mlの EtO
Acで抽出する。水層を分離し、濃縮し、凍結乾燥する
と白色固型物19が得られる。NMR(60M Hz
、D2O):δ 1.06(d)、1.25(d)、
2.40(m)、3.02(q)、3.56(q)、4
.05(m)。
【0081】実施例22
20の調製:
【化47】
【0082】DMF(6ml)中のアゼチジノンカルボ
ン酸のナトリウム塩19(0.45g)とp−ニトロト
ロベンジルブロミド(0.43g)を窒素雰囲気下、室
温で2時間撹拌する。生成した均一な溶液を真空中で蒸
発させると、粗生成物が得られ、これを最初に10%
EtOAc/シクロヘキサンで溶出するシリカゲルカラ
ムによって精製する。所望する分画を合せ、濃縮し、真
空中で蒸発させると生成物20(0.37g)が得られ
る。IR(ニート):1760cm−1、NMR(60
M Hz 、CDCl3):1.30(d)、2.63
(m)、3.03(q)、3.75(q)、4.03(
m)、5.21(s)、6.41(幅広い一重線)、7
.48(d)及び8.20(d)。
ン酸のナトリウム塩19(0.45g)とp−ニトロト
ロベンジルブロミド(0.43g)を窒素雰囲気下、室
温で2時間撹拌する。生成した均一な溶液を真空中で蒸
発させると、粗生成物が得られ、これを最初に10%
EtOAc/シクロヘキサンで溶出するシリカゲルカラ
ムによって精製する。所望する分画を合せ、濃縮し、真
空中で蒸発させると生成物20(0.37g)が得られ
る。IR(ニート):1760cm−1、NMR(60
M Hz 、CDCl3):1.30(d)、2.63
(m)、3.03(q)、3.75(q)、4.03(
m)、5.21(s)、6.41(幅広い一重線)、7
.48(d)及び8.20(d)。
【0083】実施例23
21の調製:
【化48】
【0084】アゼチジノンp−ニトロベンジルエステル
20(2.83g)をDMF(26ml)中t−ブチル
ジメチルクロロシラン(3.98g)及びトリエチルア
ミン(7.35ml)と共に、窒素雰囲気下、室温で5
時間撹拌する。この混合物を沈澱から濾過し、濾液を真
空中で蒸発させると粗生成物が得られる。生成物のHP
LC(ポラシル、30%酢酸エチル/シクロヘキサン溶
媒系)精製により、溶媒を蒸発させた後に21(4.2
g)が得られる。NMR(60M Hz 、CDCl3
):δ 0.01(s)、0.10(s)、0.85
(s)、0.90(s)、1.09(d)、1.21(
d)、2.98(m)、3.42(q)、3.64(q
)、4.08(m)、5.20(s)、7.50(d)
、及び8.23(d)。
20(2.83g)をDMF(26ml)中t−ブチル
ジメチルクロロシラン(3.98g)及びトリエチルア
ミン(7.35ml)と共に、窒素雰囲気下、室温で5
時間撹拌する。この混合物を沈澱から濾過し、濾液を真
空中で蒸発させると粗生成物が得られる。生成物のHP
LC(ポラシル、30%酢酸エチル/シクロヘキサン溶
媒系)精製により、溶媒を蒸発させた後に21(4.2
g)が得られる。NMR(60M Hz 、CDCl3
):δ 0.01(s)、0.10(s)、0.85
(s)、0.90(s)、1.09(d)、1.21(
d)、2.98(m)、3.42(q)、3.64(q
)、4.08(m)、5.20(s)、7.50(d)
、及び8.23(d)。
【0085】実施例24
22の調製:
【化49】
【0086】アゼチジノン21(2.1g)を酢酸エチ
ル(40ml)に溶かし、10%Pd/C(0.4g)
の存在下、50psi の水素圧のもとで30分間水素
添加する。 スーパーセルによってこの混合物を濾過し、濾液を10
0mlの EtOAcでうすめ、0.1N HCl(1
00ml)及び食塩水で洗う。有機層を分離し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、真空中で蒸発されると生成物2
2(1.45g)が得られる。NMR(CDCl3):
δ 0.01(s)、0.16(s)、0.82(s
)、0.90(s)、1.11(d)、1.22(d)
、2.90〜3.05(m)、3.40(q)、3.6
2(q)及び3.80−4.40(m)。
ル(40ml)に溶かし、10%Pd/C(0.4g)
の存在下、50psi の水素圧のもとで30分間水素
添加する。 スーパーセルによってこの混合物を濾過し、濾液を10
0mlの EtOAcでうすめ、0.1N HCl(1
00ml)及び食塩水で洗う。有機層を分離し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、真空中で蒸発されると生成物2
2(1.45g)が得られる。NMR(CDCl3):
δ 0.01(s)、0.16(s)、0.82(s
)、0.90(s)、1.11(d)、1.22(d)
、2.90〜3.05(m)、3.40(q)、3.6
2(q)及び3.80−4.40(m)。
【0087】実施例25
23の調製:
【化50】
【0088】窒素雰囲気下、アセトニトリル(20ml
)中の2ケ所を保護したアゼチジノン22(1.04g
)の懸濁液を、カルボニルジイミダゾール(0.51g
)により、室温で2時間処理する。生成した均一な溶液
をp−ニトロベンジルマロネートマグネシウム塩(1.
57g)と混合し、60℃で5時間撹拌する。この混合
物を濾過し、蒸発させ、40% EtOAc/シクロヘ
キサンを溶出液とするシリカゲルプレートによって精製
すると生成物22(0.83g)が得られる。IR(ニ
ート):1748−1:NMR(60M Hz 、CD
Cl3):0.02(s)、0.20(s)、0.85
(s)、0.95(s)、1.19(d)、1.22(
d)、2.80−3.20(m)、3.58(s)、3
.50−4.20(m)、5.23(s)、7.45(
d)及び8.17(d)。
)中の2ケ所を保護したアゼチジノン22(1.04g
)の懸濁液を、カルボニルジイミダゾール(0.51g
)により、室温で2時間処理する。生成した均一な溶液
をp−ニトロベンジルマロネートマグネシウム塩(1.
57g)と混合し、60℃で5時間撹拌する。この混合
物を濾過し、蒸発させ、40% EtOAc/シクロヘ
キサンを溶出液とするシリカゲルプレートによって精製
すると生成物22(0.83g)が得られる。IR(ニ
ート):1748−1:NMR(60M Hz 、CD
Cl3):0.02(s)、0.20(s)、0.85
(s)、0.95(s)、1.19(d)、1.22(
d)、2.80−3.20(m)、3.58(s)、3
.50−4.20(m)、5.23(s)、7.45(
d)及び8.17(d)。
【0089】実施例26
24の調製:
【化51】
【0090】メタノール(1ml)に溶かしたジシリル
アゼチジノン23(55mg)を室温で0.1N HC
l(0.2ml)により3時間処理する。この混合物を
真空中で蒸発させると油状残渣が得られるので、これを
酢酸エチルに溶かす。この混合物を食塩水で洗った後、
有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。粗生
成物をシリカゲルプレートのクロマトグラフィー(酢酸
エチルで溶出)により精製すると生成物24(11.8
mg)が得られる。IR(ニート):1748−1、N
MR(CDCl3):δ 1.23(d)、1.50
(d)、2.50−3.30(m)、3.72(s)、
3.60−4.40(m)、5.30(s)、6.35
(幅広い一重線)、7.50(d)及び8.26(d)
。
アゼチジノン23(55mg)を室温で0.1N HC
l(0.2ml)により3時間処理する。この混合物を
真空中で蒸発させると油状残渣が得られるので、これを
酢酸エチルに溶かす。この混合物を食塩水で洗った後、
有機層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。粗生
成物をシリカゲルプレートのクロマトグラフィー(酢酸
エチルで溶出)により精製すると生成物24(11.8
mg)が得られる。IR(ニート):1748−1、N
MR(CDCl3):δ 1.23(d)、1.50
(d)、2.50−3.30(m)、3.72(s)、
3.60−4.40(m)、5.30(s)、6.35
(幅広い一重線)、7.50(d)及び8.26(d)
。
【0091】実施例27
25の調製:
【化52】
【0092】実施例13に従うと(但し、置換基は図示
したものに代えてある)、生成物25が得られる。IR
(ニート):2150(N3)、1754及び1715
−1:NMR(CDCl3):δ 1.20(d)、
1.31(d)、2.60−3.20(m)、3.60
−4.40(m)、5.35(s)、7.50(d)及
び8.20(d)。
したものに代えてある)、生成物25が得られる。IR
(ニート):2150(N3)、1754及び1715
−1:NMR(CDCl3):δ 1.20(d)、
1.31(d)、2.60−3.20(m)、3.60
−4.40(m)、5.35(s)、7.50(d)及
び8.20(d)。
【0093】実施例28
26の調製:
【化53】
【0094】10mlの2つ首丸底フラスコに還流凝縮
器及び窒素導入管を取りつける。このフラスコにジアゾ
アゼチジノン1(110mg)、酢酸ロジウム(0.2
mg)及び酢酸エチル(3ml)を加える。この混合物
を10分間還流し、次いで室温に冷却し、0.5mlの
水で洗う。有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで真空中で蒸発させると生成物26が得られ
る。IR(ニート):1764cm−1(β−ラクタム
):NMR(60M Hz 、CDCl3):δ 1
.18(d)、1.35(d)、2.77(クインテッ
ト)、3.30(q、J=3.0及び6.0 Hz)、
4.17(m)、4.70(s)、5.29(s)、7
.53(d)及び8.24(d)ppm 。
器及び窒素導入管を取りつける。このフラスコにジアゾ
アゼチジノン1(110mg)、酢酸ロジウム(0.2
mg)及び酢酸エチル(3ml)を加える。この混合物
を10分間還流し、次いで室温に冷却し、0.5mlの
水で洗う。有機層を分離し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで真空中で蒸発させると生成物26が得られ
る。IR(ニート):1764cm−1(β−ラクタム
):NMR(60M Hz 、CDCl3):δ 1
.18(d)、1.35(d)、2.77(クインテッ
ト)、3.30(q、J=3.0及び6.0 Hz)、
4.17(m)、4.70(s)、5.29(s)、7
.53(d)及び8.24(d)ppm 。
【0095】実施例29
前述の実施例に従い、試薬の置換様式を指示したように
変化させると、本発明の化合物の調製に有用な以下の置
換様式を有するアゼチジノンが得られる。
変化させると、本発明の化合物の調製に有用な以下の置
換様式を有するアゼチジノンが得られる。
【化54】
【化55】
【化56】
【0096】実施例30
前述した本文及び実施例に従うと、以下の化合物(I)
が得られる。この場合実施例20のβ−ラクタムは、標
準的操作法(実施例10−14)によって相当するビシ
クロエステルに変換され、次いで選択すべきチオ側鎖を
導入、脱保護化する(実施例16及び17)。
が得られる。この場合実施例20のβ−ラクタムは、標
準的操作法(実施例10−14)によって相当するビシ
クロエステルに変換され、次いで選択すべきチオ側鎖を
導入、脱保護化する(実施例16及び17)。
【化57】
【化58】
【化59】
【化60】
Claims (6)
- 【請求項1】構造: 【化1】 〔式中、R1 はH又はCH3 −であり、R3 とR
4 は独立的にH、CH3 −、CH3 CH2 −、
=C(CH3 )CH2 OH、HOCH2 −、CH
3 CH(OH)−、(CH3 )2 C(OH)−、
FCH2 −及びCH3 CH(F)−から選択され、
Yは(i)COOH又はその薬学的に許容されるエステ
ル又は塩、(ii) COOR5 (R5 は容易に除
去可能なカルボキシル遮蔽基である)、(iii) C
OOM(Mはアルカリ金属である)又は(iv)COO
−(但し、付加的な補償カチオン又はカチオン性基が存
在することを条件とする)から選択され、そしてXは脱
離基である〕で表される化合物。 - 【請求項2】R3 がH又はCH3 −であり、R4
がCH3 −、CH3 CH2 −、HOCH2−、C
H3 CH(OH)−又は(CH3 )2 C(OH)
−から選択される請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】R4 がCH3 −、HOCH2 −又は
CH3 CH(OH)−である請求項2記載の化合物。 - 【請求項4】R3 がHであり、そしてR4 がCH3
CH(OH)−である請求項3記載の化合物。 - 【請求項5】R1 がCH3 −である請求項3記載の
化合物。 - 【請求項6】R1 がCH3 −である請求項4記載の
化合物。
Applications Claiming Priority (4)
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---|---|---|---|
US21793180A | 1980-12-18 | 1980-12-18 | |
US06/245,005 US4350631A (en) | 1980-12-18 | 1981-03-18 | 6- and 4-Substituted-1-azabicyclo[3.2.0]heptan-3,7-dione-2-carboxylates |
US245005 | 1981-03-18 | ||
US217931 | 1981-03-18 |
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---|---|
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JP2940836B2 JP2940836B2 (ja) | 1999-08-25 |
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Family Applications (1)
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---|---|
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EP (1) | EP0054917B1 (ja) |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US4683301A (en) * | 1982-04-08 | 1987-07-28 | Bristol-Myers Company | Carbapenem antibiotics |
US4732977A (en) * | 1982-09-28 | 1988-03-22 | Bristol Myers Company | Carbapenem antibiotics |
US4746736A (en) * | 1982-09-28 | 1988-05-24 | Bristol-Myers Company | Carbapenem antibiotics |
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DE3650023T2 (de) * | 1985-12-28 | 1994-11-24 | Sumitomo Pharma | Beta-Lactamverbindungen und deren Herstellung. |
CA1272719A (en) | 1986-03-06 | 1990-08-14 | Pierre Dextraze | Carbapenem antibiotics |
US5068232A (en) * | 1990-04-10 | 1991-11-26 | American Cyanamid Company | Novel 2-substituted alkyl-3-carboxy carbapenems as antibiotics and a method of producing them |
EP0464900A3 (en) | 1990-06-26 | 1992-07-22 | Merck & Co. Inc. | 2-biphenyl-carbapenems |
CA2052730A1 (en) | 1990-10-11 | 1992-04-12 | Frank P. Dininno | 2-(substituted-dibenzofuranyl and dibenzothienyl) carbapenem antibacterial agents |
US5189158A (en) * | 1991-03-20 | 1993-02-23 | American Cyanamid Company | 4-substituted azetidinones as precursors to 2-substituted-3-carboxy carbapenem antibiotics and a method of producing them |
US5371215A (en) * | 1991-03-20 | 1994-12-06 | American Cyanamid Company | 4-substituted azetidinones as precursors to 2-substituted-3-carboxy carbapenem antibiotics and a method of producing them |
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US6011150A (en) * | 1992-11-13 | 2000-01-04 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
US5631363A (en) * | 1992-11-13 | 1997-05-20 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Azetidinone compound and process for preparation thereof |
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US5578722A (en) * | 1994-03-29 | 1996-11-26 | Sumitomo Pharmaceuticals Co., Ltd. | Process for preparing carbapenem compounds |
US6504027B1 (en) | 1998-03-02 | 2003-01-07 | Merck & Co., Inc. | Decarboxylation process for synthesizing carbapenem antibiotics |
US6194568B1 (en) * | 1998-07-13 | 2001-02-27 | Merck & Co., Inc. | Process for synthesizing carbapenem intermediates |
JP4463520B2 (ja) * | 2003-10-02 | 2010-05-19 | 高砂香料工業株式会社 | カルバペネム誘導体の製造方法 |
WO2010013223A1 (en) * | 2008-07-30 | 2010-02-04 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of carbapenem compounds |
CN102137865A (zh) * | 2008-07-30 | 2011-07-27 | 兰贝克赛实验室有限公司 | 制备碳青霉烯化合物的方法 |
WO2011048583A1 (en) | 2009-10-23 | 2011-04-28 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of carbapenem compounds |
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---|---|---|---|---|
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US4218462A (en) * | 1978-10-24 | 1980-08-19 | Merck & Co., Inc. | 6-(1-Hydroxyethyl)-2-(2-aminoethylthio)-1-substituted-1-carbade-thiapen-2-em-3-carboxylic acids |
US4260627A (en) * | 1978-10-24 | 1981-04-07 | Merck & Co., Inc. | 1-, 6- And 2-substituted-1-carba-2-penem-3-carboxylic acids |
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-
1981
- 1981-03-18 US US06/245,005 patent/US4350631A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-12-17 DE DE8181110531T patent/DE3176681D1/de not_active Expired
- 1981-12-17 EP EP81110531A patent/EP0054917B1/en not_active Expired
-
1991
- 1991-04-16 JP JP3084274A patent/JP2940836B2/ja not_active Expired - Lifetime
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WO2007052642A1 (ja) | 2005-11-02 | 2007-05-10 | Nippon Soda Co., Ltd. | カルバペネム化合物 |
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Also Published As
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---|---|
US4350631A (en) | 1982-09-21 |
EP0054917B1 (en) | 1988-03-09 |
EP0054917A2 (en) | 1982-06-30 |
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DE3176681D1 (en) | 1988-04-14 |
EP0054917A3 (en) | 1982-09-01 |
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