JPH04206964A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPH04206964A JPH04206964A JP2339503A JP33950390A JPH04206964A JP H04206964 A JPH04206964 A JP H04206964A JP 2339503 A JP2339503 A JP 2339503A JP 33950390 A JP33950390 A JP 33950390A JP H04206964 A JPH04206964 A JP H04206964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- stage circuit
- well
- stage
- input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 23
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 101000821827 Homo sapiens Sodium/nucleoside cotransporter 2 Proteins 0.000 description 2
- 102100021541 Sodium/nucleoside cotransporter 2 Human genes 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路さらにはそれにおける電源ノイ
ズを低減するための技術に関し、例えば入カバソファ回
路や出カバソファ回路を含む0MO8型の半導体記憶装
置に適用して有効な技術に関する。
ズを低減するための技術に関し、例えば入カバソファ回
路や出カバソファ回路を含む0MO8型の半導体記憶装
置に適用して有効な技術に関する。
0MO8型の半導体集積回路には、これに使用される基
板の種類に応じてNウェル(N−well)、Pウェル
(P−we ] ]、) 、又はダブルウェル(dou
ble web、]、)構造が採用され、導電型の異
なるMOSFETが一個の半導体基板に形成されている
。例えば半導体記憶装置において、アドレス信号を外部
から取り込むための入カバソファ回路や、メモリセルか
らの読出しデータを外部送出するための出力バッファ回
路なと、外部とインタフェースされる回路においても、
少なくとも−の導電型トランジスタは共通のウェルに形
成されている。
板の種類に応じてNウェル(N−well)、Pウェル
(P−we ] ]、) 、又はダブルウェル(dou
ble web、]、)構造が採用され、導電型の異
なるMOSFETが一個の半導体基板に形成されている
。例えば半導体記憶装置において、アドレス信号を外部
から取り込むための入カバソファ回路や、メモリセルか
らの読出しデータを外部送出するための出力バッファ回
路なと、外部とインタフェースされる回路においても、
少なくとも−の導電型トランジスタは共通のウェルに形
成されている。
尚、バッファ回路について記載された文献の例としては
、昭和63年3月31日に(株)サイエンスフォーラム
より発行された「超LSI総合事典」があり、CMOS
プロセス技術について記載された文献の例としては、昭
和59年11月30日に株式会社オーム社より発行され
たrLSIハンドブックJがある。
、昭和63年3月31日に(株)サイエンスフォーラム
より発行された「超LSI総合事典」があり、CMOS
プロセス技術について記載された文献の例としては、昭
和59年11月30日に株式会社オーム社より発行され
たrLSIハンドブックJがある。
本発明者はバッファ回路のウェル構造について検討した
ところ、以下のような問題点のあることを見いだした。
ところ、以下のような問題点のあることを見いだした。
例えば、半導体記憶装置に含まれるアドレス人力バッフ
ァ回路においては、回路動作時の電源(Vcc、Vss
)ノイズにより初段回路の論理しきい値vthが変動す
ると、それに起因して当該回路の入力レベルマージンが
悪化し、最悪の場合には入力信号の論理値が不所望に反
転されて伝達事態を生ずる。すなわち、入カバソファ回
路最終段トランジスタには、後段のアドレスデコーダを
駆動させるため比較的駆動能力の大きな1〜ランジスタ
が使用されている。かかる複数個の最終断1−ランジス
タが並列的に動作すると比較的大きなスイッチングもし
くは電源ノイズの発生することが予想される。たとえば
Pウェル構造のCIVI OS回路においてグランド(
GND)側の電源ノイズは、Pウェルのレベル」1昇を
招き、その影響はI〕ウェルを共有する他のトランジス
タに波及する。
ァ回路においては、回路動作時の電源(Vcc、Vss
)ノイズにより初段回路の論理しきい値vthが変動す
ると、それに起因して当該回路の入力レベルマージンが
悪化し、最悪の場合には入力信号の論理値が不所望に反
転されて伝達事態を生ずる。すなわち、入カバソファ回
路最終段トランジスタには、後段のアドレスデコーダを
駆動させるため比較的駆動能力の大きな1〜ランジスタ
が使用されている。かかる複数個の最終断1−ランジス
タが並列的に動作すると比較的大きなスイッチングもし
くは電源ノイズの発生することが予想される。たとえば
Pウェル構造のCIVI OS回路においてグランド(
GND)側の電源ノイズは、Pウェルのレベル」1昇を
招き、その影響はI〕ウェルを共有する他のトランジス
タに波及する。
このようなノイズがウェルを介して入力初段に波及した
場合、初段回路の論理しきい値を一層変動させて入力レ
ベルマージンを悪くする。
場合、初段回路の論理しきい値を一層変動させて入力レ
ベルマージンを悪くする。
また、データ出カバソファ回路の最終断1〜ランジスタ
は、外部を駆動する必要」二極めて駆動能力の大きな1
〜ランジスタサイズが採用され、複数ビット並列出力時
などには相当大きなスイッチングノイズもしくは電源ノ
イズが発生する。従ってその1−ランジスタとウェルを
共有するl−ランジスタは、同様に当該ノイズの影響を
受けて出力のための論理動作に誤動作を引き起こす。さ
らに出力バッファに起因するノイズは、入力初段に影響
することもある。
は、外部を駆動する必要」二極めて駆動能力の大きな1
〜ランジスタサイズが採用され、複数ビット並列出力時
などには相当大きなスイッチングノイズもしくは電源ノ
イズが発生する。従ってその1−ランジスタとウェルを
共有するl−ランジスタは、同様に当該ノイズの影響を
受けて出力のための論理動作に誤動作を引き起こす。さ
らに出力バッファに起因するノイズは、入力初段に影響
することもある。
このようにウェル領域を共有するトランジスタ間で波及
する電源ノイズの影響は、高集積化、スイッチングの高
速化が進むに従って大きくなることが予想される。
する電源ノイズの影響は、高集積化、スイッチングの高
速化が進むに従って大きくなることが予想される。
本発明の目的は、半導体集積回路において電源ノイズの
影響を低減することによって動作マージンの向」二を図
ることにある。
影響を低減することによって動作マージンの向」二を図
ることにある。
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細
書の記述並びに添付図面から明らかになるであろう。
書の記述並びに添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば下記の通りである。
を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、信号取り込みのための入力回路を含む場合に
おいて、当該入力回路の初段回路のためのウェルと、そ
れに結合される後段回路のためのウェルとを分離して半
導体集積回路を形成するものである。この場合において
さらに効果的に電源ノイズを低減するには、入力回路の
最終段とされR− る終段回路のウェルと、それの前段に配置される回路の
ためのウェルとを分離すると良い。
おいて、当該入力回路の初段回路のためのウェルと、そ
れに結合される後段回路のためのウェルとを分離して半
導体集積回路を形成するものである。この場合において
さらに効果的に電源ノイズを低減するには、入力回路の
最終段とされR− る終段回路のウェルと、それの前段に配置される回路の
ためのウェルとを分離すると良い。
また、信号送出のための出力回路を含む場合において、
この出力回路の最終段とされる回路のウェルと、当該回
路の前段に配置される回路のためのウェルとを分離して
半導体集積回路を形成するものである。
この出力回路の最終段とされる回路のウェルと、当該回
路の前段に配置される回路のためのウェルとを分離して
半導体集積回路を形成するものである。
上記した手段によれば、初段回路とそれに結合される後
段回路とを含む入力回路において、」1記初段回路のウ
ェルと上記後段回路のウェルとを分離して半導体集積回
路を形成することは、」二記後段回路のスイッチングに
よって生じるノイズがウェルを介して上記初段回路に伝
達されるのを阻止し、このことが、電源ノイズの影響を
低減して入力レベルマージンを向」ニさせる。
段回路とを含む入力回路において、」1記初段回路のウ
ェルと上記後段回路のウェルとを分離して半導体集積回
路を形成することは、」二記後段回路のスイッチングに
よって生じるノイズがウェルを介して上記初段回路に伝
達されるのを阻止し、このことが、電源ノイズの影響を
低減して入力レベルマージンを向」ニさせる。
また、終段回路とそれに結合される前段回路とを含む場
合において、上記終段回路のウェルと」1記前段回路の
ウェルとを分離して半導体集積回路を形成することは、
駆動能力の大きい終段回路の−6= スイッチングによって生じるノイズがウェルを介して」
1記前段回路に伝達されるのを阻止し、このことが、電
源ノイズの影響を低減して人カレヘルマージンを向上さ
せる。
合において、上記終段回路のウェルと」1記前段回路の
ウェルとを分離して半導体集積回路を形成することは、
駆動能力の大きい終段回路の−6= スイッチングによって生じるノイズがウェルを介して」
1記前段回路に伝達されるのを阻止し、このことが、電
源ノイズの影響を低減して人カレヘルマージンを向上さ
せる。
第4図には本発明の一実施例である入カハッファ回路や
出力バッファ回路が含まれるS RA M(スタティッ
ク・ランダム・アクセス・メモリ)が示される。同図に
示されるS RA Mは、特に制限されないが、公知の
半導体集精回路製造技術によってシリコン基板のような
一つの半導体基板に形成されている。
出力バッファ回路が含まれるS RA M(スタティッ
ク・ランダム・アクセス・メモリ)が示される。同図に
示されるS RA Mは、特に制限されないが、公知の
半導体集精回路製造技術によってシリコン基板のような
一つの半導体基板に形成されている。
第4図において1は、複数個のスタティック型メモリセ
ルを71−リクス配置したメモリセルアレイであり、メ
モリセルの選択端子は行方向毎にワー)−線に結合され
、メモリセルのデータ入出力端子は列方向毎に相補ビッ
ト線に結合される。夫々の相補ピッI〜線は、相補ビッ
ト線1苅1で接続された複数個のビット線選択スイッチ
を含むYスイッチ回路2を介して相補コモンデータ線C
D、CDI (*はロウアクティブを示す)に共通接続
されている。
ルを71−リクス配置したメモリセルアレイであり、メ
モリセルの選択端子は行方向毎にワー)−線に結合され
、メモリセルのデータ入出力端子は列方向毎に相補ビッ
ト線に結合される。夫々の相補ピッI〜線は、相補ビッ
ト線1苅1で接続された複数個のビット線選択スイッチ
を含むYスイッチ回路2を介して相補コモンデータ線C
D、CDI (*はロウアクティブを示す)に共通接続
されている。
外部より入力されるアドレス信号AO−Aiはアドレス
バッファ部3に取込まれ、」〕位数ピッ1〜はXアドレ
スデコーダ5に伝達され、下位数ヒラ1−はY71へレ
スデコーダ7に伝達される。Xアl’レスデコーダ5は
これに供給されるアドレス信号に対応するり−1〜線を
選択レベルに駆動する。所定のワード線が選択レベルに
駆動されると、このツー1〜線に選択端子が結合された
メモリセルが選択される。また、Yアドレステコーダ7
はこれに供給されるアドレス信号に対応するビット線選
択スイッチをオン動作させて、上記選択されたメモリセ
ルをコモンデータ線CD、CDIに導通する。
バッファ部3に取込まれ、」〕位数ピッ1〜はXアドレ
スデコーダ5に伝達され、下位数ヒラ1−はY71へレ
スデコーダ7に伝達される。Xアl’レスデコーダ5は
これに供給されるアドレス信号に対応するり−1〜線を
選択レベルに駆動する。所定のワード線が選択レベルに
駆動されると、このツー1〜線に選択端子が結合された
メモリセルが選択される。また、Yアドレステコーダ7
はこれに供給されるアドレス信号に対応するビット線選
択スイッチをオン動作させて、上記選択されたメモリセ
ルをコモンデータ線CD、CDIに導通する。
選択されたメモリセルの出力はピッ1−線選択スイッチ
を介して相補コモンデータ線CD、CDIに伝達され、
されに入出力回路9のメインアンプで増幅され、これに
よってメモリセルデータが外部に読出される。外部から
入出力回路9に書込みデータか与えられると、入出力回
路の書込みアンブがその書込みデータに従って相補コモ
ンデータ線CD、CDIを駆動し、これにより、アドレ
ス信号にて選択された相補ビット線を介して所定のメモ
リセルにそのデータに応する情報が蓄積される。また、
外部から与えられるチノプセレク[・信号C8*及びラ
イトイネーブル信号WI号*及びアウトプットイネーブ
ル信号○E*は制御回路12に取込まれ、この制御回路
12により内部の動作制御信号が生成されるようになっ
ている。特にチップセレクト信号C8*についてはこの
制御回路」2を介してデコーダ5,7や入出力回路9、
アドレスバッファ部3に供給されるようになっている。
を介して相補コモンデータ線CD、CDIに伝達され、
されに入出力回路9のメインアンプで増幅され、これに
よってメモリセルデータが外部に読出される。外部から
入出力回路9に書込みデータか与えられると、入出力回
路の書込みアンブがその書込みデータに従って相補コモ
ンデータ線CD、CDIを駆動し、これにより、アドレ
ス信号にて選択された相補ビット線を介して所定のメモ
リセルにそのデータに応する情報が蓄積される。また、
外部から与えられるチノプセレク[・信号C8*及びラ
イトイネーブル信号WI号*及びアウトプットイネーブ
ル信号○E*は制御回路12に取込まれ、この制御回路
12により内部の動作制御信号が生成されるようになっ
ている。特にチップセレクト信号C8*についてはこの
制御回路」2を介してデコーダ5,7や入出力回路9、
アドレスバッファ部3に供給されるようになっている。
第1図には上記アドレスバッファ部3の主要部の詳細な
構成が示される。
構成が示される。
同図に示される回路は、アドレス信号を取り込むための
アドレス人力バッファ回路とされ、アドレス信号の1ビ
ツトに対応する。このアドレス人力バッファ回路は、P
チャンネル形MO3FETQl、Q2とNチャンネル形
MO8FETQ3゜−9〜 Q4とから形成される初段回路10、及びPチャンネル
形MO8FETQ5.Q7.Q9と、Nチャンネル形M
O8FETQ6.Q8.QIOとから形成される後段回
路20を含む。
アドレス人力バッファ回路とされ、アドレス信号の1ビ
ツトに対応する。このアドレス人力バッファ回路は、P
チャンネル形MO3FETQl、Q2とNチャンネル形
MO8FETQ3゜−9〜 Q4とから形成される初段回路10、及びPチャンネル
形MO8FETQ5.Q7.Q9と、Nチャンネル形M
O8FETQ6.Q8.QIOとから形成される後段回
路20を含む。
−上記初段回路10は、MO8FETQI、Q2が直列
接続され、MO5FETQ3.Q/lが並列接続されて
成る。M OS F E TQ ]に高電位側電源Vc
cが印加され、MO8FETQ3.Q4に低電位側電源
Vssが印加される。MO3FETQl、Q3のゲート
はアドレス入力端子に共通接続され、それにより、複数
ビット構成のアドレス信号のうちの1ビツトAOが初段
回路10 Lこ入力可能とされる。MO8FETQ2.
Q4に入力される制御信号CNTlは、上記制御回路]
2においてチップセレクト信号C8*に同期して出力さ
れる信号であり、この制御信号CNT]がロウレベルと
されるとき、アドレス信号AOが後段回路20に伝達さ
れる。
接続され、MO5FETQ3.Q/lが並列接続されて
成る。M OS F E TQ ]に高電位側電源Vc
cが印加され、MO8FETQ3.Q4に低電位側電源
Vssが印加される。MO3FETQl、Q3のゲート
はアドレス入力端子に共通接続され、それにより、複数
ビット構成のアドレス信号のうちの1ビツトAOが初段
回路10 Lこ入力可能とされる。MO8FETQ2.
Q4に入力される制御信号CNTlは、上記制御回路]
2においてチップセレクト信号C8*に同期して出力さ
れる信号であり、この制御信号CNT]がロウレベルと
されるとき、アドレス信号AOが後段回路20に伝達さ
れる。
後段回路20は、MO8FETQ5とQ6、Q7とQ8
、Q9とQ 1.0によってそれぞれ形成さ一1〇− れるインバータの直列回路とされ、上記初段回路]0に
よって取り込まれたアドレス信号が当該インバータを介
することにより所定の遅延を受けるようになっている。
、Q9とQ 1.0によってそれぞれ形成さ一1〇− れるインバータの直列回路とされ、上記初段回路]0に
よって取り込まれたアドレス信号が当該インバータを介
することにより所定の遅延を受けるようになっている。
ここで、第1図に示される回路は、第2図に示されるよ
うに、N形部板にPチャンネル形MO8FETを、Pウ
ェル内にNチャンネル形MO8FETをそれぞれつくる
PウェルCM OS構造とされる。そして初段回路10
が形成されるウェルと、後段回路20が形成されるウェ
ルとは、第1図においてWl、V、72で示されるよう
に分離されている。このように初段回路10のウェルW
]と、後段回路20のウェルW2とを分離することは、
後段回路20のスイッチング動作による電源Vss(ウ
ェル電位)の変動が初段回路10に影響するのを排除す
ることができ、初段回路10の入力レベルマージンを向
上させ得る。例えば従来例に従えば、初段回路]Oと後
段回路20とで同一のウェルを共有することになるが、
かかる構成においテハ、後段回路2o特ニM OS F
E T Q 9、Q10から成る終段回路の負荷駆動
能力が比較的大きく設定されているため、スイッチング
による電源Vssのレベル変動すなわち不所望なレベル
変動が犬きく、それによって入力回路10の論理しきい
値vthが変動されてしまう。このことは、初段回路1
0のVj h/Vi 1 (ハイレベル入力電位/ロ
ウレベル入力電位)不良を招来するため、当該入力回路
10の入力レベルマージンを悪化させる主たる要因とさ
れる。
うに、N形部板にPチャンネル形MO8FETを、Pウ
ェル内にNチャンネル形MO8FETをそれぞれつくる
PウェルCM OS構造とされる。そして初段回路10
が形成されるウェルと、後段回路20が形成されるウェ
ルとは、第1図においてWl、V、72で示されるよう
に分離されている。このように初段回路10のウェルW
]と、後段回路20のウェルW2とを分離することは、
後段回路20のスイッチング動作による電源Vss(ウ
ェル電位)の変動が初段回路10に影響するのを排除す
ることができ、初段回路10の入力レベルマージンを向
上させ得る。例えば従来例に従えば、初段回路]Oと後
段回路20とで同一のウェルを共有することになるが、
かかる構成においテハ、後段回路2o特ニM OS F
E T Q 9、Q10から成る終段回路の負荷駆動
能力が比較的大きく設定されているため、スイッチング
による電源Vssのレベル変動すなわち不所望なレベル
変動が犬きく、それによって入力回路10の論理しきい
値vthが変動されてしまう。このことは、初段回路1
0のVj h/Vi 1 (ハイレベル入力電位/ロ
ウレベル入力電位)不良を招来するため、当該入力回路
10の入力レベルマージンを悪化させる主たる要因とさ
れる。
そこで本実施例では、初段回路10のウェルW1と、後
段回路20のウェルW2とを分離することにより、後段
回路20のスイッチングに起因する電源Vssの変動(
電源ノイズ)が、初段回路10のウェルW1に伝達され
るのを排除し、それにより、当該電源VSSの変動に起
因する論理しきい値の変動を抑え、初段回路10におけ
る入力レベルマージンの向」二を図るようにしている。
段回路20のウェルW2とを分離することにより、後段
回路20のスイッチングに起因する電源Vssの変動(
電源ノイズ)が、初段回路10のウェルW1に伝達され
るのを排除し、それにより、当該電源VSSの変動に起
因する論理しきい値の変動を抑え、初段回路10におけ
る入力レベルマージンの向」二を図るようにしている。
第3図には上記入出力回路9の主要部の詳細な構成が示
される。
される。
同図に示される回路は、メモリセルからの読出しデータ
を外部出力するための出力バッファ回路とされ、出力デ
ータの1ビツトに対応する。この出力バッファ回路は、
Nチャンネル形MO8FETQ1.8とQ ]、 9と
から成る終段回路30と、それの前段に配置された前段
回路40とを含む。
を外部出力するための出力バッファ回路とされ、出力デ
ータの1ビツトに対応する。この出力バッファ回路は、
Nチャンネル形MO8FETQ1.8とQ ]、 9と
から成る終段回路30と、それの前段に配置された前段
回路40とを含む。
終段回路30は、当該量カバソファ回路の最終段とされ
、MO3FETQi8.Ql9の直列接続箇所よりデー
タの外部出力が可能とされる。このためMO8FETQ
18.Ql9には、負荷駆動能力の高い大型の素子が適
用される。
、MO3FETQi8.Ql9の直列接続箇所よりデー
タの外部出力が可能とされる。このためMO8FETQ
18.Ql9には、負荷駆動能力の高い大型の素子が適
用される。
前段回路40は、相補データ線り、D*に対応する第1
の前段回路4OA、第2の前段回路40Bを含む。この
第1.第2の前段回路4.OA、40Bはり、rlの入
力信号が異なることを除けばその回路動作は等しい構成
とされるので、第1の前段回路4.OAについてのみ詳
細に説明する。
の前段回路4OA、第2の前段回路40Bを含む。この
第1.第2の前段回路4.OA、40Bはり、rlの入
力信号が異なることを除けばその回路動作は等しい構成
とされるので、第1の前段回路4.OAについてのみ詳
細に説明する。
Pチャンネル形MO3FETQ12とNチャンネル形M
O3FETQ13とが直列接続されることにより、イン
バータが形成される。このインバータの出力は、後段の
Pチャンネル形MO3FETQl、4.、Nチャンネル
形MO3FETQI−6のゲートに入力される。MO3
FETQ14にはPチャンネル形MO5FETQ15が
直列接続され、MO8FETQ16には、Nチャンネル
形MO8FETQ17が並列接続される。M OS F
E ’]” Ql、5.Ql7のゲートには、上記制
御回路12においてアウI−プツトイネーブル信号○E
*に同期して出力される出力制御信号CNT2が入力さ
れるようになっており、この制御信号CNT2がロウレ
ベルとされた場合に入力データDがMO8FETQ18
に伝達可能とされる。
O3FETQ13とが直列接続されることにより、イン
バータが形成される。このインバータの出力は、後段の
Pチャンネル形MO3FETQl、4.、Nチャンネル
形MO3FETQI−6のゲートに入力される。MO3
FETQ14にはPチャンネル形MO5FETQ15が
直列接続され、MO8FETQ16には、Nチャンネル
形MO8FETQ17が並列接続される。M OS F
E ’]” Ql、5.Ql7のゲートには、上記制
御回路12においてアウI−プツトイネーブル信号○E
*に同期して出力される出力制御信号CNT2が入力さ
れるようになっており、この制御信号CNT2がロウレ
ベルとされた場合に入力データDがMO8FETQ18
に伝達可能とされる。
尚、第2の前段回路4. OBは、Pチャンネル形MO
8FETQ22.Q24.Q25とNチャンネル形MO
8FETQ23、Q26.Q27とを含み、上記第1の
前段回路4. OAと同様に構成される。
8FETQ22.Q24.Q25とNチャンネル形MO
8FETQ23、Q26.Q27とを含み、上記第1の
前段回路4. OAと同様に構成される。
ここで、第3図に示される回路は、第1図に示される回
路と同様に、N形部板にPチャンネル形MO5FETを
、Pウェル内にNチャンネル形MO3FETをそれぞれ
つくるPウェルCMO3構造とされる(第2図参照)。
路と同様に、N形部板にPチャンネル形MO5FETを
、Pウェル内にNチャンネル形MO3FETをそれぞれ
つくるPウェルCMO3構造とされる(第2図参照)。
そして終段回路30が形成されるウェルと、後段回路2
0が形成されるウェルとは、第3図においてW3 、
W4 、 W5で示されるようLこ分離されている。特
に終段回路30のウェルW5が他回路のウェルから分離
されることは、終段回路30のスイッチング動作による
電源Vss(ウェル電位)の変動がウェルを介して前段
回路40やその他の回路に伝達されるのを排除すること
ができ、前段回路40の入力レベルマージンの向上や他
回路の安定動作を確保することができる。
0が形成されるウェルとは、第3図においてW3 、
W4 、 W5で示されるようLこ分離されている。特
に終段回路30のウェルW5が他回路のウェルから分離
されることは、終段回路30のスイッチング動作による
電源Vss(ウェル電位)の変動がウェルを介して前段
回路40やその他の回路に伝達されるのを排除すること
ができ、前段回路40の入力レベルマージンの向上や他
回路の安定動作を確保することができる。
本実施例によれば以下の作用効果がある。
(1)71−レス入力バッファ回路において、初段回路
i−0のウェルW1と、後段回路20のウェルW2とが
分離されているため、後段回路20のスイッチングに起
因するウェル電位の変動が、初段回路10のウェルW2
に伝達されるのが排除されるので、当該ノイズに起因す
る論理しきい値の変動が抑えられ、当該初段回路10の
人力レベルマージンが向上される。
i−0のウェルW1と、後段回路20のウェルW2とが
分離されているため、後段回路20のスイッチングに起
因するウェル電位の変動が、初段回路10のウェルW2
に伝達されるのが排除されるので、当該ノイズに起因す
る論理しきい値の変動が抑えられ、当該初段回路10の
人力レベルマージンが向上される。
(2)また、出力バッファ回路において終段回路30が
形成されるウェルW5と、前段回路40が形成されるウ
ェルW3.W4とが分離されているので、終段回路30
のスイッチング動作によるウェル電位の変動が前段回路
40やその他の回路に伝達されるのが排除され、それに
よって前段回路40の入力レベルマージンの向」二や他
回路の安定動作が確保される。
形成されるウェルW5と、前段回路40が形成されるウ
ェルW3.W4とが分離されているので、終段回路30
のスイッチング動作によるウェル電位の変動が前段回路
40やその他の回路に伝達されるのが排除され、それに
よって前段回路40の入力レベルマージンの向」二や他
回路の安定動作が確保される。
以]二本発明者によってなされた発明を実施例に基づい
て具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更
することができる。
て具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更
することができる。
例えば第1図の後段回路20において、MO3FETQ
9.QIOによって構成される終段回路のウェルと、当
該終段回路の前段に配置される回路のウェルとを分離す
るようにしても良い。MO8FETQ9.QIOによっ
て構成される終段回路は、アドレスバッファ回路の出力
段であり、負荷駆動能力の関係から比較的大きなスイッ
チング電流が流れる。このため」1記のように後段回路
2Oにおいてもウェルを分離するようにすれば、初段回
路]0の入力レベルマージンの向上を図る」二でさらに
効果的とされる。
9.QIOによって構成される終段回路のウェルと、当
該終段回路の前段に配置される回路のウェルとを分離す
るようにしても良い。MO8FETQ9.QIOによっ
て構成される終段回路は、アドレスバッファ回路の出力
段であり、負荷駆動能力の関係から比較的大きなスイッ
チング電流が流れる。このため」1記のように後段回路
2Oにおいてもウェルを分離するようにすれば、初段回
路]0の入力レベルマージンの向上を図る」二でさらに
効果的とされる。
また、上記のウェル分離に加えて、初段回路]Oと後段
回路20とで、あるいは前段回路40と後段回路30と
で互いに別系統の@源(Vcc。
回路20とで、あるいは前段回路40と後段回路30と
で互いに別系統の@源(Vcc。
Vs s)を用いるようにすれば、電源ノイズ対策はさ
らに強化される。
らに強化される。
上記実施例では、N型半導体基板にPウェルを形成する
ものについて説明したが、P形半導体基板(P−)に1
〕+ウエルを形成する場合にも、上記実施例と同様にウ
ェル分離を行うことにより電源ノイズ対策が可能とされ
る。
ものについて説明したが、P形半導体基板(P−)に1
〕+ウエルを形成する場合にも、上記実施例と同様にウ
ェル分離を行うことにより電源ノイズ対策が可能とされ
る。
さらに上記実施例では、低電位側電源V s sの変動
に対するノイズ対策について述へたが、ウェル分離によ
り、高電位側電源Vccの変動に対するノイズ対策を講
じることも可能である。例えば、P形半導体基板にNウ
ェルが形成されるNウェルCMO8や、一つの半纏体基
板にNウェル、Pウェルの双方を形成してなるダブルウ
ェルCMO8を用いる場合に有効とされる。
に対するノイズ対策について述へたが、ウェル分離によ
り、高電位側電源Vccの変動に対するノイズ対策を講
じることも可能である。例えば、P形半導体基板にNウ
ェルが形成されるNウェルCMO8や、一つの半纏体基
板にNウェル、Pウェルの双方を形成してなるダブルウ
ェルCMO8を用いる場合に有効とされる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となったSRAMに適用した場合について説
明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、ダ
イナミックRAMやE P ROM(エレクトリカリ・
プログラマブル・リード・オンリ・メモリ)、さらには
データ処理装置などの各種半導体集積回路に適用するこ
とができる。
をその背景となったSRAMに適用した場合について説
明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、ダ
イナミックRAMやE P ROM(エレクトリカリ・
プログラマブル・リード・オンリ・メモリ)、さらには
データ処理装置などの各種半導体集積回路に適用するこ
とができる。
本発明は、少なくともデータ取り込みもしくはデータ送
出のための回路を含む条件のものに適用することができ
る。
出のための回路を含む条件のものに適用することができ
る。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
て得られる効果を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、初段回路とそれに結合される後段回路とを含
む場合おいて、−1−記初段回路のウェルと上記後段回
路のウェルとが分離されることにより、」1記後段回路
のスイッチングによって生じるノイズか上記初段回路に
伝達されるのが阻止され、そ= 18− れによって、電源ノイズの影響が低減され、人力レベル
マージンが改善される。
む場合おいて、−1−記初段回路のウェルと上記後段回
路のウェルとが分離されることにより、」1記後段回路
のスイッチングによって生じるノイズか上記初段回路に
伝達されるのが阻止され、そ= 18− れによって、電源ノイズの影響が低減され、人力レベル
マージンが改善される。
また、終段回路とそれに結合される前段回路とを含む場
合において、」1記終段回路のウェルと」1記前段回路
のウェルとが分離されることにより、駆動能力の大きい
終段回路のスイッチングによって生じるノイズが前段回
路に伝達されるのが阻止され、それにより、電源ノイズ
の影響が低減され入力レベルマージンが改善される。
合において、」1記終段回路のウェルと」1記前段回路
のウェルとが分離されることにより、駆動能力の大きい
終段回路のスイッチングによって生じるノイズが前段回
路に伝達されるのが阻止され、それにより、電源ノイズ
の影響が低減され入力レベルマージンが改善される。
第1図は本発明の一実施例SRAMに含まれるアIくレ
ス入カバソファ回路の電気結線図、第2図はPウェルC
MO3の構造断面図、第3図は本発明の一実施例SRA
Mに含まれる出力バッファ回路の電気結線図、 第4図は本発明の一実施例としてのS RA Mの全体
的な構成ブロック回である。 10・・初段回路、20−後段回路、30 終段回路、
40・前段回路、4. OA・第1の前段回路、40
B =第2の前段回路、Ql乃至A10.Ql2乃至Q
l9.Q22乃至Q27・・・M OS F E T、
W]乃至W5・・ウェル。
ス入カバソファ回路の電気結線図、第2図はPウェルC
MO3の構造断面図、第3図は本発明の一実施例SRA
Mに含まれる出力バッファ回路の電気結線図、 第4図は本発明の一実施例としてのS RA Mの全体
的な構成ブロック回である。 10・・初段回路、20−後段回路、30 終段回路、
40・前段回路、4. OA・第1の前段回路、40
B =第2の前段回路、Ql乃至A10.Ql2乃至Q
l9.Q22乃至Q27・・・M OS F E T、
W]乃至W5・・ウェル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、信号取り込みのための入力回路を含む半導体集積回
路において、上記入力回路は、初段回路とこれに結合さ
れる後段回路とを含み、且つ、上記初段回路のためのウ
ェルと上記後段回路のためのウェルとが分離されて成る
ことを特徴とする半導体集積回路。 2、上記後段回路には、それが含まれる入力回路の最終
段とされる終段回路が含まれ、この終段回路のウェルが
、それの前段に配置される回路のためのウェルと分離さ
れて成る請求項1記載の半導体集積回路。 3、信号送出のための出力回路を含む半導体集積回路に
おいて、上記出力回路は、当該出力回路の最終段とされ
る終段回路とこれに結合される前段回路とを含み、上記
終段回路のためのウェルと上記前段回路のためのウェル
とが分離されて成ることを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2339503A JPH04206964A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2339503A JPH04206964A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04206964A true JPH04206964A (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=18328095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2339503A Pending JPH04206964A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04206964A (ja) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2339503A patent/JPH04206964A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10304526B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device and system | |
KR100217210B1 (ko) | 바이씨모스 게이트 어레이용 베이직 셀 | |
US5777491A (en) | High-performance differential cascode voltage switch with pass gate logic elements | |
JPS63200391A (ja) | スタテイツク型半導体メモリ | |
JP2560020B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US4833648A (en) | Multiport ram hybrid memory cell with fast write | |
US6834004B2 (en) | Semiconductor integrated circuit having logic circuit comprising transistors with lower threshold voltage values and improved pattern layout | |
US5675548A (en) | Semiconductor integrated circuit having logi gates | |
US5446700A (en) | Decoder circuit having CMOS inverter circuits | |
JP2806335B2 (ja) | 論理回路及びこれを用いた半導体集積回路 | |
US6504788B1 (en) | Semiconductor memory with improved soft error resistance | |
JPH04206964A (ja) | 半導体集積回路 | |
TWI291698B (en) | Static random access memory device | |
JPH02294994A (ja) | メモリセルからハイアラーキに構成されたメモリ | |
US4902911A (en) | Semiconductor integrated circuit having a built-in power voltage generator | |
US6166964A (en) | Semiconductor memory and method of controlling data therefrom | |
US6243318B1 (en) | Decoder circuit | |
US6954401B2 (en) | Semiconductor memory device integrating source-coupled-logic (SCL) circuit into an address buffer and a decoder | |
US5467317A (en) | Semiconductor memory device for use an apparatus requiring high-speed access to memory cells | |
JP3266346B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
Ohba et al. | A 7 ns 1 Mb BiCMOS ECL SRAM with program-free redundancy | |
JP2693970B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JPS6282596A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH11232875A (ja) | 半導体集積回路 | |
JPH04222991A (ja) | 半導体記憶装置 |