JPH04206718A - 縦型熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、縦型熱処理装置に関する。

（従来の技術） 近年、半導体デバイスの製造工程における熱拡散工程や
成膜工程で使用される熱処理装置として、無塵化および
省スペース化等を図ることのできる縦型熱処理装置が用
いられるようになってきた。

すなわち、このような縦型熱処理装置では、耐熱製材料
例えば石英等からなり、円筒状に形成されたプロセスチ
ューブがほぼ垂直に設けられており、このプロセスチュ
ーブの下部にはステンレ鋼等からなるリング状のマニホ
ールドか設けられている。また、プロセスチューブの周
囲には、プロセスチューブを囲繞する如くヒータ、均熱
管、断熱材等が設けられている。

このような縦型熱処理装置には、プロセスチューブ内の
下部から上部へ向かう如くプロセスチューブ内壁に沿っ
て延在するチューブ状部材を設けられたものがある。す
なわち、このチューブ状部材は、材質例えば石英等から
ほぼＬ字状に形成されており、この垂直部かプロセスチ
ューブ内壁に沿ってほぼ垂直に設けられ、水平部が内側
からマニホールドに設けられた円孔に挿入されて外部に
延在する如く設けられている。このチューブ状部材は、
内部に所定のガスを導入するためのノズルとして、ある
いは温度測定用の内部熱電対の周囲を覆うためのカバー
として使用される。例えば第５図に示すように、プロセ
スチューブ２内壁にコテ状の係止部材２５を溶着し、チ
ューブ状部材７を係止する構成にしている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記説明の従来の縦型熱処理装置では、
チューブ状部材が傾いて配置されることがあり、被処理
物（例えばウェハボートに配置した半導体ウェハ）を熱
処理炉内にロードした際に、被処理物とチューブ状部材
とが干渉してしまい、被処理物あるいはチューブ状部材
等に損傷が生じることがあるという問題かあった。

本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、熱処理炉内のチューブ状部材に傾が生じることを防止
することかでき、被処理物とチューブ状部材とが干渉し
、損傷等が生じることを防止することのできる縦型熱処
理装置を提供しようとするものである。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） すなわち本発明の縦型熱処理装置は、円筒状に形成され
、ほぼ垂直に立設されたプロセスチューブと、このプロ
セスチューブの下部に接続されたマニホールドと、この
マニホールドの内側部から前記プロセスチューブの内壁
に沿って上部へ延在するチューブ状部材とを具備した縦
型熱処理装置において、前記マニホールドの内側部に、
前記チューブ状部材を係止してほぼ垂直な状態に保持す
るための機構を設けたことを特徴とする。

（作　用） 上記構成の本発明の縦型熱処理装置では、マニホールド
の内側部に、チューブ状部材を係止してほぼ垂直な状態
に保持するた約の機構が設けられている。

したがって、チューブ状部材に傾か生しることを防止す
ることかでき、被処理物とチューブ状部材とが干渉し、
損傷等か生じることを防止することができる。

（実施例） 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。

第１図に示すように、熱処理炉１は、ほぼ垂直に設けら
れている。この熱処理炉１には、材質例えば石英等から
円筒状に形成されたプロセスチューブ２がほぼ垂直に設
けられており、このプロセスチューブ２の外側を囲繞す
る如くヒータ３が配設されている。なお、プロセスチュ
ーブ２とヒータ３との間には必要に応じて図示しない均
熱管が設けられ、ヒータ３外側等には、図示しない断熱
材等が設けられる。

また、プロセスチューブ２の下部には、材質例えばステ
ンレス鋼からなるリング状のマニホールド４が接続され
ている。

上記マニホールド４の側壁部には、この側壁を貫通する
如く、バイブ例えばステンレスバイブ５が溶接等により
固着されており、このステンレスバイブ５には、ｔＪ２
図および一３図にも示すようにマニホールド４内側に位
置する端部上面１と、０字状に形成された切り欠き部６
が設けられている。

このステンレスバイブ５には、材質例えば石英からなる
Ｌ字状のチューブ状部材７が挿入されており、切り欠き
部６によってこのチューブ状部材７が係止され、プロセ
スチューブ２内にほぼ垂直に保持されるよう構成されて
いる。

なお、本実施例の場合、このチューブ状部材７は、プロ
セスチューブ２内に処理ガスを供給するためのノズルで
あり、プロセスチューブ２内に位置するチューブ状部材
７の垂直部には、複数の細孔（図示せず）が設けられて
いる。一方、チューブ状部材７の水平部は、ステンレス
バイブ５内を貫通してマニホールド４の外側に導出され
ており、その端部には、処理ガス供給配管８ｂが接続さ
れている。なお、このようなチューブ状部材７は、内部
熱電対を配置するためのカバーとして用いる場合もあり
、したがうて、例えばノズル用と内部熱電対用等の複数
のチューブ状部材７が配置される場合もある。

また、マニホールド４外側のステンレスパイプ５端部の
外側面には、ねし部５ａが形成されており、内側面には
テーパ部が形成されている。そして、ステンレスパイプ
５端部の外側面のねしに螺合するように設けられたキャ
ップ状部材８によってリング状の押圧部材８ａてテーバ
部に設けられたシール部材例えばＯリング９を押圧し、
チューブ状部材７とステンレスパイプ５との間が気密に
閉塞されている。

上述した構成の熱処理炉］の下部には、図示しない駆動
機構により上下動可能に構成されたボートエレベータ１
１が設けられており、このボートエレベータ１１上に多
数枚（例えば１５０枚程度）の半導体ウェハ１２を配列
したウェハボー１１３を載置し、予め所定温度に加熱さ
れた熱処理炉１内に、半導体ウェハ１２をロード・アン
ロードするよう構成されている。そして、チューブ状部
材７に設けられた図示しない多数の細孔から、これらの
半導体ウェハ１２に所定の処理ガスを供給し、半導体ウ
ェハ１２に所望の処理例えば成膜処理を施す。

このとき、本実施例の縦型熱処理装置では、チューブ状
部材７か、マニホールド４の内側に突比するステンレス
パイプ５の切り欠き部６によって係止され、ほぼ垂直に
保持されているので、チューブ状部材７が傾くようなこ
とがない。したがって、ロード・アンロードの際にウェ
ハボート１３および半導体ウェハ１２と、チューブ状部
材７とが干渉（接触）することもなく、チューブ状部材
７あるいはウェハボート１３、半導体ウェハ１２等にｔ
ｉ　ｓ等が生しることを防止することができる。

なお、上記実施例ではステンレスパイプ５の切り欠き部
６によってチューブ状部材７を係止するよう構成したが
、本発明は各種の変形が可能であり、例えば第４図に示
すように、マニホールド４の内側壁に例えばコ字状の係
止部材２０を溶接等で固着し、チューブ状部材７を係止
するよう構成してもよい。ただし、このようにコ字状の
係止部材２０を用いると、ステンレスパイプ５の切り欠
き部６によってチューブ状部材７を係止するよう構成し
た場合に較べて部品点数が多（なり、係止部材２０をマ
ニホールド４の内側壁に固定するための工数も増加する
ことになる。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の熱処理装置によれば、熱
処理炉内のチューブ状部材に傾が生しることを防止する
ことができ、被処理物とチューブ状部材とが干渉し、損
傷等が生じることを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の縦型熱処理装置の全体構成
を示す図、第２図および第３図は第１図に示す縦型熱処
理装置の要部構成を示す図、第４図は他の実施例の縦型
熱処理装置の要部構成を示す図、第５図は従来の縦型熱
処理装置の構成を示す図である。 １・・・・・・熱処理炉、２・・・・・・プロセスチュ
ーブ、３・・・・・・ヒータ、４・・・・・・マニホー
ルド、５・・・・・ステンレスパイプ、６・・・・・・
切り欠き部、７・・・・・・チューブ状部材、８・・・
・・・キャップ状部材、９・・・・・・０リング、１１
・・・・・・ボートエレベータ、１２・・・・・・半導
体ウェハ、１３・・・・・・ウェハホード。 出願人　　東京エレクトロン相模株式会社代理人　弁理
士　　須　山　佐　− （ほか１名） 第２図 第４図 第５図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）円筒状に形成され、ほぼ垂直に立設されたプロセ
   スチューブと、このプロセスチューブの下部に接続され
   たマニホールドと、このマニホールドの内側部から前記
   プロセスチューブの内壁に沿って上部へ延在するチュー
   ブ状部材とを具備した縦型熱処理装置において、 前記マニホールドの内側部に、前記チューブ状部材を係
   止してほぼ垂直な状態に保持するための機構を設けたこ
   とを特徴とする縦型熱処理装置。