JPH04205113A - 試料台駆動装置 - Google Patents

試料台駆動装置

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JPH04205113A
JPH04205113A JP2329333A JP32933390A JPH04205113A JP H04205113 A JPH04205113 A JP H04205113A JP 2329333 A JP2329333 A JP 2329333A JP 32933390 A JP32933390 A JP 32933390A JP H04205113 A JPH04205113 A JP H04205113A
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JP
Japan
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stage
piezoelectric element
piezoelectric elements
displacement
sample
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Application number
JP2329333A
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English (en)
Inventor
Shizuo Yamada
山田 静夫
Isao Kobayashi
功 小林
Hidehiko Numasato
英彦 沼里
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH04205113A publication Critical patent/JPH04205113A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/34Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体製造装置等に用いられる変位形アクチ
ュエータを用いた試料台を高精度に位置決めする制御方
法に関する。
〔従来の技術〕
従来の装置は、特開平1−244512号公報に記載さ
れているように、−人力−出力の制御方法に基づいて構
成された制御系によって、圧電素子を駆動する方式とな
っていた。その構成を、第21図を用いて説明する。機
構系は圧電素子]05で可動体106を駆動する構成に
なっており、可動体106の変位をレーザ測長器107
で検出する制御系は目標値とレーザ測長器107からの
変位信号の差から偏差を求めその偏差を積分器101で
積分し、その出力信号を増幅率が可変な増幅器102で
増幅しD/Aコンバータ103でアナログ信号に変換し
アンプ104で電圧を増幅し圧電素子105に印加する
方式となっている。実際の動作では、目標値が変化した
直後は増幅器102の増幅率を低く設定し、時間を経た
のち、偏差がある設定値より小さくなるとその増幅器1
02の増幅率を大きくし、圧電素子105のドリフトを
補償する方式になっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術では、複数の圧電素子を同時駆動する方法
に対しては考慮されておらず、複数の圧電素子を同時駆
動した際に、複数の圧電素子の制御系間で干渉が起こり
、所定の位置に位置決め出来ない可能性があり、逆に、
−軸ずつ圧電素子を駆動した際には位置決め時間が長く
なるという問題があった。
本発明の目的は、複数の圧電素子の同時駆動方法に対す
る考慮をし、複数の圧電素子の制御系間での干渉をなく
し、かつ、位置決め時間を短くすることにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明はステージおよびス
テージに搭載される試料の質量及び慣性モーメントと変
位型アクチュエータをばね要素としたときの運動方程式
を求め、その運動方程式の固有値、固定ベクトルを計算
する。さらに、その固有値よりメカ共振周波数を求め、
その各々のメカ共振周波数を抑制するように、制御系の
制御帯域及び補償要素を設計する。また、固有ベクトル
より座標変換行列を求める。
そして、ステージあるいは試料に与えられる目標値から
、ステージ+試料の重心の目標位置ベクトルと目標回転
ベクトルに変換し、センサからステージ+試料の重心の
位置ベクトルと回転ベクトルを検出し、その偏差ベクト
ルを求める。
そのあと、座標変換行列で変換し、各々の制御系に入力
する。各々の制御系より操作量を計算し、制御系の出力
を座標変換行列を用いてもとの座標に変換する。
さらに、各変位型アクチュエータに電圧として印加し、
ステージあるいは試料の位置・姿勢を高精度に制御する
。このような手段を用いる。
〔作用〕
まず、変位形アクチュエータの一例として圧電素子を考
える。第17図、第18図は圧電素子の性質の説明図で
ある。第17図は、一端を固定し、他端に質量mの剛体
91を取り付ける。第18図はこの機構系の等価な図で
ある。i=8として、伸び量を示す圧電定数d (i)
をもつ圧電素子8は等測的にばね定数k (i)のばね
9と、粘性摩擦定数b (i)のダンパ10とみなすこ
とができる。圧電素子8への印加電圧v (i)と質量
mの剛体91の変位Xとの関係は式(1)になる。但し
、iは添字である。
さらに、(1)式を第19図の質量m・慣性モーメント
エのステージ11に応用した場合の微小運動における運
動方程式は(2)〜(5)式になる。但し、(ステージ
11+試料13)の重心Gの変位ベクトルをp、重心0
周りの回転ベクトルをすとする・また、重心Gから圧電
素子8の取付は位置までの位置ベクトルをLg(i)、
圧電素子8の伸び方向の方向ベクトルe(i)、圧電素
子8の発生する力ベクトルをf(i)、発生するトルク
ベクトルをN (i)とする。
十k(i)・d(i)V(i)e(i)       
−(2)N(i)= L g (i) X f (i)
          −(3)m p = f (i)
                  ・・・(4)工
 θ= N (i)                
  ・・・(5)さらに、ステージ11が複数(説明の
ため六個とする)の圧電素子によって支持された場合に
は、ステージ11に動く力ベクトルおよびトルクベクト
ルは各圧電素子が発生する力ベクトル及びトルクベクト
ルの総和となり、運動方程式は(6)〜(7)式になる
(6)〜(7)の運動方程式の係数を行列M(6×6)
、 K(6x6)、に’  (6x6)、B (6x6
)を用いて表わすと(8)式になり、一般に、圧電素子
などの変位型アクチュエータは粘性摩擦係数b (i)
は、ばね定数k (i)と比較すると非常に小さい。従
って、行列Bを無視して考えることが出来る。
そこで、(M〜1・K)に対する固有値行列Aと固有ベ
クトルu (i)からなる行列Uを定義すると、その間
の関係式は式(9)になる。
A=U−’(M”−”・K)U         ・・
・(9)したがって、この行列Uで座標変換すると式(
10)になり、座標変換された座標系では、6個の独立
した1人力1出力の機構系に分離できる。
したがって、固有値行列Aの固有値λ(i)を用いれば
、容易に、この6個の独立した機構系に対して、メカ共
振を抑制し、ステージ11を位置決めする制御系を容易
に設計することが出来る。その各々の制御系をG i 
(s)する。ただしiは添字である。
次に、ステージあるいは試料の位置・姿勢を検出するセ
ンサの1例としてステージ11の表面の変位を検出する
変位センサとする。第20図はそのセンサを用いてステ
ージ11の重心の位置・姿勢を検出する方法を説明する
図である。
ステージ11+試料13の重心Gが変位ベクトルpより
G′に移りさらに微小回転ベクトルθでステージ11を
回転する。ただし、L s (i)は移動する前のセン
サ検出点の位置ベクトル、1(i)は検出面の法線ベク
トル、L s (i)’は移ったのちの位置ベクトル、
n5(i)’  は検出面の法線ベクトルとする。回転
ベクトルθが微小のため、n s (i)’ はn 5
(i)とほぼ等しいと考えることができる。また、破線
すはセンサの検出する軸を示しており、n s (i)
と方向は一致している。したがって、ステージ11の移
動前の検出面の方程式は式(11)、移動後の検出面の
方程式は式(12)となる。
n s (i) ・(x −L s (i))= O−
(11)T賀i)・(マーαjs (i)6+7X L
 s (i))= O−(12)さらに変位センサの検
出する距離p s (i)は。
式(13)となる。
Ps(i)=n 5(i)・(p十〇+L S (i)
) =113)このような変位センサを6台用いること
により、ステージ11の姿勢を間接的に検出することが
できる。その式を係数行列Se (6X6)で表現する
と式(14)と成り、変位センサの配置によって行列S
eを正則行列とすることは可能である。したがって、式
(15)を用いればステージ11の位置・姿勢は求める
ことができる。
次に、本発明の動作原理について説明する。重心の変位
ベクトルの目標値ptと回転ベクトルの目標値θtから
式(16)を用いて偏差ベクトルerを求め、その偏差
ベクトルerを式(17)のようにer’に行列Uで座
標変換する。
e r’  =U′e r             
  −(17)したがって、er′を用いれば、容易に
、この6個の独立した機構系に対して制御系を容易に設
計することが出来る。操作量V(i)’  との関係式
は式(18)になる。
V(i)’ =G i (s) ・e r(i)   
    −(18)実際に圧電素子1〜nに印加する電
圧は、式(19)のように行列Uでもとの座標系にもど
せばよい。
V=UV’                    
・・(19)このような方法を用いることにより、容易
に制御系を設計でき、また、6軸の圧電素子を同時に駆
動することが可能となり、位置決め時間を短縮できる。
また、ステージ11の慣性主軸を座標系とすれば行列M
が簡単化でき、その座標系上で圧電素子の配置に対称性
をもたせれば行列Kが簡単化できる。その結果、座標変
換行列Uはより小さな行列に分解でき、試料台駒動装置
をより簡単な構成にできる。
また、圧電素子がステージ11の制御する自由度より多
い場合には、冗長な圧電素子の印加電圧v (j)をそ
の他の圧電素子の印加電圧v(1)〜■(1)を用いて
拘束条件(20)を定義すれば、内軸の圧電素子を同時
に駆動することが可能となり、位置決め時間を短縮でき
る。
v(j)=F(v(1) 〜v(i))  (i<j)
    −(20)〔実施例〕 以下、本発明の第一の実施例を第1図、第2図。
第3図、第4図、第5図により説明する。第1図及び第
2図は、本発明に用いる変位型アクチュエータを用いた
試料台装置の一例として、圧電素子を用いた試料台装置
である。ここではステージ上に搭載する試料は形状及び
質量が十分小さいとして省略して説明するが、試料があ
る程度の質量等をもつ場合には、その質量等をステージ
11のと合わせて考えれば良い。
初めに、試料台の構成について説明する。第1図は、試
料台装置の上面図を示しており、第2図は、第1図の破
線aにおける試料台装置の断面図である。ステージ11
は、均一な材料で、形状は平板状の直方体をし、重心G
はステージ11の中心にある。圧電素子1〜6は両端を
弾性ヒンジが取り付けてあり、圧電素子1は、X方向か
ら一端をステージ11の中心線上の側面に接続し、他端
を固定する。圧電素子2は、X方向の中心線から一定の
距離をもたせて、一端を平板上のステージ11の側面に
接続し、他端を固定する。圧電素子3は、X方向の中心
線に対して圧電素子2と対称な位置に配置し接続する。
圧電素子1〜3によって、ステージのX+’!方向の並
進運動と2軸周りの回転運動が可能となる。
圧電素子4は、重心GからX方向に一定の距離をもたせ
て、一端をステージ11の底面に、他端を固定する。圧
電素子5は、重心Gから圧電素子4と反対方向にX方向
に一定の距離を、またX方向の中心線から一定の距離を
もたせて、一端をステージ11の底面に、他端を固定す
る。圧電素子6は、X方向の中心線に対して圧電素子5
と対称な位置に配置し接続する。圧電素子4〜6によっ
て、ステージの2方向の並進運動とXI y軸周りの回
転運動が可能となる。
したがって、ステージ11の並進と回転をあわせた六自
由度の運動が可能となる。
次に、センサの構成について説明する。第3図。
第4図は、試料台装置に備えであるセンサの一例として
、ステージ11の表面のある一点の変位を検出する変位
センサで配置を示している。また、このセンサの具体例
として、レーザ測長器、静電容量センサ、渦電流式変位
センサ等がある。
変位センサ21はステージ11のX方向の中心線上にあ
り、ステージ11のX方向の側面の変位を検出する。変
位センサ22はステージ11のX方向の中心線から一定
の距離をもたせた位置に配置し、ステージ11のX方向
の側面の変位を検出する。変位センサ23はステージ1
1のX方向の中心線に対して、変位センサ22と対称の
位置に配置し、ステージ11のX方向の側面の変位を検
出する。変位センサ21〜23によってステージ11の
重心Gのx+Y方向の変位と、Z軸回りの回転を間接的
に検出できる。
また、変位センサ24〜26は、圧電素子4〜6の上側
に配置し、ステージ上面の変位を検出する。変位センサ
24〜26によってステージ11の重心Gの2方向の変
位と、X+’j軸回りの回転を間接的に検出できる。
この人台の変位センサの信号に式(13)式を用いるこ
とによってステージ11の重心の位置ベクトルと重心回
りの回転ベクトルを求めることができる。
次に、試料台能動装置の構成の説明をする。第5図は試
料台駆動装置の一例を示している。ステージ11の形状
が直方体でその各辺が座標系と平行であるため、ステー
ジ11の慣性モーメント■(3X 3)のなかの慣性乗
積はゼロとなる。また、圧電素子1〜3が発生する力、
xy平面内にある。
圧電素子4〜6が発生する力、トルクは2方向にある。
その結果、圧電素子1〜3はステージ11のXX方向の
並進運動と、2軸周りの回転運動を制御し、圧電素子4
〜6はステージ11の2方向の並進運動と、XrY軸周
りの回転運動を制御ができることになる。そうすると、
固有ベクトルu (i)は、Xl y!  θZ酸成分
み値をもつベクトルと2゜θX、θyのみ成分をもつベ
クトルとなる。したがって、座標変換ベクトルUはX、
y、θZ酸成分み値をもつベクトルで構成される行列U
1(3×3)と、2.θX、θyのみ成分をもつベクト
ルで構成される行列U2 (3X3)に分ける二とがで
きる。
圧電素子1〜6の制御系は、圧電素子1〜3の制御系と
、圧電素子4〜6の制御系に分離できることになる。
座標変換装置31は座標変換行列U1を用いて入力信号
を座標変換し、その結果を出力する。また、座標変換装
置32は座標変換行列U2を用いて入力信号を座標変換
し、その結果を出力する。
積分器51〜56は座標変換装置31.32からの信号
を積分する。補償器71〜76は機構系のメカ共振を抑
制するための補償要素である。
座標変換装置33は座標変換行列U1を用いて補償器7
1〜73の出力信号を元の座標系に座標変換し、その結
果を出力する。また、座標変換装置34は座標変換行列
U2を用いて補償器74〜76の出力信号を元の座標系
に座標変換する。
検出信号処理装置1f41は式(13)に基づいてステ
ージ11の位置・姿勢を変位センサ2]〜26の変位信
号から計算する。
最後に、動作について説明する。変位センサ21〜26
は、ステージ11の変位を検出し、検出信号処理装置4
1で、ステージ11の重心の変位ベクトルと回転ベント
ルを求める。そして、制御系に与えられた目標値とより
、偏差ベクトルerを求め、座標変換装置131.32
より偏差信号erからer′に変換する。変換された変
位信号er’は積分器51〜56でそれぞれ積分し、さ
らに補償要素71〜76でメカ共振を抑制しステージ1
1を制御する操作量V′に変換し、座標変換器33〜3
4で操作量V′をもとの座標系の操作量■に変換し圧電
素子1〜6に印加し、ステージ11を制御する。
このようにすれば、ステージ11を好適に制御すること
ができる。
以下、本発明の第二の実施例を第6図、第7図。
第8図により説明する。第6図及び第7図は、本発明に
用いる変位型アクチュエータを用いた試料台装置の一例
として、圧電素子を用いた試料台装置である。
始めに、試料台の構成について説明する。第6図は、試
料台装置の上面図を示しており、第7図は、第6図の破
線aにおける試料台装置の断面図である。ステージ11
および圧電素子1〜3については、形状、取付は位置に
関しては本発明の第−例の実施例と同じとする。
圧電素子4〜7については、移動台装置の剛性をあげる
ため圧電素子の本数を増やしている。
圧電素子4〜7の配置については、圧電素子4は、重心
Gからy方向と2方向に一定の距離をもたせて、一端を
ステージ11の底面に、他端をベース12に接続してい
る。圧電素子5は、2方向の中心線に対して圧電素子4
と対称な位置に接続する。圧電素子6は、重心Gに対し
て圧電素子4と対称な位置に接続する。圧電素子7は、
X方向の中心線に対して圧電素子4と対称な位置に接続
する。
圧電素子4〜7によって、ステージのZ方向の並進運動
とXI3’軸周りの回転運動が可能となる。
したがって、ステージ11の並進と回転をあわせた六自
由度の運動が可能となる。
したがって、このような原理を第6図、第7図の試料台
装置に用いると、ステージ11の慣性モーメントI  
(3X3)のなかの慣性乗数はゼロとなる。また、圧電
素子1〜3が発生する力、xy平面内にある。圧電素子
4〜7が発生する力、トルクは2方向にある。
その結果、圧電素子1〜3はステージ11のXy力方向
並進運動と、2軸周りの回転運動を制御し、圧電素子4
〜7はステージ11の2方向の並進運動と、XtY軸周
りの回転運動が可能となる。
次に、センサの構成について説明する。センサの種類、
配置は本発明の第一の実施例と同じとする。従って、ス
テージ11の重心の位置ベクトルと重心回りの回転ベク
トルを求めることができる。
次に、試料台能動装置の構成の説明をする。第8図は試
料台能動装置の一例を示している。
まず、冗長な圧電素子のうちの、例えば、圧電素子7の
印加電圧v(7)を圧電素子4〜6が伸びても必ずステ
ージ11の底面に接続できるような条件式(21)で拘
束する。
v(7)”v(5)+v(6)  v(4)     
 ・・(21)この結果、圧電素子の操作量の冗長性が
なくなり、座標変換行列Uは6×6の正方行列となる。
そして、ステージ11の形状が直方体でその各辺が座標
系と平行であるため、ステージ11の慣性モーメントI
 (3X3)のなかの慣性乗積はゼロとなる。また、圧
電素子1〜3が発生する力、xy平面内にある。圧電素
子4〜7が発生する力、トルクは2方向にある。
その結果、圧電素子1〜3はステージ11のXy力方向
並進運動と、Z軸周りの回転運動を制御し、圧電素子4
〜7はステージ11の2方向の並進運動と、X+’l軸
周りの回転運動を制御ができることになる。そうすると
、固有ベクトルu (i)は、x、y、  θZ酸成分
み値をもつベクトルとZ。
θX、θyのみ成分をもつベクトルとなる。したがって
、座標変換行列Uはx、y、θZ酸成分み値をもつベク
トルで構成される行列Ul(3X3)と、z、Ox、 
 θyのみ成分をもつベクトルで構成される行列U2 
(3X3)に分けることができる。
圧電素子1〜7の制御系は、圧電素子1〜3の制御系と
、圧電素子4〜7の制御系に分離できることになる。
座標変換装置31は座標変換行列U1を用いて入力信号
を座標変換し、その結果を出力する。また、座標変換装
置32は座標変換行列U2を用いて入力信号を座標変換
し、その結果を出力する。
積分器51〜56は座標変換装置31.32からの信号
を積分する。補償器71〜76は機構系のメカ共振を抑
制するための補償要素である。なお、具体的な例につい
ては後はど説明する。
座標変換装置33は座標変換行列U1を用いて補償器7
1〜73の出力信号を元の座標系に座標変換し、その結
果を出力する。さらに、操作量演算装置35は、座標変
換装置34は座標変換行列U2を用いて補償器74〜7
6の出力信号を元の座標系に座標変換する。座標変換装
置34の出力から拘束条件である式(21)を用いて圧
電素子7の操作量■(7)を計算する。検出信号処理装
置41は式(13)に基づいてステージ11の位置・姿
勢を変位センサ21〜26の変位信号から計算する。
最後に、動作について説明する。変位センサ21〜26
は、ステージ11の変位を検出し、検出信号処理袋W4
1で、ステージ11の重心の変位ベクトルと回転ベクト
ルを求める。そして、制御系に与えられた目標値とより
、偏差ベクトルごを求め、座標変換装置i31,32よ
り偏差信号ごから晋′に変換する。変換された変位信号
er’は積分器51〜56でそれぞれ積分し、さらに補
償要素71〜76でメカ共振を抑制しステージ11を制
御する操作量V′に変換し、座標変換器33〜34で操
作量v′をもとの座標系の操作量マに変換し圧電素子1
〜6に印加する。さらに、操作量演算装置35によって
操作量v(7)を計算し圧電素子7に印加する。そして
、ステージ11を制御する。
このようにすれば、ステージ11を好適に制御すること
ができる。
次に、機構系のメカ共振を抑制する補償器の第1の例と
して、ローパスフィルタの例を第9図。
第10図を用いて説明する。第9図はローパスフィルタ
とした構成を、第10図のその構成の周波数特性を示す
。説明を容易にするため、式(22)のメカ共振をもつ
機構系を用いる。これは、試料台の特性を座標変換行列
Uで分離したときの特性に等しい。
第9図では、式(23)で表わされる高域の周波数を抑
制するローパスフィルタ77を補償要素にすることによ
り、 ω″ 1分器57.ローパスフィルタ77、機構系60の総合
の周波数特性は第10図に示したようになり、メカ共振
の周波数のゲインを抑制し、ゲイン余裕を十分持たせる
ことができ、その結果、ステージ11を好適に制御でき
る。
次に、機構系のメカ共振を抑制する補償器の第2の例と
して、帯域阻止フィルタの例を第11図。
第12図を用いて説明する。第11図は帯域阻止フィル
タとした構成を、第12図のその構成の周波数特性を示
す。
第11図では、式(24)で表される高域の周波数を抑
制する帯域阻止のフィルタ78を補償要素にすることに
より、 積分器57.帯域阻止フィルタ785機構系60の総合
の周波数特性は第12図に示したようになり、メカ共振
の周波数のゲインを抑制し、ゲイン余裕を十分持たせる
ことができ、その結果、ステージ11を好適に制御でき
る。
次に、機構系のメカ共振を抑制する補償器の第3の例と
して、状態観測器より速度を推定し、フィードバックす
る方法の例を第13図、第14図を用いて説明する。第
13図は状態wA′IA器より速度を推定し、フィード
バックする方法の構成を、第14図のその構成の周波数
特性を示す。
メカ共振60とメカ共振60をモデル化して作成した状
態観測機78と状態観測機78で推定した速度信号を増
幅器79で増幅しフィードバックすることにより、機構
系60の減衰係数を等測的に増加したことになる。従っ
て、積分57器から機構系60までの周波数特性は第1
4図に示したようになり、メカ共振の周波数のゲインを
抑制し、ゲイン余裕を十分持たせることができ、その結
果。
ステージ11を好適に制御できる。
次に、機構系のメカ共振を抑制する目標値の人力方法の
1例を第15図、第16図を用いて説明する。第15図
は目標値の時間的変化を示し、第16図のその目標値の
周波数成分を示す。第15図に破線で示したステップ状
に変化する目標値Xtの周波数成分は式(25)になる
。その周波数成分を第16図の破線で示す。
X。
X t (S) =□           ・・・(
25)また、第15図に実線で示したランプ状に変化す
る目標値X′ tの周波数成分は式(26)になる。
その周波数成分を第16図の実線で示す。
O X’ t (S)=   (1−e”−LS)    
  −(26)このように、目標値の入力方法を変える
ことによってメカ共振の周波数成分を小さくできるので
、機構のメカ共振を励振することなくステージ11を好
適に制御できる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、複数の変位型アクチュエータで支持さ
れた試料台の位置・姿勢を、複数の変位型アクチュエー
タを同時に能動して位置決めできるので、位置決め時間
を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の試料台の構成の一実施例の側面図、
第2図は、本発明の試料台の構成の一実施例の上面図、
第3図は、試料台の位置を検出するセンサの配置を示し
た一例の側面図、第4図は、試料台の位置を検出するセ
ンサの配置を示した一例の上面図、第5図は、請求項1
の実施例の説明図、第6図は、試料台の構成の第二の例
の側面図。 第7図は、試料台の構成の第二の例の上面図、第8図は
、第二の実施例のブロック図、第9図は。 制御系の補償要素をローパスフィルタで構成したブロッ
ク図、第10図は、第9図の開ループ特性図、第11図
は、制御系の補償要素を帯域阻止フィルタで構成したブ
ロック図、第12図は、第11図の開ループ特性図、第
13図は、制御系の補償要素を状態観測器をもちいた速
度フィードバックで構成したブロック図、第14図は、
第13図の開ループ特性図、第15図は、目標値の入力
手段を示した説明図、第16図は、目標値の周波数成分
を示した説明図、第17図は、圧電素子の特性の説明図
、第18図は、第17図の等価な説明図、第19図は、
運動方程式の説明図、第20図は、センサの検出方法の
説明図、第21図は、従来技術の一例のブロック図であ
る。 1〜8・・・圧電素子、9・・・圧電素子の等価ばね。 10・・圧電素子の等価ダンパ、11・・・ステージ、
21〜26・・変位センサ、31〜34・・・座標変換
器、35・・・目標値演算装置、41・・・信号処理装
置、51〜57・・積分器、60 ・機構系、71〜7
6・・補償器、77・・ローパスフィルタ、78・・・
帯域阻止フィルタ、79・・・状態観測器、80・・・
増幅器、91・・剛体、101・・・積分器、102・
・・増幅器、103・・・ディジタル−アナログ変換器
、104・・アンプ、105・・・圧電素子、106・
・・移動体、第 l 図 第 2 図 第 37 慕 42 第 5 日 も 6 囚 熟 912Xl 第 71口 周贋飲 第73図 /″ 第 /4 凶 同著歎 第 75 口 第 /6 図 λ画5組 奉 17  図 第 /? 口 第 20 目 ■b

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、試料を搭載するステージと、前記ステージを支持し
    、かつ移動させる複数の変位形アクチュエータと、前記
    ステージあるいは前記試料の位置・姿勢を検出するセン
    サと、前記センサの信号を利用して、前記ステージある
    いは前記試料の位置・姿勢を高精度に位置決めする試料
    台駆動装置からなる試料台装置において、 前記試料台装置の機構系のメカ共振のモードごとに制御
    することによって、複数の前記変位形アクチュエータを
    同時に駆動し、前記試料台あるいは前記試料の位置・姿
    勢を高精度に位置決めすることを特徴とする試料台駆動
    装置。
JP2329333A 1990-11-30 1990-11-30 試料台駆動装置 Pending JPH04205113A (ja)

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