JPH04192301A - 正特性サーミスタ装置 - Google Patents
正特性サーミスタ装置Info
- Publication number
- JPH04192301A JPH04192301A JP2319723A JP31972390A JPH04192301A JP H04192301 A JPH04192301 A JP H04192301A JP 2319723 A JP2319723 A JP 2319723A JP 31972390 A JP31972390 A JP 31972390A JP H04192301 A JPH04192301 A JP H04192301A
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- JP
- Japan
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- ptc element
- ptc
- thermistor device
- glass material
- films
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- Pending
Links
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Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、テレビ受信機の消磁回路等に用いられる正特
性サーミスタ装置に関する。
性サーミスタ装置に関する。
従来の技術と課題
消磁用正特性サーミスタ装置やモータ起動用正特性サー
ミスタ装置には、PTC素子が樹脂製の絶縁ケース内に
ばね端子で挟持された構造のものがある。PTC素子に
は一般に第11図及び第12図に示すものが使用されて
いた。
ミスタ装置には、PTC素子が樹脂製の絶縁ケース内に
ばね端子で挟持された構造のものがある。PTC素子に
は一般に第11図及び第12図に示すものが使用されて
いた。
第11図に示すPTC素子は、素体30の上下面にAg
−Zn 、 Ag −Sb等からなるオーム接触のA
gを主成分とする電極31.32が形成されている。ま
た、第12図に示すPTC素子は、素体30の上下面に
2層構造の電極33.34が形成きれている。電極33
は素体30の表面に形成された下地電極33aとその表
面に形成されたAgt極33bとから構成されている。
−Zn 、 Ag −Sb等からなるオーム接触のA
gを主成分とする電極31.32が形成されている。ま
た、第12図に示すPTC素子は、素体30の上下面に
2層構造の電極33.34が形成きれている。電極33
は素体30の表面に形成された下地電極33aとその表
面に形成されたAgt極33bとから構成されている。
同様に電極34は下地電極34aとAg電極34bとか
ら構成きれている。
ら構成きれている。
ところで、これらのPTC素子は発生した熱が素子外に
逃げやすく、このためテレビ受信機の画面がゆれる等の
不具合が発生していた。また、絶縁ケースには端子を引
き出すための穴等が開いているため、フラックスや塩素
等のPTC素子を劣化させる物質がこの穴から侵入する
おそれがあった。きらに、PTC素子がセット位置から
ずれて絶縁ケースの内壁に接触し、PTC素子の発熱と
共に絶縁樹脂からガスが発生し、PTC素子が劣化する
可能性もあった。
逃げやすく、このためテレビ受信機の画面がゆれる等の
不具合が発生していた。また、絶縁ケースには端子を引
き出すための穴等が開いているため、フラックスや塩素
等のPTC素子を劣化させる物質がこの穴から侵入する
おそれがあった。きらに、PTC素子がセット位置から
ずれて絶縁ケースの内壁に接触し、PTC素子の発熱と
共に絶縁樹脂からガスが発生し、PTC素子が劣化する
可能性もあった。
そこで、本発明の課題は、PTC素子で発生した熱が素
子外に逃げにくく、かつ、耐環境性等に優れた正特性サ
ーミスタ装置を提供することにある。
子外に逃げにくく、かつ、耐環境性等に優れた正特性サ
ーミスタ装置を提供することにある。
を するための手段と作用
以上の課題を解決するため、本発明に係る正特性サーミ
スタ装置は、PTC素子の表面を電極部分を残してガラ
スコーティング膜にて被覆し、該PTC素子の電極部分
を端子にて挾持した状態でPTC素子がケースに収納さ
れていることを特徴とする。
スタ装置は、PTC素子の表面を電極部分を残してガラ
スコーティング膜にて被覆し、該PTC素子の電極部分
を端子にて挾持した状態でPTC素子がケースに収納さ
れていることを特徴とする。
以上の構成において、PTC素子の表面を電極部分を残
してガラスコーティング膜にて被覆したため、PTC素
子が熱絶縁され、PTC素子で発生、した熱が素子外に
逃げにくくなる。しかも、PTC素子はガラスコーティ
ング膜によって4界から遮蔽され、フラックスや塩素ガ
ス等から保護きれる。
してガラスコーティング膜にて被覆したため、PTC素
子が熱絶縁され、PTC素子で発生、した熱が素子外に
逃げにくくなる。しかも、PTC素子はガラスコーティ
ング膜によって4界から遮蔽され、フラックスや塩素ガ
ス等から保護きれる。
尖甚設
以下、本発明に係る正特性サーミスタ装置の一実施例に
ついて添付図面を参照して説明する。本実施例ではPT
C素子を2個備えたダブルタイプの正特性サーミスタ装
置の場合を説明する。
ついて添付図面を参照して説明する。本実施例ではPT
C素子を2個備えたダブルタイプの正特性サーミスタ装
置の場合を説明する。
第1図ないし第6図は本実施例の正特性サーミスタ装置
に使用されるPTC素子を製造工程順に示した垂直断面
区である。
に使用されるPTC素子を製造工程順に示した垂直断面
区である。
第1図はPTC素子の素体1を示す図である。
素体1は円板状の構造を有し、BaTi0.等のセラミ
ックス材料からできている。
ックス材料からできている。
まず、無電解めっき等の手段により、素体1の全面に例
えばNi膜2を形成する(第2図参照)。
えばNi膜2を形成する(第2図参照)。
経済性と信頼性の両方の観点からNi膜2の厚さは約1
μmにするのが好ましい。
μmにするのが好ましい。
素体1の全面に形成したNi膜2は、化学エツチング、
研磨あるいはプラスト等の方法を用いて不要な部分、本
実施例の場合は素体1の周側面部分のNi膜が除去され
る。素体1の上下面に残ったNi膜は下地電極2a、2
bとなる(第3図参照)。
研磨あるいはプラスト等の方法を用いて不要な部分、本
実施例の場合は素体1の周側面部分のNi膜が除去され
る。素体1の上下面に残ったNi膜は下地電極2a、2
bとなる(第3図参照)。
次に、第4図に示すように、この素体l全面にバレル法
あるいは吹き付は法等の手段により、ガラス材3を薄く
付着させる。さらに、このガラス材3の表面で、下地電
極2a、2bと重なる部分に例えば、hg膜4,5を印
刷等の手段によって形成する(第5図参照)、Ag膜4
,5にはAgをペースト状にした材料が使用され、その
膜厚は、例えば2〜6μm!度りする・ 次に、素体1は約500℃の温度で30分間焼付は処理
が行なわれる。このとき、Ag膜4,5近傍のガラス材
3がAg膜4,5に拡散して、Ag膜4.5はAgを主
成分とする電極4a、 5aになる(第6図参照)。こ
のAgを主成分とする電極4g、 5aは下地電極2a
+ 2bに強固に接合する。また、残りの部分のガラス
材3は下地電極2a、2bの一部や素体1の周側面にガ
ラスコーティング膜3aを形成する。このガラスコーテ
ィング膜3aは絶縁性を有し、素体1に強固に密着して
いる。
あるいは吹き付は法等の手段により、ガラス材3を薄く
付着させる。さらに、このガラス材3の表面で、下地電
極2a、2bと重なる部分に例えば、hg膜4,5を印
刷等の手段によって形成する(第5図参照)、Ag膜4
,5にはAgをペースト状にした材料が使用され、その
膜厚は、例えば2〜6μm!度りする・ 次に、素体1は約500℃の温度で30分間焼付は処理
が行なわれる。このとき、Ag膜4,5近傍のガラス材
3がAg膜4,5に拡散して、Ag膜4.5はAgを主
成分とする電極4a、 5aになる(第6図参照)。こ
のAgを主成分とする電極4g、 5aは下地電極2a
+ 2bに強固に接合する。また、残りの部分のガラス
材3は下地電極2a、2bの一部や素体1の周側面にガ
ラスコーティング膜3aを形成する。このガラスコーテ
ィング膜3aは絶縁性を有し、素体1に強固に密着して
いる。
こうして製作されたPTC素子を2個使用して、第7図
に示すテレビ受信機の消慰回路等に用いられる正特性サ
ーミスタ装置が製作きれる。正特性サーミスタ装置8は
、絶縁ケース9内に一対のばね端子15.15 (第9
図参照)と共通端子16(第8図参照)とを収納し、各
ばね端子15.15の舌部15a、15aと共通端子1
6の熱結合部16aとの間に消高用PTC素子20とヒ
ータ用PTC素子25がそれぞれ挾持されている。絶縁
ケース9の材料にはフェノール樹脂等が使用される。
に示すテレビ受信機の消慰回路等に用いられる正特性サ
ーミスタ装置が製作きれる。正特性サーミスタ装置8は
、絶縁ケース9内に一対のばね端子15.15 (第9
図参照)と共通端子16(第8図参照)とを収納し、各
ばね端子15.15の舌部15a、15aと共通端子1
6の熱結合部16aとの間に消高用PTC素子20とヒ
ータ用PTC素子25がそれぞれ挾持されている。絶縁
ケース9の材料にはフェノール樹脂等が使用される。
また、各端子15.15.16のリード足15b、 1
5b、 16bは、絶縁ケース9の底部に開口した穴か
ら導出している。端子15には、例えば、厚きが0.2
5mmのSUS板を打ち抜き加工した後、表面をSnめ
っき処理したものが使用される。同様に、端子16には
、例えば、厚さが0.10mmのSUS板を打ち抜き加
工した後、表面をSnめっき処理したものが使用される
。
5b、 16bは、絶縁ケース9の底部に開口した穴か
ら導出している。端子15には、例えば、厚きが0.2
5mmのSUS板を打ち抜き加工した後、表面をSnめ
っき処理したものが使用される。同様に、端子16には
、例えば、厚さが0.10mmのSUS板を打ち抜き加
工した後、表面をSnめっき処理したものが使用される
。
こうして得られた正特性サーミスタ装置8において、P
TC素子20.25はその表面が電極部分を残してガラ
スコーティング膜3aによって被覆されているので、ケ
ース9の穴10から侵入する塩素ガス等から保護される
。また、PTC素子20.25が正規のセット位置から
ずれてケース9の内壁に接触しても、ガラスコーティン
グ膜によってケース9との接触部分の温度は従来の正特
性サーミスタ装置と比較して低くなる。たとえPTC素
子20゜25の熱によってケース9からガスが発生して
もガラスコーティング膜3aにて保護きれているPTC
素子20.25はガスの影響を受けにくい。さらに、第
9図に示すように、ばね端子15が2個の舌部15aを
有する場合、PTC素子20(又は25)がずれて、一
方の舌部15aが電極4aに接触し、他方の舌部15a
が電極4aから外れてPTC素子2oの外周縁部に接触
しても、外周縁部のNi電極2aはガラスコーティング
きれているので、スパークは生じない。
TC素子20.25はその表面が電極部分を残してガラ
スコーティング膜3aによって被覆されているので、ケ
ース9の穴10から侵入する塩素ガス等から保護される
。また、PTC素子20.25が正規のセット位置から
ずれてケース9の内壁に接触しても、ガラスコーティン
グ膜によってケース9との接触部分の温度は従来の正特
性サーミスタ装置と比較して低くなる。たとえPTC素
子20゜25の熱によってケース9からガスが発生して
もガラスコーティング膜3aにて保護きれているPTC
素子20.25はガスの影響を受けにくい。さらに、第
9図に示すように、ばね端子15が2個の舌部15aを
有する場合、PTC素子20(又は25)がずれて、一
方の舌部15aが電極4aに接触し、他方の舌部15a
が電極4aから外れてPTC素子2oの外周縁部に接触
しても、外周縁部のNi電極2aはガラスコーティング
きれているので、スパークは生じない。
こうして得られた正特性サーミスタ装置8を使用して第
10図に示す消磁回路を構成する。この消磁回路におい
て、スイッチS1をオンすると、交流電源28から消磁
コイル29に電流が流れ、消磁コイル29に磁束が発生
する。これと同時に、消磁用PTC素子20及びヒータ
用PTC素子25にも電流が流れる。PTC素子20に
電流が流れると、 PTC素子20の温度が上昇し、P
TC素子2oの抵抗値が大きくなるので、次第に消磁コ
イル29側に流れる電流が減少して消磁コイル29が消
磁される。また、バイパス側に接続されているヒータ用
PTC素子25に電流が流れるとPTC素子25の温度
が上昇する。PTC素子20.25は共通端子16の熱
結合部16aを介して熱結合しているので、PTc素子
20はPTC素子25によってヒートアップされ、きら
に消磁コイル29に流れる電流をさらに減少させる。
10図に示す消磁回路を構成する。この消磁回路におい
て、スイッチS1をオンすると、交流電源28から消磁
コイル29に電流が流れ、消磁コイル29に磁束が発生
する。これと同時に、消磁用PTC素子20及びヒータ
用PTC素子25にも電流が流れる。PTC素子20に
電流が流れると、 PTC素子20の温度が上昇し、P
TC素子2oの抵抗値が大きくなるので、次第に消磁コ
イル29側に流れる電流が減少して消磁コイル29が消
磁される。また、バイパス側に接続されているヒータ用
PTC素子25に電流が流れるとPTC素子25の温度
が上昇する。PTC素子20.25は共通端子16の熱
結合部16aを介して熱結合しているので、PTc素子
20はPTC素子25によってヒートアップされ、きら
に消磁コイル29に流れる電流をさらに減少させる。
例えば、消磁用PTC素子20として、直径が14to
m、板厚が2mmの円板状のもので、Curie点が5
0℃、常温(25℃)での抵抗値が5,0ΩのPTC素
子を使用し、ヒータ用PTC素子25として、直径が1
2mm、板厚が2mmの円板状のもので、Curie点
が143℃、常温(25℃)での抵抗値が180ΩのP
TC素子を使用した場合、PTC素子20.25の表面
をガラスコーティング膜で被覆する前には、消磁コイル
29(Julに流れる電流(スイッチs1をオンしてか
ら60秒後の残流を流)は1.5mAであった。ところ
が、PTC素子20.25の表面をガラスコーティング
膜で被覆した後では、消磁コイル29側に流れる電流(
スイッチS1をオンしてから60秒後の残流ti)は1
.0mAにまで減少した。従って、従来よりテレビ受信
機の画面のゆれ等を少なくすることができる正特性サー
ミスタ装置が得られる。
m、板厚が2mmの円板状のもので、Curie点が5
0℃、常温(25℃)での抵抗値が5,0ΩのPTC素
子を使用し、ヒータ用PTC素子25として、直径が1
2mm、板厚が2mmの円板状のもので、Curie点
が143℃、常温(25℃)での抵抗値が180ΩのP
TC素子を使用した場合、PTC素子20.25の表面
をガラスコーティング膜で被覆する前には、消磁コイル
29(Julに流れる電流(スイッチs1をオンしてか
ら60秒後の残流を流)は1.5mAであった。ところ
が、PTC素子20.25の表面をガラスコーティング
膜で被覆した後では、消磁コイル29側に流れる電流(
スイッチS1をオンしてから60秒後の残流ti)は1
.0mAにまで減少した。従って、従来よりテレビ受信
機の画面のゆれ等を少なくすることができる正特性サー
ミスタ装置が得られる。
なお、本発明に係る正特性サーミスタ装置は、前記実施
例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に
変更することができる。
例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に
変更することができる。
前記実施例ではダブルタイプの正特性サーミスタ装置に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、PTC素子を1個備えたシングルタイプの正特性
サーミスタ装置であってもよい。
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、PTC素子を1個備えたシングルタイプの正特性
サーミスタ装置であってもよい。
また、ダブルタイプの正特性サーミスタ装置の場合、少
なくとも一方のPTC素子がガラス材にて被覆されてい
ればよい。さらに、PTC素子は、PTC素体に下地電
極を設けることなく、直接Agを主成分とする電極と該
Agを主成分とする電極部分を残して前記素体を被覆し
たガラスコーティング膜とを設けたものであってもよい
。
なくとも一方のPTC素子がガラス材にて被覆されてい
ればよい。さらに、PTC素子は、PTC素体に下地電
極を設けることなく、直接Agを主成分とする電極と該
Agを主成分とする電極部分を残して前記素体を被覆し
たガラスコーティング膜とを設けたものであってもよい
。
発明の効果
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、PTC
素子の表面を電極部分を残してガラス材にて被覆したた
め、PTC素子で発生した熱が素子外に逃げにくくなり
、残流電流が小さくなる。これにより、テレビ受信機の
画面のゆれ等が少なくなり、高品質画像を要求されるテ
レビ受信機にも使用することができる正特性サーミスタ
装置が得られる。きらに、残流を流が小さくなる分だけ
、消磁回路を構成する消磁コイルの抵抗値をアップする
ことができる。従って、消磁コイルの巻線径を細くする
ことができ、ひいては安価で小型の消磁コイルを採用す
ることができる。しかも、PTC素子は電極部分以外の
部分がガラス材によって外界から遮蔽きれ、耐環境性が
向上する。
素子の表面を電極部分を残してガラス材にて被覆したた
め、PTC素子で発生した熱が素子外に逃げにくくなり
、残流電流が小さくなる。これにより、テレビ受信機の
画面のゆれ等が少なくなり、高品質画像を要求されるテ
レビ受信機にも使用することができる正特性サーミスタ
装置が得られる。きらに、残流を流が小さくなる分だけ
、消磁回路を構成する消磁コイルの抵抗値をアップする
ことができる。従って、消磁コイルの巻線径を細くする
ことができ、ひいては安価で小型の消磁コイルを採用す
ることができる。しかも、PTC素子は電極部分以外の
部分がガラス材によって外界から遮蔽きれ、耐環境性が
向上する。
また、PTC素子が正規の位置からずれてケースに接触
しても、ガラスコーティング膜によってケースとの接触
部分の温度は従来の正特性サーミスタ装置の場合と比較
して低くなる。そのため、ケースの材質を選択する範囲
が広がると共に、正特性サーミスタ装置の実装密度をア
ップするととができる、さらに、ケースの内壁面にPT
C素子が面接触するのを肪止するための突起を設ける必
要もなくなる。たとえ、PTC素子の熱によってケース
9からガスが発生してもPTC素子はガラスコーティン
グ膜にて保護されているのでガスの影響を受けにくい。
しても、ガラスコーティング膜によってケースとの接触
部分の温度は従来の正特性サーミスタ装置の場合と比較
して低くなる。そのため、ケースの材質を選択する範囲
が広がると共に、正特性サーミスタ装置の実装密度をア
ップするととができる、さらに、ケースの内壁面にPT
C素子が面接触するのを肪止するための突起を設ける必
要もなくなる。たとえ、PTC素子の熱によってケース
9からガスが発生してもPTC素子はガラスコーティン
グ膜にて保護されているのでガスの影響を受けにくい。
第1図ないし第10図は本発明に係る正特性サーミスタ
装置の一実施例を示すもので、第1図、第2図、第3図
、第4図、第5図及び第6図は正特性サーミスタ装置に
使用されるPTC素子の製造工程順を示す垂直断面図、
第7図は正特性サーミスタ装置の垂直断面図、第8図は
共通端子の平面図、第9−図はPTC素子とばね端子と
の位置関係を示す平面図、第10図は正特性サーミスタ
装置を用いた消磁回路を示す電気回路図である。第11
vIA及び第12図は従来の正特性サーミスタを示す垂
直断面図である。 1・・・1体、3a・・・ガラスコーティング膜、4a
、5a・・・電極、8・・・正特性サーミスタ装置、9
・・・ケース、Is、 16・・・端子、20.25・
・・PTC素子。 特許出願人 株式会社村田製作所
装置の一実施例を示すもので、第1図、第2図、第3図
、第4図、第5図及び第6図は正特性サーミスタ装置に
使用されるPTC素子の製造工程順を示す垂直断面図、
第7図は正特性サーミスタ装置の垂直断面図、第8図は
共通端子の平面図、第9−図はPTC素子とばね端子と
の位置関係を示す平面図、第10図は正特性サーミスタ
装置を用いた消磁回路を示す電気回路図である。第11
vIA及び第12図は従来の正特性サーミスタを示す垂
直断面図である。 1・・・1体、3a・・・ガラスコーティング膜、4a
、5a・・・電極、8・・・正特性サーミスタ装置、9
・・・ケース、Is、 16・・・端子、20.25・
・・PTC素子。 特許出願人 株式会社村田製作所
Claims (1)
- 1.PTC素子の表面を電極部分を残してガラスコーテ
ィング膜にて被覆し、該PTC素子の電極部分を端子に
て挾持した状態でPTC素子がケースに収納されている
ことを特徴とする正特性サーミスタ装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2319723A JPH04192301A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 正特性サーミスタ装置 |
US07/659,832 US5210516A (en) | 1990-02-22 | 1991-02-22 | Ptc thermistor and ptc thermistor producing method, and resistor with a ptc thermistor |
KR1019910002885A KR970006424B1 (ko) | 1990-02-22 | 1991-02-22 | 정특성더미스터와 그 제조방법 |
DE69114322T DE69114322T2 (de) | 1990-02-22 | 1991-02-22 | Verfahren zum Herstellen eines PTC-Thermistors. |
EP91102654A EP0443618B1 (en) | 1990-02-22 | 1991-02-22 | Method for producing a PTC thermistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2319723A JPH04192301A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 正特性サーミスタ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04192301A true JPH04192301A (ja) | 1992-07-10 |
Family
ID=18113454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2319723A Pending JPH04192301A (ja) | 1990-02-22 | 1990-11-22 | 正特性サーミスタ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04192301A (ja) |
-
1990
- 1990-11-22 JP JP2319723A patent/JPH04192301A/ja active Pending
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