JPH04187526A - 光学素子製造のための方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光学素子製造のための装置及び方法に関し、特
に光学機能面を有する光学素子を成形用素材から直接プ
レス成形により得るための装置及び方法に関する。

［従来の技術及び発明が解決しようとする課題］近年、
所定の表面精度を有する成形用型内に光学素子成形用の
素材たとえばある程度の形状及び表面精度に予備成形さ
れたガラスブランクを収容して加熱下でプレス成形する
ことにより、研削及び研摩等の後加工を不要とした、高
精度光学機能面を有する光学素子を製造する方法が開発
されている。

この様なプレス成形法では、一般に成形用上型部材と成
形用下型部材とをそれぞれ成形周胴型部材内に摺動可能
に対向配置し、これら上型部材、下型部材及び調型部材
により形成されるキャビティ内に成形用素材を導入し、
型部材の酸化防止のため雰囲気を非酸化性雰囲気たとえ
ば窒素雰囲気として、成形可能温度たとえば成形用素材
が１０”〜１０１２ポアズとなる温度まで型部材を加熱
し、型を閉じ適宜の時間プレスして型部材表面形状を成
形用素材表面に転写し、そして型部材温度を成形用素材
のガラス転移温度より十分低い温度まで冷却し、プレス
圧力を除去し、型を開いて成形済光学素子を取出す。

尚、型部材内に導入する前に成形用素材を適宜の温度ま
で予備加熱したり、あるいは成形用素材を成形可能温度
まで加熱してから型部材内に導入することもできる。更
、に、型部材とともに成形用素材を搬送しながら、それ
ぞれ所定の場所で加熱、プレス及び冷却を行い、連続化
及び−高速化をはかることもできる。

以上の様な光学素子プレス成形法及びその装置は、たと
えば特開昭５８−８４１３４号公報、特開昭４９−９７
００９号公報、イギリス国特許第３７８１９９号公報、
特開昭６３−１１５２９号公報、特開昭５９−１５０７
２８号公報、特開昭６１−２６５２８号公報、特開昭６
１−４４７２１号公報及び特公昭６３−３７０４４号公
報等に開示されている。

ところで、ガラスのプレス成形において良好な成形品を
得るためには、成形用素材と成形用型部材との融着や成
形品ワレ等の不具合発生を防止することが重要であり、
そのためには成形用素材の表面粗さをできるだけ小さく
しマイクロクラックを除去して滑らか且つ鏡面に近い仕
上げ状態とし、更に成形用素材表層部の揮発成分を十分
除去してお（のが好ましい。

この様な成形用素材の表面仕上げをめざした方法として
、デフォーカスした炭酸ガスレーザ光照射を用いる方法
が特公昭６２−２８０９０号公報に開示されている。

しかしながら、この方法では、成形用素材の表面近傍の
雰囲気が滞留するため素材表層部から揮発成分を十分に
除去するのが難しいという問題があった。また、効率的
な成形用素材の表面仕上のためには温度制御をできるだ
け正確に行うのが好ましいが、上記公報にはそのための
具体的手段に関し開示がない。

そこで、本発明は、以上の様な従来技術の問題点に鑑み
、効率的に、成形用素材の表面粗さをできるだけ小さ（
しマイクロクラックを除去して滑らか且つ鏡面に近い仕
上げ状態とし、更に成形用素材表層部の揮発成分を十分
除去して、成形用型部材との融着やワレ等の不具合の発
生を防止することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明によれば、上記目的を達成するものとし成形用素
材をプレス成形して光学素子を製造する方法において、
成形用素材に対し燃焼ガスフレーム吹付けによる表面改
質処理を行い、該処理に際し成形用素材の表面温度を測
定しながら該測定値が予め設定された温度変化に近づく
様に燃焼ガス吹付は量を調整し、上記表面改質処理後に
成形用素材をプレス成形することを特徴とする、光学素
子製造方法、 が提供される。

また、本発明によれば、上記目的を達成するものとして
、 上記光学素子製造方法を実施するための装置において、
成形用素材に対し燃焼ガスフレームを吹付けるためのバ
ーナと、該バーナに供給する燃焼ガス量を調整するため
の流量調整手段と、成形用素材の表面温度を測定するた
めの放射温度計と、設定された温度変化を記憶する手段
と、該配憶手段の記憶設定温度値と上記放射温度計の測
定温度値とを比較し該測定温度値が設定温度値に近づく
様に上記流量調整手段を制御する手段と、を備えている
ことを特徴とする、光学素子製造装置、が提供される。

［実施例〕 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。

第１図は本発明による光学素子の製造装置の一実施例の
概略構成を示す横断面模式図であり、第２図及び第３図
はそれぞれその■−■断面模式図及びＩＩＴ−ＩＩＩ断
面模式図である。

これらの図において、２は成形室であり、４はその上部
に配置された入替え室である。これら成形室２と入替え
室４との間には密閉可能なゲートバルブ６が介在してい
る。

上記成形室２は上下方向に中心を有する円筒形状であり
、外気と遮断可能である。該成形室は不図示の減圧源及
び非酸化性ガスたる窒素ガスの供給源にそれぞれ接続さ
れている。成形室２内には１つの中継ステーション１２
．２つの加熱ステーション１４．１６及び５つのプレス
ステーション１８．２０，２２，２４．２６が配置され
ており、これらステーションは上記成形室２の円筒形状
の上下方向中心のまわりに円周に沿って均等に配列され
ている。そして、上記成形室２０円筒形状の上下方向の
中心には移送手段２８が配置されている。尚、上記中継
ステーション１２は上記ゲートバルブ６の真下に位置す
る。

上記中継ステーション１２は、第２図に示されている様
に、成形室２の下部に立設せしめられた支柱１２ａの上
端に受台１２ｂを取付けたものからなる。

上記加熱ステーション１４は、第３図に示されている様
に、成形室２外に配置されているシリンダ１４ａ、該シ
リンダの上下方向ピストンロッドの上端に取付けられて
いる受台１４ｂ、上記成形室２の上部に取付けられてい
る加熱筒１４ｃ及び該加熱筒内に設けられているヒータ
１４ｄからなる。上記シリンダ１４ａを作動させること
により、上記受台１４ｂを上記加熱筒１４ｃ内へと移動
させ、上記形状保持用上型部材１４ｅに当接することが
できる。

加熱ステーション１４での加熱プロセスは、成形用素材
Ｇ１を保持した受台１４ｂを加熱筒１４Ｃ内まで上昇さ
せ、ここでヒータ１４ｄにより加熱して所望の温度まで
上昇させ、しかる後に上記受台１４ｂを下降させること
によりなされる。

以上、加熱ステーション１４に関し説明したが、上記加
熱ステーション１６も同様である。

上記プレスステーション２０においては、第２図に示さ
れている様に、成形室２の底部に上下方向の固定筒２０
ａが立設せしめられている。そして、成形室２外の上記
固定筒２０ａの下方にシリンダ２０ｂが配置されている
。２０ｃはシリンダ２０ｂのピストンロッドに取付けら
れ上下移動せしめられる下軸であり、該下軸は上記固定
筒２０ａ内に上下方向に摺動可能な様に収容されている
。

上記固定筒２０ａの上端上には筒状の側型部材２０ｄの
下端が取付けられている。また、上記下軸２０ｃの上端
上には下型部材２０ｅが配置されている。該下型部材は
調型部材２Ｏｄ内に収容されており、該側型部材に対し
上下方向に摺動可能である。

また、成形室２の上部上にはシリンダ２Ｏｆが配置され
ており、該シリンダのピストンロッドには上記下軸２０
ｃとほぼ同心状の上軸２０ｇが取付けられている。該上
軸は成形室２内まで延びており、上下移動せしめられる
。上軸２０ｇの下端部には上型部材２０ｈが保持されて
おり、該上型部材は上記調型部材２Ｏｄ内に収容されて
おり、該側型部材に対し上下方向に摺動可能である。

尚、上記下型部材２０ｅの上端面及び上記上型部材２０
ｈの下端面は成形すべき光学素子の光学機能面形成のた
めの転写面であり、所望の表面精度に仕上げられている
。

上記下軸２０ｃ及び上軸２０ｇ内にはそれぞれ冷媒流通
経路Ｃ１，Ｃ２が設けられている。また、上記側型部材
２０ｄにはヒータＨが内蔵されている。

第４図は上記プレスステーション２０の構成の一部を詳
細に示す概略断面図である。本図において上記第１図〜
第３図におけると同様の部材には同一の符号が付されて
いる。

調型部材２０ｄの下端面にはリングプレート２０１が固
定されており、該プレートが押えリング２０ｊにより上
記固定筒２０ａの上端面に係止せしめられている。また
、上記下型部材２０ｅの下端にはフランジ２０ｋが形成
されて下り、その下端面が上記リングプレート２０ｉに
対し突き当て可能であり、これにより下型部材２０ｅの
下限位置が設定される。

上型部材２０ｈの上端にはフランジ２０ｍが形成されて
おり、上軸２０ｇの下端部に固定された１対のフック２
Ｏｎにより上記フランジ２０ｍが係止保持されている。

尚、上型部材２０ｈには上記フランジ２０ｍの直下にお
いて肩部２０ｐが形成されており、該肩部が上記調型部
材２０ｄの上端面に突き当てられ、これにより上型部材
２０ｈの下限位置が設定される。

尚、調型部材２０ｄの側面には成形用素材及び成形済光
学素子の出し入れのための開口２０ｑが形成されている
。

第５図は上記フック２Ｏｎによる上型部材２０ｈの係止
保持の様子を示す概略分解斜視図である。即ち、上型部
材２０ｈのフランジ２０ｍには対向する２か所にノツチ
Ｎが形成されており、該ノツチを通して上記フック２Ｏ
ｎの先端を上方からフランジ下方へと移動させ、次いで
ほぼ９０度回転させることにより、第２図に示す様な配
置を実現することができる。

第６図は上記調型部材２０ｄ及び上型部材２０ｈのセッ
トを示す概略斜視図である。

プレスステーション２０でのプレスプロセスは、上型部
材２０ｈを上方へと移動させた状態にて成形用素材を調
型部材２Ｏｄ内で下型部材２０ｅと上型部材２０ｈとの
間に配置し、ヒータＨで加熱しながら上軸２０ｇを下降
させ上型部材２０ｈと下型部材２０ｅとをいずれも上記
下限位置まで移動させて型閉じを行い、所望の寸法にプ
レスして光学素子Ｇ、を形成し、その後ヒータＨによる
加熱を停止し冷媒流通経路Ｃ＋、Ｃａに冷媒を流して所
望の温度にまで冷却し、しかる後に上型部材２０ｈを上
昇させて型開きを行うことによりなされる。尚、この冷
却の際に下型部材２０ｅを適度の圧力で上方へと押圧し
てヒケ防止が図られる。

以上、プレスステーション２０に関し説明したが、上記
プレスステーション１８，２２，２４゜２６も同様であ
る。

上記移送手段２８は、第２図に示されている様に、成形
室２外に配置された回動駆動部２８ａと、該回動駆動部
に固定され上下方向に上記成形室２内へと延びている回
動軸２９ｂと、該回動軸の上端部に取付けられた水平方
向伸縮駆動部２８Ｃと、該駆動部に固定され水平方向に
延びている１本のアーム２８ｄと、該アームの先端の下
面側に取付けられた吸着部２８ｅとからなる。該吸着部
２８ｅは真空吸着によるものであり、成形用素材及び成
形済光学素子の上面を吸着保持することができる。また
、上記回動軸２９ｂは上下方向に伸縮可能な内部構造を
有している。

従って、上記回動軸２８ａの上下方向のまわりの回動及
び上下方向の伸縮ならびに上記アーム２８ｄの径方向の
伸縮の動作を組合わせることにより、上記吸着部２８ｅ
による上記中継ステーション１２、上記加熱ステーショ
ン１４．１６及び上記プレスステーション１８，２０，
２２，２４゜２６へのアクセス及び移送を実現すること
ができる。

即ち、上記中継ステーション１２へのアクセス及び移送
時には、回動軸２８ｂを回動させてアーム２８ｄを中継
ステーション１２の方へと向け、アーム２８ｄを伸長さ
せることにより、吸着部２８ｅを受台１２ｂの上方に位
置させ、しかる後に上記回動軸２８ｂを短縮させ、受台
１２ｂ上の成肘用素材を吸着する（または吸着部２８ｅ
に吸着されていた成形済光学素子を受台１２ｂ上に置く
）。そして、上記回動軸２８ｂを伸長させ、アーム２８
ｄを短縮させて、中継ステーションから退避させる。

上記加熱ステーション１４．１６へのアクセス及び移送
時には、回動軸２８ｂを回動させてアーム２８ｄを所望
の加熱ステーションの方へと向け、アーム２８ｄを伸長
させることにより、吸着部２８ｅを受台１４ｂ等の上方
に位置させ、しかる後に上記回動軸２８ｂを短縮させ、
吸着部２８ｅに吸着されていた成形用素材を受台１４ｂ
等上に置く　（または受台１４ｂ等上の成形用素材を吸
着する）。そして、上記回動軸２８ｂを伸長させ、アー
ム２８ｄを短縮させて、加熱ステーションから退避させ
る。

上記プレスステーション１８，２０，２２，２４．２６
へのアクセス及び移送時には、回動軸２８ｂを回動させ
てアーム２８ｄを所望のプレスステーションの方へと向
け、アーム２８ｄを伸長させることにより、吸着部２８
ｅを調型部材開口２０９等から該調型部材内へと進入さ
せて下型部材２０ｅの上方に位置させ、しかる後に上記
回動軸２８ｂを短縮させ、吸着部２８ｅに吸着されてい
た成形用素材を下型部材２Ｏｅ等上に置く（または下型
部材２Ｏｅ等上の成形済光学素子を吸着する）。そして
、上記回動軸２８ｂを伸長させ、アーム２８ｄを短縮さ
せて、プレスステーションから退避させる。

上記入替え室４の上部には、第２図に示されている様に
、シリンダ３０が付設されており、該シリンダの上下方
向ピストンロッドの下端部が上記入替え室４内へと延び
ており、その先端には保持フィンガー３２が設けられて
いる。該保持フィンガーは成形用素材及び成形済光学素
子の有効光学面以外の部分を保持することができる。上
記シリンダ３０及び保持フィンガー３２を含んで、入替
え室４と中継ステーション１２との間での成形用素材及
び成形済光学素子の搬送手段が構成される。

上記入替え室４は、成形室２外に配置されている上下方
向回動支柱３４に固定されているアーム３６の先端に取
付けられており、不図示の回動駆動手段により、第２図
に示される位置と不図示の成形用素材供給部及び成形済
光学素子回収部との間を移動することができる。尚、こ
の移動はゲートバルブ６が閉じている状態で行われる。

上記入替え室４は不図示の真空ポンプ及び非酸化性ガス
たる窒素ガスの供粕源にそれぞれ接続されている。該入
替え室４は上記第２図の位置において外気と遮断可能で
あり、従ってこの位置において内部を減圧して窒素ガス
雰囲気で満たすことができる。そして、該入替え室４内
の保持フィンガー３２と上記中継ステーション１２との
間で成形用素材及び成形済光学素子を搬送する際には、
成形室２内及び入替え室４内を窒素ガス雰囲気で満たし
、ゲートバルブ６を開き、保持フィンガー３２を下降さ
せ、該保持フィンガーに保持されていた成形用素材Ｇ１
を受台１２ｂ上に置く（または受台１２ｂ上の成形済光
学素子を保持する）。

そして、上記保持フィンガー３２を上昇させて入替え室
４内まで移動させ、しかる後にゲートバルブ６を閉じる
。

第７図は上記入替え室４の詳細図である。本図において
、４０は燃焼ガス炎（フレーム）を発生させ成形用素材
Ｇ１に吹付けるバーナである。該バーナはバルブ４２及
びマスフローコントローラ４４を介して燃焼ガス源に接
続されている。燃焼ガスとしては水素−酸素ガスを用い
ることができ、その流量はマスフローコントローラ４４
により調整することができる６４６は放射ｉＢ度計であ
り、入替え室４の側壁に設けられた窓４８がら成形用素
材Ｇ、の表面温度を測定することができる。５０は制御
盤であり、上記放射温度計４６の検出信号を受けて、上
記マスフローコントローラ４４の動作を制御することが
できる。

ここで、上記入替え室４内における成形用素材Ｇ１のフ
レーム処理（燃焼ガスフレーム吹付けによる表面改質処
理）に関し説明する。アーム３６の運動により入替え室
４が第２図及び第７図に示される位置に到達したことが
検知されると、制御盤５０からマスフローコントローラ
４４に対しフレーム処理開始の信号が発せられ、バーナ
４０から成形用素材Ｇ、に対し燃焼ガスフレームが吹き
付けられ、成形用素材Ｇ、が加熱される。同時に放射温
度計４６による成形用素材Ｇ１の表面温度の測定が開始
される。放射温度計によれば、フレーム処理されている
成形用素材Ｇｌから放出される赤外線（たとえば波長５
±１μｍ）を検出することで、燃焼ガスフレームに遮ら
れることなく且つ成形用素材を汚染することなしに非接
触で該成形用素材の表面温度を測定することができる。

制御！５０では、この測温値と予め記憶されているプロ
グラム設定温度値との差を演算し、その結果に基づき燃
焼ガス流量の制御信号をマスフローコントローラ４４に
対し出力する。かくして、正確且つ効率的に所望のフレ
ーム処理を実現できる。

第８図はフレーム処理の際の温度制御の一例を示すグラ
フである。制御！Ｉ！！５０には第８図の実線で示され
る様なプログラム設定温度値が記憶されている。この設
定温度値は、成形用素材Ｇ１が割れない程度の速さ（１
１，３℃／Ｓ）で所定温度（７００℃）に到達するまで
上昇しく６０ｓ）、その後該所定温度を１２０秒間維持
するものである。放射温度計４６で測定される測温値は
、例えば第８図に破線で示される様になる。また、第９
図はその時の燃焼ガスの圧力及び流量を示すグラフであ
る。

以上の様なフレーム処理により、成形用素材Ｇ１の表層
部から鉛系、アルカリ系、ホウ素系、バリウム系等の成
分が揮発する。そして、これらの揮発成分は燃焼ガスフ
レームによるガス流により成形用素材Ｇ１の表面から吹
き飛ばされる。但し、燃焼ガス中に含まれる水分は成形
用素材Ｇ。

の表面に水酸化物を形成するか該成形用素材Ｇ１め周囲
の雰囲気中に残留している。

次いで、制御盤５０からマスフローコントローラ４４に
対しガス流停止信号が発せられ、フレーム処理が終了す
る。

その後、入替え室４内を不図示の真空ポンプにより所定
の真空度まで減圧する。これにより、まだ熱い成形用素
材Ｇ、の周囲の雰囲気中に残留している水分が除去され
る。

以上の様なフレーム処理により、成形用素材ＧＩの表面
粗さが小さくなりマイクロクラックが除去され滑らか且
つ鏡面に近い仕上げ状態となり、更に表層部の揮発成分
を十分除去することができる。

続いて、入替え室４内に不図示の非酸化性ガスたる窒素
ガスの供給源から窒素ガスを導入する。

次に、上記実施例装置における上記入替え室４と中継ス
テーション１２との間での成形用素材及び成形済光学素
子の搬送動作ならびに上記移送手段２８による成形用素
材及び成形済光学素子の移送の動作の関連について説明
する。第１０図は各部間での成形用素材及び成形済光学
素子の搬送及び移送のタイミングを示すダイヤグラムで
ある。

ここでは、説明を簡単化するために、上記搬送及び移送
の動作に要する時間を無視している。また、入替え室４
へと成形用素材を送入する動作及び該入替え室から成形
済光学素子を回収する動作に要する時間を無視している
。

更に、入替え室４工のフレーム処理に要する最低時間を
３分間とし、加熱ステーションでの加熱プロセスに要す
る最低時間を６分間とし、プレスステーションでのプレ
スプロセス（該プロセスには、上記の様に、光学素子が
型部材から取出し可能となる温度まで冷却するプロセス
をも含む）に要する最低時間を１５分間としている。従
って、本実施例では、加熱ステーションでの加熱プロセ
スに要する時間（６分間）を加熱ステーションの数（２
）で除した数値（３）とプレスステーションでのプレス
プロセスに要する時間（１５分間）をプレスステーショ
ンの数（５）で除した数値（３）とが等しく設定されて
いる。

第１０図において、入替え室４と中継ステーション１２
との間の縦方向矢印は上記搬送動作を示しており、中継
ステーション１２と加熱ステーション１４．１６とプレ
スステーション１８，２０．２２，２４．２６との間の
縦方向矢印は上記移送動作を示しており、上記入替え室
４、加熱ステーション１４．１６及びプレスステーショ
ン１８．２０，２２，２４．２６における横方向の矢印
はそれぞれ上記フレーム処理プロセス、上記加熱プロセ
ス及び上記プレスプロセスを示している。

先ず、成形用素材（１）を入替え室４で３分間かけてフ
レーム処理し、次に該入替え室から中継ステーション１
２へと搬送し、更に加熱ステーション１４へと移送し、
ここで６分間かけて加熱プロセスを行った後に、プレス
ステーション］８へと移送し、ここで１５分間かけてプ
レスプロセスを行い、ここで得られた光学素子を中継ス
テーション１２へと移送し、更に入替え室４へと搬送す
る。

この間に、順次、成形用素材（２）、（３）。

（４）、（５）を同様に空き状態の各ステーションへと
移送し、同様に処理する。

続いて、成形用素材（Ｉ）、　　（ＩＩ）、　　（ＩＩ
Ｉ）。

（ｒＶ）、（Ｖ）を同様に処理する。この処理は、上記
成形用素材（１）〜（５）の処理と一部並行して実施す
ることができ、以下同様にして連続的に処理することが
できる。かくして、各加熱ステーションにおける加熱プ
ロセス及び各プレスステーションにおけるプレスプロセ
スを十分効率よく行うことができる。

尚、本実施例では、成形用素材Ｇ、をフレーム処理して
表面改質を行い、しかる後に成形用素材を成形室内へと
導入してプレス成形しているので、成形用型部材との融
着やワレ等の発生が防止され、良好な歩留まりで良好な
光学素子を得ることができる。

以上の実施例では、中継ステーションと加熱ステーショ
ンと複数のプレスステーションとを上下方向を中心とす
る円側上に配列し該上下方向中心の位置に移送手段を配
置し、該移送手段により中継ステーションにある成形用
素材を空き状態の加熱ステーションへと移送し加熱ステ
ーションにある成形用素材を空き状態のプレスステーシ
ョンへと移送しプレスステーションにある成形済光学素
子を空き状態の中継ステーションへと移送する様にした
ことにより、小型化及び構造の簡単化が可能であり、更
に各ステーションでのプロセスに要する時間に応じて最
適の効率で成形用素材及び成形済光学素子の移送を行う
ことができるので高速且つ高効率でプレス成形を行うこ
とが可能とな尚、上記実施例においてはバーナが４つ用
いられているが、もちろん本発明ではバーナの個数に制
限はない。但し、成形用素材の表面にできるだけ均等に
燃焼ガスフレームを吹付けるのが好ましい。また、燃焼
ガスとしては水素−酸素ガスに限定されることはな（、
その他プロパンー酸素ガスや都市ガス−酸素ガスなどを
使用することもできる。

［発明の効果］ 以上説明した様に、本発明によれば、成形用素材に対し
燃焼ガスフレーム吹付けによる表面改質処理を行い、該
処理に際し成形用素材の表面温度を測定しながら該測定
値が予め設定された温度変化に近づく様に燃焼ガス吹付
は量を調整し、上記表面改質処理後に成形用素材をプレ
ス成形することにより、効率的に、成形用素材の表面粗
さをできるだけ小さくしマイクロクラックを除去して滑
らか且つ鏡面に近い仕上げ状態とし、更に特に成形用素
材表層部の揮発成分を十分除去できるので、成形用型部
材との融着やワレ等の不具合の発生を防止することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による光学素子の製造装置の一実施例の
概略構成を示す横断面模式図であり、第２図及び第３図
はそれぞれその■−■断面模式図及びｍ−■断面模式図
である。 第４図はプレスステーションの構成の一部を詳細に示す
概略断面図である。 第５図は上型部材の係止保持の様子を示す概略分解斜視
図である。 第６図は調型部材及び上型部材のセットを示す概略斜視
図である。 第７図は入替え室の詳細図である。 第８図はフレーム処理の際の温度制御の一例を示すグラ
フであり、第９図はその時の燃焼ガスの圧力及び流量を
示すグラフである。 第１０図は成形用素材及び成形済光学素子の搬送及び移
送のタイミングを示すダイヤグラムである。 ２：成形室、　　　　　４：入替え室、６：ゲートバル
ブ、 １２：中継ステーション、 １４．１６：加熱ステーション、 １８．２０，２２，２４，２６： プレスステーション、 ２０ｄ：調型部材、　２０ｅ：下型部材、２０ｈ：上型
部材、 ２８：移送手段、 ２８ｄ：アーム、　　　２８ｅ：吸着部、３２：保持フ
ィンガー、 ４０：バーナ、 ４４：マスフローコントローラ、 ４６：放射温度計、　　５０：制御盤、Ｇ１　：成形用
素材、　Ｇ２　：成形済光学素子。 代理人　弁理士　　山　下　穣　子 弟１図 第２図 ０Ｄ 第４図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）成形用素材をプレス成形して光学素子を製造する
   方法において、成形用素材に対し燃焼ガスフレーム吹付
   けによる表面改質処理を行い、該処理に際し成形用素材
   の表面温度を測定しながら該測定値が予め設定された温
   度変化に近づく様に燃焼ガス吹付け量を調整し、上記表
   面改質処理後に成形用素材をプレス成形することを特徴
   とする、光学素子製造方法。
2. （２）上記請求項１に記載の光学素子製造方法を実施す
   るための装置において、成形用素材に対し燃焼ガスフレ
   ームを吹付けるためのバーナと、該バーナに供給する燃
   焼ガス量を調整するための流量調整手段と、成形用素材
   の表面温度を測定するための放射温度計と、設定された
   温度変化を記憶する手段と、該記憶手段の記憶設定温度
   値と上記放射温度計の測定温度値とを比較し該測定温度
   値が設定温度値に近づく様に上記流量調整手段を制御す
   る手段と、を備えていることを特徴とする、光学素子製
   造装置。