JPH04187232A

JPH04187232A - 原料供給装置

Info

Publication number: JPH04187232A
Application number: JP31239590A
Authority: JP
Inventors: Emi Ishimaru; 恵美石丸; Shinichi Nakayama; 真一中山
Original assignee: Fujikura Ltd
Current assignee: Fujikura Ltd
Priority date: 1990-11-17
Filing date: 1990-11-17
Publication date: 1992-07-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【産業上の利用分野】

この発明は、バブリング方式の原料供給装置に関する。このバブリング方式の原料供給装置はＶＡＤ法による光
ファイバの製造や、ＣＶＤ法による薄膜の製造などの分
野で用いられる。

【従来の技術】

ＶＡＤ法によって光ファイバを製造する場合や、ＣＶＤ
法によって薄膜を製造する場合などでは、つねに安定し
た成分を持つ原料の供給が求められる。このような場合
、従来では、飽和器（バブラー）を用いて、液相の原料
中に気相のキャリアガスを導入してバブリングを行い、
飽和器内の気相を原料液の蒸気で飽和させた後、その飽
和蒸気をキャリアガス気流にのせて原料供給ラインを経
て、原料として供給するようにしている。ここで、密閉
系である飽和器から供給される原料ガスの成分は、飽和
器内の原料液の液面の高さに依存している。一定の安定
した成分の原料ガスを得るため、従来では、２段バブリ
ング型飽和器や、スパイラル状にキャリアガス流を送っ
て泡を発生させるタイプのサーキュレーション型飽和器
などを用いている。すなわち、前者は第３図に示すように、密閉槽を２つに
分けて２つの独立の密閉槽１１．１２としてそれぞれ原
料液２を入れ、一方の密閉槽１１にはキャリアガス導入
パイプ４を設けるとともに、他方の密閉槽１２には原料
ガス導出パイプ５を設け、それら２つの密閉槽１１．１
２の間を中間バイブロで結んだものである。また、後者は第４図に示すように、キャリアガス導入パ
イプ４と原料ガス導出パイプ５とを有する密閉槽１にス
パイラルパイプ７を設け、パイプ４からキャリアガスを
密閉槽１内の原料液２中に導入したときに、泡がスパイ
ラルパイプ７中をスパイラル状に登っていくようにした
ものである。

【発明が解決しようとする課題】

しかしながら、従来ではいずれも問題がある。まず２段バブリング型の飽和器では密閉槽が２槽に分か
れているため、それら２つの密閉槽の原料液が必ずしも
同様の割合で減少するわけではなく、原料液が減少して
きたときの原料液の補給の時期の選択に困難がある。ま
た、サーキュレーション型の飽和器では、たしかに泡が
スパイラル状に登っていくため、一定の飽和濃度の原料
ガスの供給を行うことができるが、原料液の液面の高さ
によってその原料ガスの流速が変化してしまうため、Ｖ
ＡＤ法やＣＶＤ法などを安定に行うことができないとい
う問題がある。この発明は、上記に鑑み、原料液の補給が容易で、且つ
原料液の蒸気によって良好に飽和した原料ガスを流速の
変動なしに安定に供給できるように改善した、原料供給
装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

上記の目的を達成するため、この発明による原料供給装
置においては、原料液が入れられた密閉槽と、該密閉槽
を水平方向に少なくとも２つの室に分ける、底面付近で
開口を有する、密閉槽に設けられた半隔壁と、上記半隔
壁で仕切られた一方の室の原料液中にキャリアガスを導
入するパイプと、他方の室の気体を導出するパイプと、
上記の半隔壁を経て上記一方の室の液面上と他方の室の
液中とを結ぶ中間パイプとが備えられることが特徴とな
っている。

【作　　用】

原料液が入れられた密閉槽は、半隔壁によって水平方向
に少なくとも２つの室に分けられている。この半隔壁は底面付近で開口を有しているため、原料液
は２つの室の間に相互に流通する。そして中間パイプが、一方の室の液面上と、他方の室の
液中とを結んでいる。そのため、一方の室の液中に導入されたキャリアガスが
、一方の室の液内を泡となって上昇してくることによっ
て、その室の液面上に原料液の蒸気を含んだガスが満た
される。このガスは、中間パイプを通って他方の室の液
中に導入され、この室内の液内で再び泡となって上昇し
てくる。このように、キャリアガスが多段階で原料液中
の泡となり、この泡が長時間にわたって原料液に接する
ことになるため、最後の室の液面上に生じる気体は原料
の蒸気でよく飽和されることになる。これが原料ガス導出パイプによって取り出されるため、
原料液の蒸気のより安定な成分比で飽和した原料ガスを
得ることができる。また、原料液の液面が変わっても大きな圧力差は生じな
いため、原料ガスの流速の問題となるような変動も起こ
らない。さらに、原料液は半隔壁で仕切られた各室内を自由に流
通するため、原料液が減少してきたとき各室内で液面は
同時に下がり、原料液の補給の時期の選択も容易である
とともに、原料液の補給も１つの室について行えばよい
ので、従来の２段バブリング型飽和器のように２つの密
閉槽に別々に原料液を補給しなければならないという煩
わしさもない。

【実　施　例】

以下、この発明の一実施例について図面を参照しながら
詳細に説明する。第１図及び第２図はこの発明の一実施
例にかかる原料供給装置である飽和器を示すもので、１
つの密閉槽１には原料液２が入れられており、この密閉
槽１の内部には半隔壁３がいくつか設けられている。こ
の半隔壁３は、密閉槽１を水平方向に分けて複数の仕切
られた室をつくるものであるが、密閉槽１の底面付近が
開口となるよう、上側の部分においてのみ設けられてい
る。こうして各室は完全には仕切られず、底面近くの開
口を通じて原料液が各室を自由に流通６一するようにされる。ただし、上側ではこの半隔壁３によ
って完全に仕切られ、液面上の気体は各室間を流通する
ことができないようにされている。密閉槽１の一端（図では左端）にはキャリアガス導入パ
イプ４が取り付けられている。このパイプ４の一端は密
閉槽１の底面近くに開口しており、このパイプ４を通じ
てキャリアガスが左端の室の原料液２中に導入されるよ
うになっている。また、密閉槽１の他端（図では右端）
には原料ガス導出　・パイプ５が取り付けられている。このパイプ５の一端は密閉槽１の上側において開口して
おり、原料液２の液面の上側の気体が導き出される。さらに半隔壁３．を跨ぐように中間バイブロが設けられ
ている。この中間バイブロは、半隔壁３の一方側の室の
上側で開口する一端と、他方側の室の下側で開口する他
端とを有している。そこで、パイプ４を通じてキャリアガスを送り込むと、
そのキャリア、ガスはパイプ４の一端開口より最初の室
の原料液２中に導入され、泡となって上昇して、その室
の上側の液面上の気体に混ざる。この液面上の気体は中
間バイブロを通って次の室の液中に導入され、泡となっ
て上昇し、その室の上側の液面上の気体に混ざる。これ
を各室で繰り返し、最後の室の液面上の気体となる。そ
のため、最後の室の液面上の気体は原料液２の蒸気によ
って十分に飽和した原料ガスとなる。すなわち、バブリングが各室で繰り返され、密閉槽１内
の原料液２中の泡が多段階に生じて、キャリアガスが原
料液２に接する時間が長くなるため、キャリアガスは原
料液２の蒸気によって良好に飽和されることになる。そこで、原料ガス導出パイプ５より、より安定な成分比
で原料液２の蒸気が飽和した原料ガスを導き出すことが
できる。また、スパイラルパイプを持つサーキュレーシ
ョン型飽和器のように液面が変わった場合に大きな圧力
差が生じるというようなこともないので、原料ガスの流
速について問題となるような大きな変動が生じることは
ない。さらに、原料液２は１つの密閉槽１に入れるだけでよく
、この密閉槽１内の原料液２は半隔壁３の一　−８− 各室内の原料液２の液面はつねに同一レベルとなる。そ
のため、原料液２が減少してきてその補給をする場合の
判断は容易であり、しかも、どれか１：：：：二：：、
２を入れるだけでよいので補竺この発明の原料供給装置
によれば、原料液の＝

【発明の効果】気によって良好に飽和した原料ガスを桝速の変動なしに
安定に供給で・きるとともに、原料液の補給が容易であ
る。第１図及び第２図はこの発明の一実施例を示すもので１
．第１図は模式的な斜視図、第２図は模式的な断面図、
第３図及び第４図はそれぞれ従来例を模式的に示す斜視
図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）原料液が入れられた密閉槽と、該密閉槽を水平方
向に少なくとも２つの室に分ける、底面付近で開口を有
する、密閉槽に設けられた半隔壁と、上記半隔壁で仕切
られた一方の室の原料液中にキャリアガスを導入するパ
イプと、他方の室の気体を導出するパイプと、上記の半
隔壁を経て上記一方の室の液面上と他方の室の液中とを
結ぶ中間パイプとを備えることを特徴とする原料供給装
置。