JPH0418196Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0418196Y2 JPH0418196Y2 JP1987155208U JP15520887U JPH0418196Y2 JP H0418196 Y2 JPH0418196 Y2 JP H0418196Y2 JP 1987155208 U JP1987155208 U JP 1987155208U JP 15520887 U JP15520887 U JP 15520887U JP H0418196 Y2 JPH0418196 Y2 JP H0418196Y2
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- JP
- Japan
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- magnetron
- vane
- adjustment
- frequency
- ring
- Prior art date
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- Expired
Links
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Microwave Tubes (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は周波数を容易に調整できるようにした
マグネトロンに関する。
マグネトロンに関する。
第8図は従来のマグネトロン1を示す図であ
る。該図において、2はアノードシエル、21は
該アノードシエル2の内側に形成されたベーン取
付用凸部、3は該凸部21の内側にロウ付けされ
たベーン、4は該ベーン3に取り付けられたスト
ラツプリングである。
る。該図において、2はアノードシエル、21は
該アノードシエル2の内側に形成されたベーン取
付用凸部、3は該凸部21の内側にロウ付けされ
たベーン、4は該ベーン3に取り付けられたスト
ラツプリングである。
従来、マグネトロンの周波数をコントロールす
るには部品の寸法を調整すること等によつてい
た。しかし、周波数が1GHzを越えると、その調
整方法では極めて困難となる。仮にその方法のみ
で目的を達しようとすれば、部品を極めて高い精
度で制作しなければならない。これを避けるため
に1GHz以上の発振周波数の調整はストラツプリ
ング4を調整することによつて行つていた。
るには部品の寸法を調整すること等によつてい
た。しかし、周波数が1GHzを越えると、その調
整方法では極めて困難となる。仮にその方法のみ
で目的を達しようとすれば、部品を極めて高い精
度で制作しなければならない。これを避けるため
に1GHz以上の発振周波数の調整はストラツプリ
ング4を調整することによつて行つていた。
[考案が解決しようとする問題点]
ところが、ストラツプリング4とそれを支持し
ているベーン3との接合は弱く、また、ベーン3
も取付用凸部3に対する接合及びそれ自体が薄く
堅牢でない構造となつている。このため、ベーン
3は、ストラツプリング4を調整する際に歪力を
受けたり、ロウ付時にアニールされる等して変形
することがあり、電界の不均一、発振不安定が起
き易いものであつた。
ているベーン3との接合は弱く、また、ベーン3
も取付用凸部3に対する接合及びそれ自体が薄く
堅牢でない構造となつている。このため、ベーン
3は、ストラツプリング4を調整する際に歪力を
受けたり、ロウ付時にアニールされる等して変形
することがあり、電界の不均一、発振不安定が起
き易いものであつた。
本考案は、このような事情に鑑みてなされたも
ので、ベーンに変形を与えないで発振周波数の調
整を容易にできるようにしたマグネトロンを提供
する。
ので、ベーンに変形を与えないで発振周波数の調
整を容易にできるようにしたマグネトロンを提供
する。
このために、本考案のマグネトロンは、アノー
ドシエルの内側に複数のベーンを付設してなるマ
グネトロンにおいて、 上記ベーンが付設されたアノードシエルの縁部
に変形可能な調整リングを沿設して構成した。
ドシエルの内側に複数のベーンを付設してなるマ
グネトロンにおいて、 上記ベーンが付設されたアノードシエルの縁部
に変形可能な調整リングを沿設して構成した。
以下、本考案の実施例のマグネトロンについて
説明する。第1図a,b及び第2図は第1の実施
例のマグネトロン5を示す図である。なお、上記
の従来のマグネトロン1と共通する部分は同一符
号を用いて説明を省略する。
説明する。第1図a,b及び第2図は第1の実施
例のマグネトロン5を示す図である。なお、上記
の従来のマグネトロン1と共通する部分は同一符
号を用いて説明を省略する。
本例のマグネトロン5ではアノードシエル2に
塑性材料からなる調整リング6を設けた点が従来
のマグネトロン1と異なり、特徴となつている。
即ち、調整リング6はベーン3がロウ付けにより
取り付けられるベーン取付用凸部21の縁上に沿
つて備えられ、断面形状がL字型に形成されてい
る。その材質は例えば銅等を用いる。
塑性材料からなる調整リング6を設けた点が従来
のマグネトロン1と異なり、特徴となつている。
即ち、調整リング6はベーン3がロウ付けにより
取り付けられるベーン取付用凸部21の縁上に沿
つて備えられ、断面形状がL字型に形成されてい
る。その材質は例えば銅等を用いる。
周波数を調整するには調整リング6の立上片6
aをストラツプリング4側に押倒すことにより行
われる(第2図矢印a参照)。
aをストラツプリング4側に押倒すことにより行
われる(第2図矢印a参照)。
即ち、通常マグネトロンでは共振周波数は
f=1/〔2π(LC)1/2〕
で決定される。ここで、Lは第2図のベーン3で
囲まれた斜線で示す面積Sの大きさに比例し、C
はストラツプリング4間、ベーン3間の対抗面積
に比例する。よつて、立上片6aの押倒しにより
Lが変化し共振周波数fが調整されることにな
る。この押倒しは、ベーン3に影響を与えること
はない。また、その調整量はストラツプリング4
の調整に比較して数倍大きくなる。
囲まれた斜線で示す面積Sの大きさに比例し、C
はストラツプリング4間、ベーン3間の対抗面積
に比例する。よつて、立上片6aの押倒しにより
Lが変化し共振周波数fが調整されることにな
る。この押倒しは、ベーン3に影響を与えること
はない。また、その調整量はストラツプリング4
の調整に比較して数倍大きくなる。
第4図は第2の実施例のマグネトロンを示し、
この例ではベーン取付用凸部21の上下両面に調
整リング6,6′が設けられている。周波数の調
整は前例と同様に、調整リング6,6′の立上片
6a,6a′を押倒すことにより行われる。
この例ではベーン取付用凸部21の上下両面に調
整リング6,6′が設けられている。周波数の調
整は前例と同様に、調整リング6,6′の立上片
6a,6a′を押倒すことにより行われる。
また、第5図、第6図は第3の実施例のマグネ
トロンを示し、この例では調整リング7,7′が
平板状に形成され、内側の縁部がベーン取付用凸
部21の縁部より突出されて取り付けられてい
る。周波数の調整は調整リング7,7′の内側の
縁部を外側に引き起こす(矢印b参照)ことによ
り行われる。この調整リング7,7の製作は極め
て容易である。
トロンを示し、この例では調整リング7,7′が
平板状に形成され、内側の縁部がベーン取付用凸
部21の縁部より突出されて取り付けられてい
る。周波数の調整は調整リング7,7′の内側の
縁部を外側に引き起こす(矢印b参照)ことによ
り行われる。この調整リング7,7の製作は極め
て容易である。
さらに、第7図は第4の実施例のマグネトロン
を示す図である。この例では調整リング8,8′
が断面L字型に形成されている。そして、該立上
片8a,8a′がアノードシエル9のベーン取付用
凸部91に取り付けられる。周波数の調整は水平
片8b,8b′をベーン3側に押曲げることにより
行われる(矢印c参照)。
を示す図である。この例では調整リング8,8′
が断面L字型に形成されている。そして、該立上
片8a,8a′がアノードシエル9のベーン取付用
凸部91に取り付けられる。周波数の調整は水平
片8b,8b′をベーン3側に押曲げることにより
行われる(矢印c参照)。
以上から本考案によれば、アノードシエルに塑
性材料からなる調整リングを設け、その変形によ
り周波数を調整するようにしたので、ベーンが変
形することなく、よつて、電界の不均一及び発振
不安定等を生じさせないで周波数を容易に調整す
ることができる。また、その調整量可能範囲は大
きいので製品の不良発生率を低減できる。さら
に、全体の部品寸法等に高い精密度が要求されな
いので製作が容易となる。
性材料からなる調整リングを設け、その変形によ
り周波数を調整するようにしたので、ベーンが変
形することなく、よつて、電界の不均一及び発振
不安定等を生じさせないで周波数を容易に調整す
ることができる。また、その調整量可能範囲は大
きいので製品の不良発生率を低減できる。さら
に、全体の部品寸法等に高い精密度が要求されな
いので製作が容易となる。
第1図aは本考案の第1の実施例のマグネトロ
ンの断面図、第1図bはその一部拡大図、第2図
はその平面断面図、第3図は調整リングの断面
図、第4図は第2の実施例のマグネトロンの断面
図、第5図は第3の実施例のマグネトロンの断面
図、第6図はその平面断面図、第7図は第4の実
施例のマグネトロンの断面図、第8図は従来のマ
グネトロンの断面図である。 2……アノードシエル、21……ベーン取付用
凸部、3……ベーン、4……ストラツプリング、
5……マグネトロン、6……調整リング、6a…
…立上片、6b……水平片、7,7′……調整リ
ング、8,8′……調整リング、8a,8a′……
立上片、8b,8b′……水平片、9……アノード
シエル、91……ベーン取付用凸部。
ンの断面図、第1図bはその一部拡大図、第2図
はその平面断面図、第3図は調整リングの断面
図、第4図は第2の実施例のマグネトロンの断面
図、第5図は第3の実施例のマグネトロンの断面
図、第6図はその平面断面図、第7図は第4の実
施例のマグネトロンの断面図、第8図は従来のマ
グネトロンの断面図である。 2……アノードシエル、21……ベーン取付用
凸部、3……ベーン、4……ストラツプリング、
5……マグネトロン、6……調整リング、6a…
…立上片、6b……水平片、7,7′……調整リ
ング、8,8′……調整リング、8a,8a′……
立上片、8b,8b′……水平片、9……アノード
シエル、91……ベーン取付用凸部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) アノードシエルの内側に複数のベーンを付設
してなるマグネトロンにおいて、 上記ベーンが付設されたアノードシエルの縁
部に変形可能な調整リングを沿設したことを特
徴とするマグネトロン。 (2) 上記調整リングを断面L字型に形成したこと
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項記
載のマグネトロン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1987155208U JPH0418196Y2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1987155208U JPH0418196Y2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0160446U JPH0160446U (ja) | 1989-04-17 |
JPH0418196Y2 true JPH0418196Y2 (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=31432632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1987155208U Expired JPH0418196Y2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0418196Y2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5517421U (ja) * | 1978-07-19 | 1980-02-04 | ||
JPS5862538U (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-27 | 株式会社東芝 | マグネトロンの陽極構体 |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP1987155208U patent/JPH0418196Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5517421U (ja) * | 1978-07-19 | 1980-02-04 | ||
JPS5862538U (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-27 | 株式会社東芝 | マグネトロンの陽極構体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0160446U (ja) | 1989-04-17 |
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