JPH04164091A - ハロメチルカルバペネム化合物の製法 - Google Patents
ハロメチルカルバペネム化合物の製法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
この発明は従来技術では製造が確認きれていない2−ハ
ロメチルカルバペネム化合物(■)とその製造法を提供
してカルバペネム化合物の実用的製造を可能化すること
を目的とする。
ロメチルカルバペネム化合物(■)とその製造法を提供
してカルバペネム化合物の実用的製造を可能化すること
を目的とする。
[利用分野]
この発明は最近抗菌剤として注目を集めているカルバペ
ネム化合物製造用新化学方法およびその中間体化合物の
分野に属する。
ネム化合物製造用新化学方法およびその中間体化合物の
分野に属する。
[従来技術]
2−ヒドロキシメチルカルバペネム化合物(Dをトルエ
ンスルホニル化して製造する特開昭61−151191
号実施例4の段階Aには生成物2−トルエンスルホニル
オキシメチルカルバペネム化合物(2)の物理定数は開
示がない、また、このトルエンスホネートを出発原料と
して同出願明細書実施例4段階Bから実施例6に記載の
方法で合成した化合物群の物理定数も記載されていない
。
ンスルホニル化して製造する特開昭61−151191
号実施例4の段階Aには生成物2−トルエンスルホニル
オキシメチルカルバペネム化合物(2)の物理定数は開
示がない、また、このトルエンスホネートを出発原料と
して同出願明細書実施例4段階Bから実施例6に記載の
方法で合成した化合物群の物理定数も記載されていない
。
本発明者はこの実施例4を忠実に追試したが、89%の
高収率で得られた生成物はβ−ラクタム環が開裂した開
化合物である2−(2−アリルオキシカルボニル−3,
3−メチレン−4−メチル−1−ピロリン−5−イル)
−3−ヒドロキシブタン酸ラクトン(3)であった。
高収率で得られた生成物はβ−ラクタム環が開裂した開
化合物である2−(2−アリルオキシカルボニル−3,
3−メチレン−4−メチル−1−ピロリン−5−イル)
−3−ヒドロキシブタン酸ラクトン(3)であった。
(以下余白)
念のため、化合物(1)の6位側鎖ヒドロキシ基をトリ
アルキルシリルで保護してから反応許せた場合も、反応
液中には目的物であるトリアルキルシリル化された化合
物■などベータラクタム環を持つ化合物は生成していな
かった。
アルキルシリルで保護してから反応許せた場合も、反応
液中には目的物であるトリアルキルシリル化された化合
物■などベータラクタム環を持つ化合物は生成していな
かった。
従って、′トルエンスホネート(Z jとそれがら誘導
した化合物の構造決定、製造可能性、同類物質の記載は
全て虚像である。
した化合物の構造決定、製造可能性、同類物質の記載は
全て虚像である。
[解決すべき課題]
従来技術では不可能なスルホニル化の代わりに2位ヒド
ロキシメチル基の実用的な官能基化方法の開発が解決す
べき問題点である。
ロキシメチル基の実用的な官能基化方法の開発が解決す
べき問題点である。
そこで、スルホニルオキシ基の代わりにハロゲン原子を
脱離基とすべく、常法によるヒドロキシ基のハロゲン置
換反応を試みたが、ハロゲン化物の実用的製造はできな
かった0例えば、2−ヒドロキシメチルカルバペネム化
合物(1)の塩化チオニルによるハロゲン化では生成物
は対応する2−クロロメチルカルバペネム化合物■では
なく、アリル転位体2.2−メチレン−3−クロロカル
バペナム化合物C3)であった。
脱離基とすべく、常法によるヒドロキシ基のハロゲン置
換反応を試みたが、ハロゲン化物の実用的製造はできな
かった0例えば、2−ヒドロキシメチルカルバペネム化
合物(1)の塩化チオニルによるハロゲン化では生成物
は対応する2−クロロメチルカルバペネム化合物■では
なく、アリル転位体2.2−メチレン−3−クロロカル
バペナム化合物C3)であった。
[発明の構成]
この発明は、2−ヒドロキシメチルカルバペネム化合物
(I)にリン酸エステル化剤を作用上せて2−ホスホリ
ルオキシメチルカルバペネム化合物(rl)を製造する
第一工程と2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化
合物(II)にハロゲン化剤を作用上せて目的とする2
−ハロメチルカルバペネム化合物(III)を製造する
第二工程からなる。
(I)にリン酸エステル化剤を作用上せて2−ホスホリ
ルオキシメチルカルバペネム化合物(rl)を製造する
第一工程と2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化
合物(II)にハロゲン化剤を作用上せて目的とする2
−ハロメチルカルバペネム化合物(III)を製造する
第二工程からなる。
(式中、R1は水素原子または置換または非置換アルキ
ル基、 R2は水素原子または置換または非置換アルキル基、 R1、R4はハロゲン原子あるいは置換または非置換ア
ルコキシまたはアリールオキシ基、R1は水素原子また
はカルボキシ保護基、Halはハロゲン原子をそれぞれ
示す)この発明は単位操作としては公知反応である。
ル基、 R2は水素原子または置換または非置換アルキル基、 R1、R4はハロゲン原子あるいは置換または非置換ア
ルコキシまたはアリールオキシ基、R1は水素原子また
はカルボキシ保護基、Halはハロゲン原子をそれぞれ
示す)この発明は単位操作としては公知反応である。
すなわち、アリルアルコールをリン酸エステル化後、ハ
ロゲン化剤と反応させてハロゲン化アリルを製造する方
法はシンテシス誌、1984年、841〜842頁に記
載がある。しかし、ベータラクタム化学の文献には、弱
求電子基であるホスホリルオキシ基を脱離基とするハロ
ゲン化反応は見当らなかった。
ロゲン化剤と反応させてハロゲン化アリルを製造する方
法はシンテシス誌、1984年、841〜842頁に記
載がある。しかし、ベータラクタム化学の文献には、弱
求電子基であるホスホリルオキシ基を脱離基とするハロ
ゲン化反応は見当らなかった。
[課題解決手段]
−工程ニリン酸エステル化
2−ヒドロキシメチルカルバペネム化合物(I)に酸捕
捉剤の存在下にリン酸エステル化剤を作用芒せれば、高
収率で2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物
(II)を製造できる。
捉剤の存在下にリン酸エステル化剤を作用芒せれば、高
収率で2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物
(II)を製造できる。
すなわち、2−ヒドロキシメチルカルバペネム化合物(
I)に酸捕捉剤(ジメチルアミノピリジンなど)の存在
下に不活性溶媒(ジクロロメタンなど)中でリン酸エス
テル化剤(リン酸の反応性誘導体)を−60℃〜−20
℃で30分間〜3時間作用させれば高収率で2−ホスホ
リルオキシメチルカルバペネム化合物(IF)を製造で
きる。
I)に酸捕捉剤(ジメチルアミノピリジンなど)の存在
下に不活性溶媒(ジクロロメタンなど)中でリン酸エス
テル化剤(リン酸の反応性誘導体)を−60℃〜−20
℃で30分間〜3時間作用させれば高収率で2−ホスホ
リルオキシメチルカルバペネム化合物(IF)を製造で
きる。
リン酸の反応性誘導体としてはリン酸の水酸基2個がハ
ロゲンあるいは置換または非置換アルコキシまたはアリ
ールオキシ基である誘導体のハロゲン化物が好ましい、
こ−れら反応性誘導体は無機塩基(アルカリ金属、アル
カリ土類金属などの酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭皺
塩など)、有機塩基(第三級アミン、芳香族塩基など)
、オキシラン(アルキレンオキシド、アラルキレンオキ
シドなど)、吸着剤(セライトなど)などの酸捕、捉剤
の存在下に作用させる。
ロゲンあるいは置換または非置換アルコキシまたはアリ
ールオキシ基である誘導体のハロゲン化物が好ましい、
こ−れら反応性誘導体は無機塩基(アルカリ金属、アル
カリ土類金属などの酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭皺
塩など)、有機塩基(第三級アミン、芳香族塩基など)
、オキシラン(アルキレンオキシド、アラルキレンオキ
シドなど)、吸着剤(セライトなど)などの酸捕、捉剤
の存在下に作用させる。
この反応は、好ましくは反応性水素不合の溶媒中、ヒド
ロキシメチルカルバペネム化合物(りにリン酸の反応性
誘導体1〜5当量と酸捕捉剤0〜2モルを作用させる。
ロキシメチルカルバペネム化合物(りにリン酸の反応性
誘導体1〜5当量と酸捕捉剤0〜2モルを作用させる。
第二工程:ハロゲン置
2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物(If
)にハロゲン供与剤を作用させれば2−ハロメチルカル
バペネム化合物(III)を製造できる。
)にハロゲン供与剤を作用させれば2−ハロメチルカル
バペネム化合物(III)を製造できる。
ここに2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物
(n)に不活性溶媒(ジクロロメタンなト)中でハロゲ
ン供与剤(アルカリ金属、アルカリ土類など軽金属のハ
ロゲン化物、ハロゲン化トリアルキルシリル、ジハロゲ
ン化ジアルキルシリル、トリハロゲン化モノアルキルシ
リル、テトラハロゲン化シランなどのハロゲン化シリル
化合物やハロゲン化トリアルキルスズ、ジハロゲン化ジ
アルキルスズ、トリハロゲン化モノアルキルスズ等のハ
ロゲン化スズ化合物など)を−40°C〜室温で30分
〜3時間作用きせれば収率よく2−ハロメチルカルバペ
ネム化合物(III)を製造できる。
(n)に不活性溶媒(ジクロロメタンなト)中でハロゲ
ン供与剤(アルカリ金属、アルカリ土類など軽金属のハ
ロゲン化物、ハロゲン化トリアルキルシリル、ジハロゲ
ン化ジアルキルシリル、トリハロゲン化モノアルキルシ
リル、テトラハロゲン化シランなどのハロゲン化シリル
化合物やハロゲン化トリアルキルスズ、ジハロゲン化ジ
アルキルスズ、トリハロゲン化モノアルキルスズ等のハ
ロゲン化スズ化合物など)を−40°C〜室温で30分
〜3時間作用きせれば収率よく2−ハロメチルカルバペ
ネム化合物(III)を製造できる。
[反応条件]
前記両合成法は通常−60〜50℃、とくに−50〜4
0°Cの温度で10分間〜15時間反応きせることがで
きる。生成物が反応液中で安定な時はきらに長時間放置
できる。各反応には所望により反応溶媒、無水条件、不
活性気体、攪拌などの常法を適用できる。
0°Cの温度で10分間〜15時間反応きせることがで
きる。生成物が反応液中で安定な時はきらに長時間放置
できる。各反応には所望により反応溶媒、無水条件、不
活性気体、攪拌などの常法を適用できる。
[反応溶媒]
前記両合成法用反応溶媒としては、炭化水素(ペンタン
、ヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン
など)、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、クロロベンゼンなど)、エーテル(ジエチルエーテ
ル、メチルイソブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノンなど)、エステル(酢酸エチル
、酢酸イソブチル、安息香酸メチルなど)、ニトロ炭化
水素にトロメタン、ニトロベンゼンなど)、ニトリル(
アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)、アミド(ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドなど)、スルホキシド(ジメチル
スルホキシドなど)、有機塩基(ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ビフリン、フリジン、キノリ
ンなど)、その他の系列に属する工業用溶媒またはその
混合物を例示できる。
、ヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン
など)、ハロゲン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタ
ン、クロロベンゼンなど)、エーテル(ジエチルエーテ
ル、メチルイソブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノンなど)、エステル(酢酸エチル
、酢酸イソブチル、安息香酸メチルなど)、ニトロ炭化
水素にトロメタン、ニトロベンゼンなど)、ニトリル(
アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)、アミド(ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドなど)、スルホキシド(ジメチル
スルホキシドなど)、有機塩基(ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ビフリン、フリジン、キノリ
ンなど)、その他の系列に属する工業用溶媒またはその
混合物を例示できる。
[後処理]
目的とする生成物は反応液から夾雑物(未反応原料、副
生成物、溶媒など)を常法(抽出、蒸発、洗浄、濃縮、
沈殿、口過、乾燥など)により除去したのち、常用の後
処理(吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフ
ィーなど)を組合せて処理すれば単離することができる
。
生成物、溶媒など)を常法(抽出、蒸発、洗浄、濃縮、
沈殿、口過、乾燥など)により除去したのち、常用の後
処理(吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフ
ィーなど)を組合せて処理すれば単離することができる
。
[各基の説明コ
R1基は水素原子または置換または非置換アルキル基で
あって、ベネム、カルバペネム系化合物の化学における
6位置換基である。特に、1位にヒドロキシ基またはハ
ロゲン原子を持つ炭素数1〜10のアルキル基が好適で
ある1代表的なR1基は炭素数1〜8のアルキル(例え
ば、メチル、エチル、プロピルなど)、炭素数1〜8の
ヒドロキシアルキル(例えば、ヒドロキシメチル、1−
ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒド
ロキシイソプロピルなど)、炭、素数1〜8のハロアル
キル(例えば、フルオロメチル、クロロメチル、1−フ
ルオロエチル、2−フルオロイソプロピル、トリフルオ
ロメチルなど)、J12素数4〜8のジオキソリル(例
えば、2−才キソー4−アルキル(例えば、メチル、エ
チル、プロピル)ジオキソリルなど)などである。
あって、ベネム、カルバペネム系化合物の化学における
6位置換基である。特に、1位にヒドロキシ基またはハ
ロゲン原子を持つ炭素数1〜10のアルキル基が好適で
ある1代表的なR1基は炭素数1〜8のアルキル(例え
ば、メチル、エチル、プロピルなど)、炭素数1〜8の
ヒドロキシアルキル(例えば、ヒドロキシメチル、1−
ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒド
ロキシイソプロピルなど)、炭、素数1〜8のハロアル
キル(例えば、フルオロメチル、クロロメチル、1−フ
ルオロエチル、2−フルオロイソプロピル、トリフルオ
ロメチルなど)、J12素数4〜8のジオキソリル(例
えば、2−才キソー4−アルキル(例えば、メチル、エ
チル、プロピル)ジオキソリルなど)などである。
前記ヒドロキシアルキル基中のヒドロキシ基は最終目的
化合物に至るまでに除去できる保護基で保護きれていて
もよい0代表的ヒドロキシ保護基は脱離容易なエステル
形成基[炭素数1〜12のカルボン酸アシル(低級アル
カノイル、アロイルなど)、炭素数2〜10の次酸アシ
ル(低級アルコキシカルボニル、クロロアルコキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、0−ニトロベンジルオキシカルボニル、アリー
ルオキシカルボニル)など]、炭素数2〜8のエーテル
形成基(メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、テ
トラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルなど)、炭
素数3〜18の炭化水素化シリル(トリメチルシリル、
トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジフェニ
ルメチルシリル、ジフェニル第3級ブチルシリル、ジメ
チル第3級ペンチルシリルなど)、炭素数7〜19の活
性アラルキル(トリフェニルメチルなど)などである。
化合物に至るまでに除去できる保護基で保護きれていて
もよい0代表的ヒドロキシ保護基は脱離容易なエステル
形成基[炭素数1〜12のカルボン酸アシル(低級アル
カノイル、アロイルなど)、炭素数2〜10の次酸アシ
ル(低級アルコキシカルボニル、クロロアルコキシカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカル
ボニル、0−ニトロベンジルオキシカルボニル、アリー
ルオキシカルボニル)など]、炭素数2〜8のエーテル
形成基(メトキシメチル、メトキシエトキシメチル、テ
トラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニルなど)、炭
素数3〜18の炭化水素化シリル(トリメチルシリル、
トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジフェニ
ルメチルシリル、ジフェニル第3級ブチルシリル、ジメ
チル第3級ペンチルシリルなど)、炭素数7〜19の活
性アラルキル(トリフェニルメチルなど)などである。
アルキル基または置換アルキル基であるR8基としては
炭素数1〜8のアルキルが好適である。
炭素数1〜8のアルキルが好適である。
代表例には炭素数1〜3のアルキル(例えば、メチル、
エチル、プロピル)、炭素数1〜5のハロアルキル(例
えば、フルオロアルキル、クロロアルキノ呟ブロモアル
キル)、炭素数1〜5のJ[置換アルキル(例えば、シ
アノアルキノLカルバモイルアルキル、カルボキシアル
キル、保護カルボキシアルキル、アルケニル、アルキニ
ルなど)、炭素数1〜5の窒素置換アルキル(例えば、
アミノアルキル、アルカノイルアミノアルキル、アロイ
ルアミノアルキル、ウレイドアルキル、ホルムイミドイ
ルアルキルなど)、炭素数1〜5の酸素置換アルキル(
例えば、ヒドロキシアルキJし、アルカノイルオキシア
ルキル、カルバモイルオキシアルキル、ヒドロキシアル
キルオキシアルキル、アミノアルフキジアルキル、ハロ
アルフキジアルキルなど)、炭素数1〜5の硫黄置換ア
ルキル(例えば、アルキルチオアルキル、アミノアルキ
ルチオアルキル、ヒドロキシアルキルチオアルキル、ハ
ロアルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキ
ル、アミノアルキルスルフィニルアルキル、ヒドロキシ
アルキルスルフィニルアルキル、ハロアルキルスルフィ
ニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アミノア
ルキルスルホニルアルキル、ヒドロキシアルキルスルホ
ニルアルキル、ハロアルキルスルホニルアルキルなど)
などがある、このヒドロキシを持つ基はR1の項に示し
たヒドロキシ保護基を有していてもよい。
エチル、プロピル)、炭素数1〜5のハロアルキル(例
えば、フルオロアルキル、クロロアルキノ呟ブロモアル
キル)、炭素数1〜5のJ[置換アルキル(例えば、シ
アノアルキノLカルバモイルアルキル、カルボキシアル
キル、保護カルボキシアルキル、アルケニル、アルキニ
ルなど)、炭素数1〜5の窒素置換アルキル(例えば、
アミノアルキル、アルカノイルアミノアルキル、アロイ
ルアミノアルキル、ウレイドアルキル、ホルムイミドイ
ルアルキルなど)、炭素数1〜5の酸素置換アルキル(
例えば、ヒドロキシアルキJし、アルカノイルオキシア
ルキル、カルバモイルオキシアルキル、ヒドロキシアル
キルオキシアルキル、アミノアルフキジアルキル、ハロ
アルフキジアルキルなど)、炭素数1〜5の硫黄置換ア
ルキル(例えば、アルキルチオアルキル、アミノアルキ
ルチオアルキル、ヒドロキシアルキルチオアルキル、ハ
ロアルキルチオアルキル、アルキルスルフィニルアルキ
ル、アミノアルキルスルフィニルアルキル、ヒドロキシ
アルキルスルフィニルアルキル、ハロアルキルスルフィ
ニルアルキル、アルキルスルホニルアルキル、アミノア
ルキルスルホニルアルキル、ヒドロキシアルキルスルホ
ニルアルキル、ハロアルキルスルホニルアルキルなど)
などがある、このヒドロキシを持つ基はR1の項に示し
たヒドロキシ保護基を有していてもよい。
アルコキシまたはアリールオキシ基であるR3、R4基
における置換基の代表例はアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、シアノなどである。
における置換基の代表例はアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、シアノなどである。
カルボキシ保護基であるR1基はペニシリン、セファロ
スポリン化学で公知の分子中の他の部分 ゛に
不都合な変化を起こさずに着脱可能な炭素数19までの
反応用カルボキシ保護基、生理学的活性エステル形成基
、塩形成用カルボキシ保護基などである。
スポリン化学で公知の分子中の他の部分 ゛に
不都合な変化を起こさずに着脱可能な炭素数19までの
反応用カルボキシ保護基、生理学的活性エステル形成基
、塩形成用カルボキシ保護基などである。
反応用カルボキシ保護基R″の代表例には、例えば炭素
数1〜8のアルキル(メチノ呟 メトキシメチル、エチ
ル、エトキシメチル、ヨードエチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチJL−,イソブチル、エトキシエチル、メ
チルチオエチル、メタンスルホニルエチル、トリクロロ
エチル、第3級−アシルなど)、炭素数3〜8のアルケ
ニル(プロペニル、アリル、プレニル、ヘキセニル、フ
ェニルプロペニル、ジメチルへキセニルなど)、炭素数
7〜19のアラルキル(ベンジル、メチルベンジル、ジ
メチルベンジル、メトキシベンジj呟エトキシベンジル
、ニトロベンジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル
、フェニルエチル、トリチル、ジ第3級ブチルヒドロキ
シベンジル、フタリジル、フェナシルなど)、炭素数6
〜12のアリール(フェニル、トルイル、ジイソプロピ
ルフェニル、キシリル、トリクロロフェニル、ペンタク
ロロフエニノ呟インダニルなど)、炭素数1〜12のア
ミノ(アセトンオキシム、アセトフェノンオキシム、ア
セトアルドキシム、N−ヒドロキシこはく酸イミド、N
−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステルを構成する
基)、炭素数3〜12の炭化水素化シリル(トリメチル
シリル、ジメチルメトキシシリル、第3級ブチルジメチ
ルシリルなど)、炭素数3〜12の次化水素化スタニル
(トリメチルスタニルなど)、炭素数1〜10のアルカ
ノイル(ホルミル、アセチル、プロピオニル、オクタノ
イルなど)、炭素数1〜12のスルホン酸(メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、ブロモベンゼンスルホン酸など)アシ
ル、ホスホン酸(ジメチルリン酸、ジエチルリン酸、ジ
フェニルリン酸など)アシル、鉱酸(塩酸、硫酸、リン
酸など)アシルなどがある。このカルボキシ保護基は最
終目的物までに脱離させるので、保護の目的を達する限
り、その構造は必ずしも重要ではなく、広範囲な均等基
(アミド、炭酸またはカルボン酸との酸無水物など)も
利用できる。
数1〜8のアルキル(メチノ呟 メトキシメチル、エチ
ル、エトキシメチル、ヨードエチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチJL−,イソブチル、エトキシエチル、メ
チルチオエチル、メタンスルホニルエチル、トリクロロ
エチル、第3級−アシルなど)、炭素数3〜8のアルケ
ニル(プロペニル、アリル、プレニル、ヘキセニル、フ
ェニルプロペニル、ジメチルへキセニルなど)、炭素数
7〜19のアラルキル(ベンジル、メチルベンジル、ジ
メチルベンジル、メトキシベンジj呟エトキシベンジル
、ニトロベンジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル
、フェニルエチル、トリチル、ジ第3級ブチルヒドロキ
シベンジル、フタリジル、フェナシルなど)、炭素数6
〜12のアリール(フェニル、トルイル、ジイソプロピ
ルフェニル、キシリル、トリクロロフェニル、ペンタク
ロロフエニノ呟インダニルなど)、炭素数1〜12のア
ミノ(アセトンオキシム、アセトフェノンオキシム、ア
セトアルドキシム、N−ヒドロキシこはく酸イミド、N
−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステルを構成する
基)、炭素数3〜12の炭化水素化シリル(トリメチル
シリル、ジメチルメトキシシリル、第3級ブチルジメチ
ルシリルなど)、炭素数3〜12の次化水素化スタニル
(トリメチルスタニルなど)、炭素数1〜10のアルカ
ノイル(ホルミル、アセチル、プロピオニル、オクタノ
イルなど)、炭素数1〜12のスルホン酸(メタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トル
エンスルホン酸、ブロモベンゼンスルホン酸など)アシ
ル、ホスホン酸(ジメチルリン酸、ジエチルリン酸、ジ
フェニルリン酸など)アシル、鉱酸(塩酸、硫酸、リン
酸など)アシルなどがある。このカルボキシ保護基は最
終目的物までに脱離させるので、保護の目的を達する限
り、その構造は必ずしも重要ではなく、広範囲な均等基
(アミド、炭酸またはカルボン酸との酸無水物など)も
利用できる。
さらに、カルボキシ保護基R6は生理学的活性エステル
形成基も含む。
形成基も含む。
この代表例には置換基を有していてもよく、炭素数2〜
15の1−酸紫置換アルキル(直鎖、分枝、環状または
部分環状のアルカノイルオキシアルキル(アセトキシメ
チル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシメチル、
ピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキシエチル、シ
クロヘキサンアセトキシエチル、シクロヘキサンカルボ
ニルオキシシクロヘキシルメチルなど)、炭素数3〜1
5のアルフキジカルボニルオキシアルキル(エトキシカ
ルボニルオキシエチル、イソプロポキシカルボニルオキ
シエチル、インプロポキシカルボニルオキシプロビル、
第3級ブトキシカルボニルオキシエチル、イソペンチル
オキシ力ルポニルオキシブロビル、シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシエチル、シクロへキシルメトキシカ
ルボニルオキシエチル、ポルニルオキジ力ルポニルオキ
シイソブロビルなど)、炭素数2〜8のアルコキシアル
キル(メトキシメチル、メトキシエチルなど)、炭素数
4〜8の2−オキサシクロアルキル(テトラヒドロピラ
ニル、テトラヒドロフラニルなど)など)、炭素数8〜
12の置換アラルキル(フェナシル、フタリジルなど)
、炭素数6〜12のアリール(フェニル、キシリル、イ
ンダニルなど)、炭素数2〜12のアルケニル(アリル
、オキソジオキソリルメチルなど)などがある。
15の1−酸紫置換アルキル(直鎖、分枝、環状または
部分環状のアルカノイルオキシアルキル(アセトキシメ
チル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシメチル、
ピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキシエチル、シ
クロヘキサンアセトキシエチル、シクロヘキサンカルボ
ニルオキシシクロヘキシルメチルなど)、炭素数3〜1
5のアルフキジカルボニルオキシアルキル(エトキシカ
ルボニルオキシエチル、イソプロポキシカルボニルオキ
シエチル、インプロポキシカルボニルオキシプロビル、
第3級ブトキシカルボニルオキシエチル、イソペンチル
オキシ力ルポニルオキシブロビル、シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシエチル、シクロへキシルメトキシカ
ルボニルオキシエチル、ポルニルオキジ力ルポニルオキ
シイソブロビルなど)、炭素数2〜8のアルコキシアル
キル(メトキシメチル、メトキシエチルなど)、炭素数
4〜8の2−オキサシクロアルキル(テトラヒドロピラ
ニル、テトラヒドロフラニルなど)など)、炭素数8〜
12の置換アラルキル(フェナシル、フタリジルなど)
、炭素数6〜12のアリール(フェニル、キシリル、イ
ンダニルなど)、炭素数2〜12のアルケニル(アリル
、オキソジオキソリルメチルなど)などがある。
塩形成用カルボキシ保護基R″の代表例には、周期律表
第1〜■属、第2〜4周期に属する軽金属(リチウム、
ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ア
ルミニウムなど)、炭素数1〜12のアルキルアミン(
トリメチルアミン、トリエチルアミン、メチルモルホリ
ンなど)、炭素数4〜9の芳香族塩基(ピリジン、コリ
ジン、ピッリン、キノリン、ジメチルアニリンなど)な
どのアンモニウム塩類がある。
第1〜■属、第2〜4周期に属する軽金属(リチウム、
ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ア
ルミニウムなど)、炭素数1〜12のアルキルアミン(
トリメチルアミン、トリエチルアミン、メチルモルホリ
ンなど)、炭素数4〜9の芳香族塩基(ピリジン、コリ
ジン、ピッリン、キノリン、ジメチルアニリンなど)な
どのアンモニウム塩類がある。
[基の変化]
前記各基のアルキル部分は直鎖、分校または環状のアル
キルである。炭素数1〜12のアルキル基(メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチ
ノ呟 イソブチル、第3級プチル、シクロブチル、シク
ロプロピルメチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、シクロペンチル、シクロプロピルエチル、ヘキシ
ル、シクロヘキシル、シクロペンチルメチル、ヘプチル
、シクロヘプチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキ
シルメチル、オクチル、シクロオクチル、シクロヘキシ
ルエチル、ノニル、ドデシルなど)が代表例である。こ
れらは不飽和結合または後述するような置換基を有して
いてもよい。
キルである。炭素数1〜12のアルキル基(メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチ
ノ呟 イソブチル、第3級プチル、シクロブチル、シク
ロプロピルメチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、シクロペンチル、シクロプロピルエチル、ヘキシ
ル、シクロヘキシル、シクロペンチルメチル、ヘプチル
、シクロヘプチル、シクロペンチルエチル、シクロヘキ
シルメチル、オクチル、シクロオクチル、シクロヘキシ
ルエチル、ノニル、ドデシルなど)が代表例である。こ
れらは不飽和結合または後述するような置換基を有して
いてもよい。
アラルキル部分はアルキル部分とアリール部分の結合し
たものである0炭素数7〜14のアラルキル基(ベンジ
ル、フェネチル、フェニルプロピル、フェニルイソプロ
ピル、ジフェニルメチル、メトキシジフェニルメチル、
ナフチルメチル、フリルメチル、チエニルプロピル、オ
キサシリルメチル、チアゾリルメデル、イミダゾリルメ
チル、トリアゾリルメチル、ピリジルメチル、インドリ
ルメチル、ベンゾイミダゾリルエチル、ベンゾチアゾリ
ルメチル、キノリルメチルなど)が代表例である。これ
らは何れも後述するような置換基を有していてもよい。
たものである0炭素数7〜14のアラルキル基(ベンジ
ル、フェネチル、フェニルプロピル、フェニルイソプロ
ピル、ジフェニルメチル、メトキシジフェニルメチル、
ナフチルメチル、フリルメチル、チエニルプロピル、オ
キサシリルメチル、チアゾリルメデル、イミダゾリルメ
チル、トリアゾリルメチル、ピリジルメチル、インドリ
ルメチル、ベンゾイミダゾリルエチル、ベンゾチアゾリ
ルメチル、キノリルメチルなど)が代表例である。これ
らは何れも後述するような置換基を有していてもよい。
アシル部分は前記のような構造のアシル基である。i素
数14までのアシル基、例えば、カルボン酸アシル(直
鎖、分校または環状のアルカノイル、単環または双環で
ペテロ原子を有しうるアロイル、アラルカッイル、アリ
ールアルケノイルなど)、スルホン酸アシル(アルキル
スルホニル、アリールスルホニルなど)、炭酸アシル(
カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボアラルコキシ
など)、スルホなどが代表例である。これらは何れも後
述するような置換基を有していてもよい。
数14までのアシル基、例えば、カルボン酸アシル(直
鎖、分校または環状のアルカノイル、単環または双環で
ペテロ原子を有しうるアロイル、アラルカッイル、アリ
ールアルケノイルなど)、スルホン酸アシル(アルキル
スルホニル、アリールスルホニルなど)、炭酸アシル(
カルバモイル、カルボアルコキシ、カルボアラルコキシ
など)、スルホなどが代表例である。これらは何れも後
述するような置換基を有していてもよい。
アリール部分は単環または双環で、5〜6員環の炭素環
または異項環のアリール基である。この異項環基は異原
子として酸素、窒素、硫黄を有しうる。炭素数1〜10
のアリール基、例えば異項環のアリール基(フリル、チ
エニル、ピロリル、オキサシリル、チアゾリル、イミダ
ゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾ
リル、チアトリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピ
ラニル、インドリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、
ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラジ
ニル、キノリル、ピリドピリジル基など)、炭素環のア
リール基(フェニル、ナフチル、インデニル、インダニ
ル、テトラリニルなど)が代表例である。これらは何れ
も後述するような置換基を有していてよい。
または異項環のアリール基である。この異項環基は異原
子として酸素、窒素、硫黄を有しうる。炭素数1〜10
のアリール基、例えば異項環のアリール基(フリル、チ
エニル、ピロリル、オキサシリル、チアゾリル、イミダ
ゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾ
リル、チアトリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピ
ラニル、インドリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、
ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾピラジ
ニル、キノリル、ピリドピリジル基など)、炭素環のア
リール基(フェニル、ナフチル、インデニル、インダニ
ル、テトラリニルなど)が代表例である。これらは何れ
も後述するような置換基を有していてよい。
前記6基に結合できる置換基の代表例には次素官能基(
直鎖、分校または環状のアルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アラルキル、アリール、異項環基、カルボン酸ア
シル、カルバモイル、カルボキシ、保護カルボキシ、シ
アノなど):窒素官能基(アミノ、アシルアミノ、グア
ニジル、ウレイド、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ
、イソチオシアノ、イソシアノ、ニトロ、ニトロソなど
);酸素官能基(ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオ
キシ、異項環オキシ、シアナト、オキソ、カルボン酸ア
シルオキシ、スルホン酸アシルオキシ、燐酸アシルオキ
シなど);硫黄官能基(メルカプト、アルキルチオ、ア
ルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルホニル
、異項環チオ、異項環スルホニル、アシルチオ、チオキ
ソ、スルホ、スルファモイルなど);ハロゲン(フッ素
、塩素、臭素、ヨードとプソイドハロゲンなど):シリ
ル基(トリアルキルシリル、ジアルキルアルフキシシリ
ルなど);スタニル基(トリアルキルスタニルなど)な
どを例示できる。
直鎖、分校または環状のアルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アラルキル、アリール、異項環基、カルボン酸ア
シル、カルバモイル、カルボキシ、保護カルボキシ、シ
アノなど):窒素官能基(アミノ、アシルアミノ、グア
ニジル、ウレイド、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ
、イソチオシアノ、イソシアノ、ニトロ、ニトロソなど
);酸素官能基(ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオ
キシ、異項環オキシ、シアナト、オキソ、カルボン酸ア
シルオキシ、スルホン酸アシルオキシ、燐酸アシルオキ
シなど);硫黄官能基(メルカプト、アルキルチオ、ア
ルキルスルホニル、アリールチオ、アリールスルホニル
、異項環チオ、異項環スルホニル、アシルチオ、チオキ
ソ、スルホ、スルファモイルなど);ハロゲン(フッ素
、塩素、臭素、ヨードとプソイドハロゲンなど):シリ
ル基(トリアルキルシリル、ジアルキルアルフキシシリ
ルなど);スタニル基(トリアルキルスタニルなど)な
どを例示できる。
[効果・用途コ
この発明により製造きれる新規化合物2−ハロメチルカ
ルバペネム化合物(N)の近接先行技術はない、2−ハ
ロメチルカルバペネム化合物(Ift)に芳香族塩基、
アミンなどを作用許せればヒト腎臓的酵素等に対して安
定な新抗菌剤である2−置換メチルカルバペネム化合物
(IV)を合成できる。
ルバペネム化合物(N)の近接先行技術はない、2−ハ
ロメチルカルバペネム化合物(Ift)に芳香族塩基、
アミンなどを作用許せればヒト腎臓的酵素等に対して安
定な新抗菌剤である2−置換メチルカルバペネム化合物
(IV)を合成できる。
(式中、R1、R1、Halは前記と同意義、R6は前
記と同意義または対イオンとともに陰電荷、R1は中性
のまたは陽電荷を持っ求核基を示す)2−置換メチルカ
ルバペネム化合物(IV)の代表的R1基には置換また
は非置換チアゾリル、ピリジルなどの第四級アリーリニ
オ基がある。ここに置換基としてはメチル、エチルなど
のアルキル基、アミノメチル、ホルムアミドメチルなど
の置換アルキル基、ジメチレン、トリメチレンなどのア
ルキレン基、ホルミル、アセチル、プロピオニルなどの
アルカノイル基、カルバモイル基、オキサゾリノ呟トリ
アゾリル、オキサシリルなどの複素環基などの炭素置換
基、アミノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどの
アルキルアミノ基、ピペリジル基などの窒素置換基、ヒ
ドロキシ基、メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基な
どの酸素置換基、フルオロ、クロロなどのハロゲン原子
、メチルチオ、エチルチオなどのアルキルチオ基、メタ
ンスルホニルなどのアルキルスルホニル基などの硫黄置
換基などを例示できる。
記と同意義または対イオンとともに陰電荷、R1は中性
のまたは陽電荷を持っ求核基を示す)2−置換メチルカ
ルバペネム化合物(IV)の代表的R1基には置換また
は非置換チアゾリル、ピリジルなどの第四級アリーリニ
オ基がある。ここに置換基としてはメチル、エチルなど
のアルキル基、アミノメチル、ホルムアミドメチルなど
の置換アルキル基、ジメチレン、トリメチレンなどのア
ルキレン基、ホルミル、アセチル、プロピオニルなどの
アルカノイル基、カルバモイル基、オキサゾリノ呟トリ
アゾリル、オキサシリルなどの複素環基などの炭素置換
基、アミノ基、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどの
アルキルアミノ基、ピペリジル基などの窒素置換基、ヒ
ドロキシ基、メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基な
どの酸素置換基、フルオロ、クロロなどのハロゲン原子
、メチルチオ、エチルチオなどのアルキルチオ基、メタ
ンスルホニルなどのアルキルスルホニル基などの硫黄置
換基などを例示できる。
他の代表的R6にはメチル、エチルなどのアルキル基ま
たはカルボキシメチル、カルバモイルメチルなどの置換
アルキル基で四級化されたジメチルアミン、モルホリン
、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、キヌクリジン
、トリエチレンジアミンなどの置換または非置換の脂肪
族または脂環式アミノ基である脂肪族アンモニオ基があ
る。
たはカルボキシメチル、カルバモイルメチルなどの置換
アルキル基で四級化されたジメチルアミン、モルホリン
、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、キヌクリジン
、トリエチレンジアミンなどの置換または非置換の脂肪
族または脂環式アミノ基である脂肪族アンモニオ基があ
る。
別の代表的R1には置換または非置換アミン、テトラゾ
リル、ピロリジル、ピペリジルなどの三級アミノ基があ
る。ここに置換基としてはメチル、エチルなどのアルキ
ル基、アミノ基、ピリジニオなどのアリーリニオ基など
を例示できる。
リル、ピロリジル、ピペリジルなどの三級アミノ基があ
る。ここに置換基としてはメチル、エチルなどのアルキ
ル基、アミノ基、ピリジニオなどのアリーリニオ基など
を例示できる。
この利用法によれば、2−ハロメチルカルバペネム化合
物(II+)に第1級アミン(置換または非置換のアン
モニア、複素環置換アンモニアなど)、第2級アミン(
置換または非置換のピロリジン、ピペリジン、テトラゾ
ールなど)、第3級アミン(置換または非置換のキヌク
リジン、トリアルキルアミン、1−アルキルピペリジン
、1−アルキルピロリジンなど)、複素環化合物(置換
または非置換のチアゾール、ピリジン、キノリンなど)
、複素環チオール(置換または非置換のチアゾリルチオ
ール、トリアシリルチオール、チアジアゾリルチオール
、テトラゾリルチオール、ピリジルチオ−J呟イソキノ
リルチオールなど)またはそれらの反応性誘導体などの
求核試薬を常法により不活性溶媒(ジクロロメタンなど
)中、0°C〜室温で2〜5時間作用させて2−置換メ
チルカルバペネム化合物(mV)を製造する。求核試薬
が第3級アミンまたは芳香族複素環化合物である場合は
対イオンとともにアンモニオまたはアリーリニオ化合物
を生成する。
物(II+)に第1級アミン(置換または非置換のアン
モニア、複素環置換アンモニアなど)、第2級アミン(
置換または非置換のピロリジン、ピペリジン、テトラゾ
ールなど)、第3級アミン(置換または非置換のキヌク
リジン、トリアルキルアミン、1−アルキルピペリジン
、1−アルキルピロリジンなど)、複素環化合物(置換
または非置換のチアゾール、ピリジン、キノリンなど)
、複素環チオール(置換または非置換のチアゾリルチオ
ール、トリアシリルチオール、チアジアゾリルチオール
、テトラゾリルチオール、ピリジルチオ−J呟イソキノ
リルチオールなど)またはそれらの反応性誘導体などの
求核試薬を常法により不活性溶媒(ジクロロメタンなど
)中、0°C〜室温で2〜5時間作用させて2−置換メ
チルカルバペネム化合物(mV)を製造する。求核試薬
が第3級アミンまたは芳香族複素環化合物である場合は
対イオンとともにアンモニオまたはアリーリニオ化合物
を生成する。
[化合物(W)の用途]
遊離化された化合物(IV)は好気性、嫌気性のダラム
陽性菌(ブドー球菌など)、ダラム陰性菌(大腸菌、緑
膿菌など)に抗菌性を示し、医薬、動物薬、殺菌剤など
として利用できる。
陽性菌(ブドー球菌など)、ダラム陰性菌(大腸菌、緑
膿菌など)に抗菌性を示し、医薬、動物薬、殺菌剤など
として利用できる。
この発明はこの抗菌性を利用して化合物(IV)を感受
性細菌と接触許せて該細菌を殺菌ないし静菌させる方法
を提供する。また、この発明は物体内の感受性細菌繁殖
部分または繁殖が予想される部分に化合物(■)の有効
量を含有させて殺菌し、細菌繁殖阻止、細菌繁殖予防、
消毒、腐敗防止などを行なう方法を提供する。さらに、
この発明はヒトや動物の感受性細菌感染症の予防、治療
、感染阻止による成育促進などの方法を提供する0例え
ば、ヒトまたは動物の感受性細菌による感染症(呼吸器
感染症、鼻炎、鼻感染症、蓄膿症、扁桃炎、咽頭炎、気
管支炎、純良、肺胞隔成、尿路感染症、腎孟腎炎、皮膚
炎、潰瘍、膿庖、膿瘍、再感染症、消化器感染症、骨髄
炎、画面症、傷および軟組織感染症、術後感染症、産婦
人科感染症など)に対し化合物(IV)の市効量、例え
ば、日用量0.1〜6g(注射)、0.4〜4客(内服
)、0゜01〜10mg(外用)を投与すれば感受性細
菌感染症を予防または治療できる。
性細菌と接触許せて該細菌を殺菌ないし静菌させる方法
を提供する。また、この発明は物体内の感受性細菌繁殖
部分または繁殖が予想される部分に化合物(■)の有効
量を含有させて殺菌し、細菌繁殖阻止、細菌繁殖予防、
消毒、腐敗防止などを行なう方法を提供する。さらに、
この発明はヒトや動物の感受性細菌感染症の予防、治療
、感染阻止による成育促進などの方法を提供する0例え
ば、ヒトまたは動物の感受性細菌による感染症(呼吸器
感染症、鼻炎、鼻感染症、蓄膿症、扁桃炎、咽頭炎、気
管支炎、純良、肺胞隔成、尿路感染症、腎孟腎炎、皮膚
炎、潰瘍、膿庖、膿瘍、再感染症、消化器感染症、骨髄
炎、画面症、傷および軟組織感染症、術後感染症、産婦
人科感染症など)に対し化合物(IV)の市効量、例え
ば、日用量0.1〜6g(注射)、0.4〜4客(内服
)、0゜01〜10mg(外用)を投与すれば感受性細
菌感染症を予防または治療できる。
また、化合物(mV)は他種抗菌剤の合成原料や細菌感
受性試験用材料としての用途もある。
受性試験用材料としての用途もある。
[化合物(W)の製剤コ
この発明は感受性細菌感染症の予防または治療用の化合
物(IV)の製剤を提供する。遊離酸、ベタインまたは
軽金属塩である化合物(IV)は、要すれば常用の添加
剤、作用増強物質(吸収排泄調節剤、シラスフチン、β
−ラクタメース阻害剤、他種抗菌剤など)などを加えて
、注射用製剤(静脈注射用、筋肉注射用、点滴用、皮下
注射用などにアンプル剤、バイヤル剤、液剤、懸濁剤な
どとし−て)、経口、外用または局所投与用製剤(点耳
剤、点鼻剤、点眼剤、軟膏剤、粉剤、乳剤、スプレー剤
、半割などとして)などとすることができる、この製剤
は化合物(IV)単独または含有率0゜01〜99%の
製剤用添加剤(常用の製剤用添加剤、例えば固体製剤用
には溶解補助剤、結合剤、増量剤、崩壊剤、滑沢剤、f
l!潤剤、液体製剤用には溶剤、乳化剤、懸濁剤ζ両割
には保存剤、吸収促進剤、抗酸化剤、芳香剤、鎮痛剤、
食用色素、安定化剤など)を加えて、各種剤型(液剤、
分散、剤、懸濁剤など)に製剤化した組成物である。こ
の剤型は固体(カプセル剤、ペレット剤、ドライシロッ
プ剤、顆粒剤、凍結乾燥剤、乳剤、粉剤、半割、トロー
チ剤、錠剤など)または液剤(分散剤、エリキシール剤
、懸濁剤、吸入剤、注射剤、軟膏、乳剤、シロップ剤、
液剤など)である、カプセル剤、顆粒剤および錠剤はコ
ーティングしてもよく、単位用量剤とすることもできる
。添加剤は化合物(IV)にも患者にも無害なものを選
択する。代表的な添加剤には例えば固体製剤用には結合
剤(アラビヤゴム、カルボキシメチルセルローズ、ゼラ
チン、葡萄糖、ポリビニルピロリドン、アルギン酸ナト
リウム、ソルビトーノ呟澱粉、シロップ、トラガカント
など)、増量剤(ベントナイト、炭酸カルシウム、燐酸
カルシウム、グリシン、カオリン、乳糖、ポリカルボキ
シメチレン、食塩、ソルビトール、澱粉、しよ糖、タル
クなと)、崩壊剤(寒天、炭酸塩、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、澱粉など)、滑沢剤(ホウ酸、カカオ脂、ステア
リン酸マグネシウム、パラフィン、ポリエチレングリコ
ール、シリカ、安息香酸ナトリウム、ステアリン酸、タ
ルクなど)および湿潤剤(ヒドロキシプロピルセルロー
ズなど);液体製剤用には溶剤(アルコール、緩衝剤、
オレイン酸メチル、ビーナツツ油、ごま油、水など)、
乳化剤(アラビヤゴム、レシチン、モノオレイン酸ソル
ビタンなど)、懸濁剤(ステアリン酸アルミニウム、カ
ルボキシメチルセルローズ、ゼラチン、葡萄糖、水素化
油脂、ヒドロキシメチルセルローズ、メチルセルローズ
、ソルビトール、砂糖、シロップなど)、緩衝剤、分散
剤および溶解補助剤など;そして両者には保存剤(p−
ヒドロキシ安息香酸メチルまたはエチルエステル、ソル
ビン酸など)、吸収促進剤(グリセリンのモノまたはジ
オクタン酸エステル)、抗酸化剤、芳香剤、鎮痛剤、食
用色素、安定化剤などである。これらの製剤は常法によ
って調製できる。
物(IV)の製剤を提供する。遊離酸、ベタインまたは
軽金属塩である化合物(IV)は、要すれば常用の添加
剤、作用増強物質(吸収排泄調節剤、シラスフチン、β
−ラクタメース阻害剤、他種抗菌剤など)などを加えて
、注射用製剤(静脈注射用、筋肉注射用、点滴用、皮下
注射用などにアンプル剤、バイヤル剤、液剤、懸濁剤な
どとし−て)、経口、外用または局所投与用製剤(点耳
剤、点鼻剤、点眼剤、軟膏剤、粉剤、乳剤、スプレー剤
、半割などとして)などとすることができる、この製剤
は化合物(IV)単独または含有率0゜01〜99%の
製剤用添加剤(常用の製剤用添加剤、例えば固体製剤用
には溶解補助剤、結合剤、増量剤、崩壊剤、滑沢剤、f
l!潤剤、液体製剤用には溶剤、乳化剤、懸濁剤ζ両割
には保存剤、吸収促進剤、抗酸化剤、芳香剤、鎮痛剤、
食用色素、安定化剤など)を加えて、各種剤型(液剤、
分散、剤、懸濁剤など)に製剤化した組成物である。こ
の剤型は固体(カプセル剤、ペレット剤、ドライシロッ
プ剤、顆粒剤、凍結乾燥剤、乳剤、粉剤、半割、トロー
チ剤、錠剤など)または液剤(分散剤、エリキシール剤
、懸濁剤、吸入剤、注射剤、軟膏、乳剤、シロップ剤、
液剤など)である、カプセル剤、顆粒剤および錠剤はコ
ーティングしてもよく、単位用量剤とすることもできる
。添加剤は化合物(IV)にも患者にも無害なものを選
択する。代表的な添加剤には例えば固体製剤用には結合
剤(アラビヤゴム、カルボキシメチルセルローズ、ゼラ
チン、葡萄糖、ポリビニルピロリドン、アルギン酸ナト
リウム、ソルビトーノ呟澱粉、シロップ、トラガカント
など)、増量剤(ベントナイト、炭酸カルシウム、燐酸
カルシウム、グリシン、カオリン、乳糖、ポリカルボキ
シメチレン、食塩、ソルビトール、澱粉、しよ糖、タル
クなと)、崩壊剤(寒天、炭酸塩、ラウリル硫酸ナトリ
ウム、澱粉など)、滑沢剤(ホウ酸、カカオ脂、ステア
リン酸マグネシウム、パラフィン、ポリエチレングリコ
ール、シリカ、安息香酸ナトリウム、ステアリン酸、タ
ルクなど)および湿潤剤(ヒドロキシプロピルセルロー
ズなど);液体製剤用には溶剤(アルコール、緩衝剤、
オレイン酸メチル、ビーナツツ油、ごま油、水など)、
乳化剤(アラビヤゴム、レシチン、モノオレイン酸ソル
ビタンなど)、懸濁剤(ステアリン酸アルミニウム、カ
ルボキシメチルセルローズ、ゼラチン、葡萄糖、水素化
油脂、ヒドロキシメチルセルローズ、メチルセルローズ
、ソルビトール、砂糖、シロップなど)、緩衝剤、分散
剤および溶解補助剤など;そして両者には保存剤(p−
ヒドロキシ安息香酸メチルまたはエチルエステル、ソル
ビン酸など)、吸収促進剤(グリセリンのモノまたはジ
オクタン酸エステル)、抗酸化剤、芳香剤、鎮痛剤、食
用色素、安定化剤などである。これらの製剤は常法によ
って調製できる。
(以下余白)
[実施例コ
以下に実施例を示し本発明の詳細な説明する。
実施例生成物の物理定数は一部を表にまとめて記載した
0表中、NMRは200Mcの条件下に測定したものあ
る。
0表中、NMRは200Mcの条件下に測定したものあ
る。
(略 号)
Me■メチル。
Et−エチル。
Bu■ブチル。
Ph謙フェニル。
PMB−p−メトキシベンジル。
Ts■トルエン−p−スルホニル。
寒1」ユ
1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
a)(220mg、 1当量)をジクロロメタン(2m
l)に溶かし、−50℃に冷却下に4−ジメチルアミノ
ピリジン(62mg、1,1当量)とジフェニルリン酸
塩化物(0,1ml、1,05当量)を滴下し同温度で
30分攪拌する。生成する1β−メチル−2−(ジフェ
ノキシホスホリルオキシメチル)−6α−(1−トリエ
チルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−
4−カルボンrlip−メトキシベンジルエステル(2
a:TLCニジリカゲル、酢酸エテル:トルエン=1
: 4.Rf=0.60 )の溶液に塩化リチウム(3
9mg、2当量)を加え、室温として1時間攪拌する0
反応液に冷炭酸水素ナトリウム水(20%溶液1a+1
)を加える。有機層を分離し、0.INN基塩酸冷水で
洗い、減圧濃縮すれば無色油状の1β−メチル−2−ク
ロロメチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエテ
ル)−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(3a)を得る(178mg、
収率78%)。
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
a)(220mg、 1当量)をジクロロメタン(2m
l)に溶かし、−50℃に冷却下に4−ジメチルアミノ
ピリジン(62mg、1,1当量)とジフェニルリン酸
塩化物(0,1ml、1,05当量)を滴下し同温度で
30分攪拌する。生成する1β−メチル−2−(ジフェ
ノキシホスホリルオキシメチル)−6α−(1−トリエ
チルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−
4−カルボンrlip−メトキシベンジルエステル(2
a:TLCニジリカゲル、酢酸エテル:トルエン=1
: 4.Rf=0.60 )の溶液に塩化リチウム(3
9mg、2当量)を加え、室温として1時間攪拌する0
反応液に冷炭酸水素ナトリウム水(20%溶液1a+1
)を加える。有機層を分離し、0.INN基塩酸冷水で
洗い、減圧濃縮すれば無色油状の1β−メチル−2−ク
ロロメチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエテ
ル)−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(3a)を得る(178mg、
収率78%)。
NMR; S (CDCIn) ppm: 0.5
4〜0.65(n、 6H)、 0.90−1.0
1(m、 9H)、 1.02(d、 J=7.
2Hz、 3H)、 1.22(d。
4〜0.65(n、 6H)、 0.90−1.0
1(m、 9H)、 1.02(d、 J=7.
2Hz、 3H)、 1.22(d。
J=6.4Hz、 3Hン、 2.71〜2.
82(m、 IH)、 2.85〜3.05(
m。
82(m、 IH)、 2.85〜3.05(
m。
IH)、 3.80(s、 38)、 4.20
〜4.42(m、 2H)、 5.15゜5.40
(ABq、 、C14Hz、 2H)、 5.2
3(s、 2H)、 6.87゜7.39(AJ*
Q、J=6.8Hz、 4H)。
〜4.42(m、 2H)、 5.15゜5.40
(ABq、 、C14Hz、 2H)、 5.2
3(s、 2H)、 6.87゜7.39(AJ*
Q、J=6.8Hz、 4H)。
IRニジ(CHCIs)cm−’ 2950.177
0.1620゜K履■1 1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−t
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1−カルバー
2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テル(1b)(136mg、 1当量)をジクロロメ
タン(1ml)に溶かし、−50℃に冷却する。4−ジ
メチルアミノピリジン(40mg、1.1当量)を加え
てからジフェニルリン酸クロリド(0,063m1.1
.05当量)を滴下し、同温度で30分攪拌する0反応
終了後冷戻酸水素ナトリウム水(20%溶液、1m1)
を加え有機層を分離して0.INN基塩酸び冷水で順次
洗浄後、溶媒を減圧除去すれば淡黄色油状の1β−メチ
ル−2=(ジフェノキシホスホリルオキシメチル)−6
α−(1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−
1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステル(2b)を得る(190mg、収率9
2%)。
0.1620゜K履■1 1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−t
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−1−カルバー
2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テル(1b)(136mg、 1当量)をジクロロメ
タン(1ml)に溶かし、−50℃に冷却する。4−ジ
メチルアミノピリジン(40mg、1.1当量)を加え
てからジフェニルリン酸クロリド(0,063m1.1
.05当量)を滴下し、同温度で30分攪拌する0反応
終了後冷戻酸水素ナトリウム水(20%溶液、1m1)
を加え有機層を分離して0.INN基塩酸び冷水で順次
洗浄後、溶媒を減圧除去すれば淡黄色油状の1β−メチ
ル−2=(ジフェノキシホスホリルオキシメチル)−6
α−(1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−
1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステル(2b)を得る(190mg、収率9
2%)。
NMR: δ(CDCIs) I)pm’ 0.02(
s、 6H)、 0.89(s。
s、 6H)、 0.89(s。
9H)、 1.18(d、 J=7.2Hz、 3H)
、 130(J=6.5Hz。
、 130(J=6.5Hz。
3H)、 3.05〜3.30(m、 2H)、 4.
00〜4.32(m、 2H)。
00〜4.32(m、 2H)。
4.79.5.10(ABq、 J=14.2Hz、
28)、 5.18(m、 21)。
28)、 5.18(m、 21)。
6.86.7.38(AJ、q、 J=6.8Hz、
4H)、 6.90〜7.50(m。
4H)、 6.90〜7.50(m。
101)。
IR’l/ (CHCIs) am−’: 2900.
1770.1700゜(以下余白) 大1diユ 実施例1または4と同条件下、1β−メチル−2=ヒド
ロキシメチル−6α−< 1−トリエチルシリルオキシ
エチル)−1−カルバ−2−ペネム−4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステル(1m>にジクロロメタン
中、−50℃で4−ジメチルアミノピリジン(I1当量
)とジフェニルリン酸クロリド(I05当量)を30分
反応きせれば1β−メチル−2−(ジフェノキシホスホ
リルオキシメチル)−6α−(ニートリエチルシリルオ
キシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(2a)の溶液を得る
。
1770.1700゜(以下余白) 大1diユ 実施例1または4と同条件下、1β−メチル−2=ヒド
ロキシメチル−6α−< 1−トリエチルシリルオキシ
エチル)−1−カルバ−2−ペネム−4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステル(1m>にジクロロメタン
中、−50℃で4−ジメチルアミノピリジン(I1当量
)とジフェニルリン酸クロリド(I05当量)を30分
反応きせれば1β−メチル−2−(ジフェノキシホスホ
リルオキシメチル)−6α−(ニートリエチルシリルオ
キシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(2a)の溶液を得る
。
この溶液に臭化ナトリウムのアセトニトリル溶液を滴下
、0°Cで1時間攪拌する6反応液を前実施例同様に処
理すれば1β−メチル−2−プロモメチルー6α−(1
−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−
ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
(3b)を41゜ TLCニジリカゲル、酢酸エチル:トルエン=1 :
4.Rr=0.63゜ 1星り1 1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
m>(220mg、 1当量)をジクロロメタン(1m
l)に溶かし一50℃に冷却する。4−ジメチルアミノ
ピリジン(62mg、1.1当量)を加えてからジフェ
ニルリン酸クロリド(0,1ml、1.05当量)を滴
下し、同温度で30分攪拌する。生成する1β−メチル
−2−(ジフェノキシホスホリルオキシメチル)−6α
−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルパ
ー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステル: TLC ニジリカゲル、酢酸エチル:トルエ
ン=1:4:Rf’1.6(3)(7)溶液ニヨウ化ナ
トリウム(139mg,2当量)のアセトニトリル1m
l溶液を滴下し0°Cで1時間攪拌する.原料(1a:
R f’=0.2 7 )ノ消失と目的物( 3 c
: R f’=o、64)の生成をTLC(シリカゲル
、トルエン:酢酸エチル=4 : 1 ’)で確認して
から、反応液を酢酸エチルでうすめ、冷炭酸水素ナトリ
ウム水(20%溶液1ml)を加える.有機層を分取し
て0、IN冷塩酸及び冷水で洗い、減圧濃縮すれば褐色
油状の1β−メチル−2−ヨードメチル−6α−(1−
トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−ペ
ネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
3c)を得る(187mg,収率69%)。
、0°Cで1時間攪拌する6反応液を前実施例同様に処
理すれば1β−メチル−2−プロモメチルー6α−(1
−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−
ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
(3b)を41゜ TLCニジリカゲル、酢酸エチル:トルエン=1 :
4.Rr=0.63゜ 1星り1 1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
m>(220mg、 1当量)をジクロロメタン(1m
l)に溶かし一50℃に冷却する。4−ジメチルアミノ
ピリジン(62mg、1.1当量)を加えてからジフェ
ニルリン酸クロリド(0,1ml、1.05当量)を滴
下し、同温度で30分攪拌する。生成する1β−メチル
−2−(ジフェノキシホスホリルオキシメチル)−6α
−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルパ
ー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステル: TLC ニジリカゲル、酢酸エチル:トルエ
ン=1:4:Rf’1.6(3)(7)溶液ニヨウ化ナ
トリウム(139mg,2当量)のアセトニトリル1m
l溶液を滴下し0°Cで1時間攪拌する.原料(1a:
R f’=0.2 7 )ノ消失と目的物( 3 c
: R f’=o、64)の生成をTLC(シリカゲル
、トルエン:酢酸エチル=4 : 1 ’)で確認して
から、反応液を酢酸エチルでうすめ、冷炭酸水素ナトリ
ウム水(20%溶液1ml)を加える.有機層を分取し
て0、IN冷塩酸及び冷水で洗い、減圧濃縮すれば褐色
油状の1β−メチル−2−ヨードメチル−6α−(1−
トリエチルシリルオキシエチル)−1−カルパー2−ペ
ネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
3c)を得る(187mg,収率69%)。
NMR :δ(CDC1a) ppm’ 0.54〜0
.66(m. 6T()、 0.88−0.98(m,
9H)、 1.17(d, J=7.2Hz, 3H
)、 1.22(d。
.66(m. 6T()、 0.88−0.98(m,
9H)、 1.17(d, J=7.2Hz, 3H
)、 1.22(d。
に6、4Hz. 3H)、 2、80〜2.91(
m, IH)、 3.15〜3、30(m。
m, IH)、 3.15〜3、30(m。
18)、 3.80(s. 3H)、 4.1(
1−4.35(a+, LH)、 5.18。
1−4.35(a+, LH)、 5.18。
5、45(ABq. J:14Hz. 28)、
5.22(s, 28)、 6.88。
5.22(s, 28)、 6.88。
7、40(AJ*q. J=6.8Hz. 4H)
。
。
IR’l/ (CHCIs)cm−’ 2950,1
770.1605。
770.1605。
火mm旦
前記方法により1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−
6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カ
ルパー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジ
ルエステル(1 a)(5.1 0 g,1当量)、4
−ジメチルアミノピリジン(1.51’g。
6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カ
ルパー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジ
ルエステル(1 a)(5.1 0 g,1当量)、4
−ジメチルアミノピリジン(1.51’g。
1、15当量)、ジフェニルリン酸クロリド(2。
26m1、1.02当量)、ヨウ化ナトリウム(2。
41g、1.5当量)を用いて1β−メチル−2−ヨー
ドメチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル
)−1−カルパー2−ペネム−4−カルレボ211mp
−メトキシベンジルエステル(3C)を合成した。
ドメチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル
)−1−カルパー2−ペネム−4−カルレボ211mp
−メトキシベンジルエステル(3C)を合成した。
生成物分離前の反応液に0°Cでピリジン10mlを加
え室温で2時間攪拌する.反応液を酢酸エチル200m
lで希め、水洗する.減圧濃縮、得られる残渣をエーテ
ルで洗えば粉末状の1β−メチル−2−ピリジニオメチ
ル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
−カルパー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル・ヨウ化物(4a)を得る( 5.7
6 g,収率81%)。
え室温で2時間攪拌する.反応液を酢酸エチル200m
lで希め、水洗する.減圧濃縮、得られる残渣をエーテ
ルで洗えば粉末状の1β−メチル−2−ピリジニオメチ
ル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
−カルパー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル・ヨウ化物(4a)を得る( 5.7
6 g,収率81%)。
NMR : δ(CDC1n) ppm: 0.54〜
0.65(m. 6H)、 0.87〜0、99(m.
9H)、 1.20(d. J=7.2Hz. 3H
)、 1.25(d。
0.65(m. 6H)、 0.87〜0、99(m.
9H)、 1.20(d. J=7.2Hz. 3H
)、 1.25(d。
J:6.4Hz. 3H)、 3.25〜3.48(m
. 2H)、 3.80(s. 3H)。
. 2H)、 3.80(s. 3H)。
4、18〜4.32(m. IH)、 4、45(dd
. J:10Hz. J=3.0Hz。
. J:10Hz. J=3.0Hz。
IH)、 5.22(s, 2H)、 5.70. 6
.00(ABq. J=14.4Hz。
.00(ABq. J=14.4Hz。
2H)、 6.90. 7.39(AJ*q、
4H)、 7.30−9.10(m、 5B)
IR:l/ (CHCl、) am−’: 2950.
1780. 1720. 1620゜この(4a)(
4,0g、1当量)をジクロロメタン(10ml)−ア
ニソール(5ml)の混合溶媒に溶かし一40℃に冷却
する。塩化アルミニウム(2,7g、3当量)を加え同
温度で2時間攪拌する。反応終了後炭酸水素ナトリウム
(2,5g、4.5当量)の水溶液(20ml)を加え
、水冷下10分攪拌する。反応液を口過後水層をジクロ
ロメタンで洗浄後、合成高分子吸着剤柱で分離し凍結乾
燥すれば白色粉末状の1β−メチル−2−ピリジニオメ
チル−6α−(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバ−
2−ペネム−4−カルボキシレート(5a)を得る(8
60mg、収率47%)。
4H)、 7.30−9.10(m、 5B)
IR:l/ (CHCl、) am−’: 2950.
1780. 1720. 1620゜この(4a)(
4,0g、1当量)をジクロロメタン(10ml)−ア
ニソール(5ml)の混合溶媒に溶かし一40℃に冷却
する。塩化アルミニウム(2,7g、3当量)を加え同
温度で2時間攪拌する。反応終了後炭酸水素ナトリウム
(2,5g、4.5当量)の水溶液(20ml)を加え
、水冷下10分攪拌する。反応液を口過後水層をジクロ
ロメタンで洗浄後、合成高分子吸着剤柱で分離し凍結乾
燥すれば白色粉末状の1β−メチル−2−ピリジニオメ
チル−6α−(1−ヒドロキシエチル)−1−カルバ−
2−ペネム−4−カルボキシレート(5a)を得る(8
60mg、収率47%)。
NMR’ 8 (DtO> 1)りnu 0890(
d、 J=7.4Hz、 31)。
d、 J=7.4Hz、 31)。
1.06(d、 J=6.4Hz、 38)、 2.7
5〜2.88(m、 18)、 3.31(dd、 、
C6,(3)Iz、 J=3.0Hz、 LH)、 3
.99(dd、 J=8.6Hz、 J=2.8Hz
、 IHン、 4、Do〜4.lO(m、
IH)、 5.20゜5.85(ABq、 、CI
4.6Hz、 2M)、 7.86〜8.74(m、
5H)。
5〜2.88(m、 18)、 3.31(dd、 、
C6,(3)Iz、 J=3.0Hz、 LH)、 3
.99(dd、 J=8.6Hz、 J=2.8Hz
、 IHン、 4、Do〜4.lO(m、
IH)、 5.20゜5.85(ABq、 、CI
4.6Hz、 2M)、 7.86〜8.74(m、
5H)。
火】di互
1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
a)(476mg、 1当量)をジクロロメタン(2m
l)に溶かし一50℃に冷却する。4−ジメチルアミノ
ピリジン(14lug、 1.15当量)をカロえて
からジフェニルリン酸クロリド(211μm、1.02
当量)を滴下し、同温度で30分攪拌する。生成する1
β−メチル−2−(ジフェノキシホスホリル)オキシメ
チル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル ネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
2a:TLCニジリカゲル、酢酪エチル:トルエフ=l
: 4 : R f’=0.6 0 )ノ溶液にヨウ
化ナトリウム( 2 2 5mg, 15当量)のアセ
トニトリル2ml溶液を滴下し0℃で1時間攪拌する。
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
a)(476mg、 1当量)をジクロロメタン(2m
l)に溶かし一50℃に冷却する。4−ジメチルアミノ
ピリジン(14lug、 1.15当量)をカロえて
からジフェニルリン酸クロリド(211μm、1.02
当量)を滴下し、同温度で30分攪拌する。生成する1
β−メチル−2−(ジフェノキシホスホリル)オキシメ
チル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル ネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
2a:TLCニジリカゲル、酢酪エチル:トルエフ=l
: 4 : R f’=0.6 0 )ノ溶液にヨウ
化ナトリウム( 2 2 5mg, 15当量)のアセ
トニトリル2ml溶液を滴下し0℃で1時間攪拌する。
生成する1β−メチル−2−ヨートメナル−6α−(
1−トリエチルシリルオキシエチルバ−2−ペネム−4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(3c)の
溶液に1−メチルピペリジン(365μm、3当量)を
加え、室温で1.5時間かきまぜる.反応液を酢酸エチ
ル10nlでうすめ、水洗後、減圧濃縮する.残渣をエ
ーテルで洗えば1β−メチル−2−(1−メチルビペリ
ジニオ−1−イル)メチル−6α−(1−トリエチルシ
リルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル(4b)の粉末
を得る(534mg,収率ニア8%)。
1−トリエチルシリルオキシエチルバ−2−ペネム−4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(3c)の
溶液に1−メチルピペリジン(365μm、3当量)を
加え、室温で1.5時間かきまぜる.反応液を酢酸エチ
ル10nlでうすめ、水洗後、減圧濃縮する.残渣をエ
ーテルで洗えば1β−メチル−2−(1−メチルビペリ
ジニオ−1−イル)メチル−6α−(1−トリエチルシ
リルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル(4b)の粉末
を得る(534mg,収率ニア8%)。
NMR : ε(CDCIs) ppm: 0.53〜
0.65(ff+, 61)、 0.90−0.98<
m. 98)、 1.22(d, J=6.4H
z, 38)、 1.36(d。
0.65(ff+, 61)、 0.90−0.98<
m. 98)、 1.22(d, J=6.4H
z, 38)、 1.36(d。
J=7.2Hz. 3H)、 1.5(1〜2.0
5(Ill. 6H)、 3.25〜3.40(m
。
5(Ill. 6H)、 3.25〜3.40(m
。
28)、 3.2!r3.40(m. 2H)、
3.28(s. 3H)、 3.35〜3.6(
m, 4H)、 3.80(s, 31)、
4.20〜4.33(m. 18)、 4.45(
dd, J=10Hz. J:3Hz. IH)、
4.72 & 4.97(ABq. J=14Hz
, 2H)、 6.90 & 7.40(A
Jzq, J=8.6Hz, 4H)−IR:
l/(CHCl.) Cm−’F 2940.
1780.1710。
3.28(s. 3H)、 3.35〜3.6(
m, 4H)、 3.80(s, 31)、
4.20〜4.33(m. 18)、 4.45(
dd, J=10Hz. J:3Hz. IH)、
4.72 & 4.97(ABq. J=14Hz
, 2H)、 6.90 & 7.40(A
Jzq, J=8.6Hz, 4H)−IR:
l/(CHCl.) Cm−’F 2940.
1780.1710。
1610。
1β−メチル−2−(1−メチルビペリジニオ−1−イ
ル)メチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチ
ル)−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(4 b)( 5 2 0mg
, 1当量)をジクロロメタン(2ml)−アニソー
ル(1ml)の混液中(−40℃)、塩化アルミニウム
(304mg、3当量)と3時間反応きせた後、度酸水
素ナトリウム(287mg、4.5当量)で処理後、合
成高分子吸着剤柱で分離し凍結乾燥すれば白色粉末状の
1β−メチル−2−(1−メチルビペリジニオ−1−イ
ル)メチル−6α−(1−ヒドロキシエチル)−1−カ
ルバー2−ペネム−4−カルポキシレート(5b・第■
表、化合物4)を得る(125a+g、収率51%)。
ル)メチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチ
ル)−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(4 b)( 5 2 0mg
, 1当量)をジクロロメタン(2ml)−アニソー
ル(1ml)の混液中(−40℃)、塩化アルミニウム
(304mg、3当量)と3時間反応きせた後、度酸水
素ナトリウム(287mg、4.5当量)で処理後、合
成高分子吸着剤柱で分離し凍結乾燥すれば白色粉末状の
1β−メチル−2−(1−メチルビペリジニオ−1−イ
ル)メチル−6α−(1−ヒドロキシエチル)−1−カ
ルバー2−ペネム−4−カルポキシレート(5b・第■
表、化合物4)を得る(125a+g、収率51%)。
犬轟堡1
1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p〜メトキシベンジルエステル(1
a)(445rng、 1当量)をジクロロメタン(
2ml)に溶かし一50℃に冷却する。4−ジメチルア
ミノピリジン(131mg、 1..15当量)を加
えてからジフェニルリン酸クロリド(198μm、1.
05当量)を滴下し、同温度で30分攪拌する。生成す
る1β−メチル−2−(ジフェノキシホスホリル)オキ
シメチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル ネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
2a:TLCHシリカゲル、酢酸エチル:トルエン=1
: 4 : R r=0.6 0 )(7)溶液ニヨ
ウ化ナトリウム(210og、1.5当量)のアセトニ
トリル2ml溶液を滴下し0℃で1時間攪拌する。
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p〜メトキシベンジルエステル(1
a)(445rng、 1当量)をジクロロメタン(
2ml)に溶かし一50℃に冷却する。4−ジメチルア
ミノピリジン(131mg、 1..15当量)を加
えてからジフェニルリン酸クロリド(198μm、1.
05当量)を滴下し、同温度で30分攪拌する。生成す
る1β−メチル−2−(ジフェノキシホスホリル)オキ
シメチル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル ネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
2a:TLCHシリカゲル、酢酸エチル:トルエン=1
: 4 : R r=0.6 0 )(7)溶液ニヨ
ウ化ナトリウム(210og、1.5当量)のアセトニ
トリル2ml溶液を滴下し0℃で1時間攪拌する。
生成する1β−メチル−2−ヨードメチル−6α−(1
−トリエチルシリルオキシエチル バ−2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル(3c)の溶液にキヌクリジン(312mg、
3当量)を加え、室温で2時間かきまぜる。
−トリエチルシリルオキシエチル バ−2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル(3c)の溶液にキヌクリジン(312mg、
3当量)を加え、室温で2時間かきまぜる。
反応液を酢酸エチル10mlでうすめ、水洗後、減圧濃
縮する.残渣をエーテルで洗えば1β−メチル−2−(
キヌクリジニオー1ーイル)メチル−6α−( 1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(4
c)の粉末を得る(541n+g,収率=83%)。
縮する.残渣をエーテルで洗えば1β−メチル−2−(
キヌクリジニオー1ーイル)メチル−6α−( 1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(4
c)の粉末を得る(541n+g,収率=83%)。
NMR : δ(CDCIs) ppm: 0.53
〜0.65(m. 6H)、0.90〜0.98<m
. 98)、 1.21(d, J=6.2Hz
. 3H)、 1.33(d。
〜0.65(m. 6H)、0.90〜0.98<m
. 98)、 1.21(d, J=6.2Hz
. 3H)、 1.33(d。
J=7.2Hz, 3H)、 1.97〜2.22
(m. 6H)、 3.28−3.35(m。
(m. 6H)、 3.28−3.35(m。
1B)、 3.45〜3.36(m, IH)、
3.67〜3、80(+n, 6H)。
3.67〜3、80(+n, 6H)。
3、81(s. 3H)、 4.20〜4.35(
m. IH)、 4.44(dd. J=10H
z, J=3Hz. IH)、 4.50 &
4.73(ABq. J=14Hz。
m. IH)、 4.44(dd. J=10H
z, J=3Hz. IH)、 4.50 &
4.73(ABq. J=14Hz。
2H)、 5.24(s, 2H)、 6.90. 7
.41(AJ*q. J=8.6Hz。
.41(AJ*q. J=8.6Hz。
4H)。
IR: L/(C)IcI,) cm−” 294
0. 1780. 1705。
0. 1780. 1705。
1605。
1β−メチル−2−(キヌクリジニオー1ーイル)メチ
ル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
−カルバ−2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(4 c )( 3 9 0mg。
ル−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
−カルバ−2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(4 c )( 3 9 0mg。
1当量)をジクロロメタン(2+nl)−アニソール(
lnl)の混液に溶かし、−40°Cに冷却し、塩化ア
ルミニウム(224mg,3当量)を加え、同温で2時
間攪拌する.反応後戻酸水素ナトリウム(221mg、
4.5当量)の水溶液(10ml)を加え、水冷下10
分攪拌する.反応液を口過後水層をジクロロメタンで洗
浄後、合成高分子吸着剤柱で分離し凍結乾燥すれば白色
粉末状の1β−メチル−2−(キヌクリジニオー1ーイ
ル)メチル−6α−(1−ヒドロキシエチル)−1−カ
ルバ−2−ペネム−4−カルボキシレート(5c・第■
表、化合物5)を得る(94mg、収率48%)。
lnl)の混液に溶かし、−40°Cに冷却し、塩化ア
ルミニウム(224mg,3当量)を加え、同温で2時
間攪拌する.反応後戻酸水素ナトリウム(221mg、
4.5当量)の水溶液(10ml)を加え、水冷下10
分攪拌する.反応液を口過後水層をジクロロメタンで洗
浄後、合成高分子吸着剤柱で分離し凍結乾燥すれば白色
粉末状の1β−メチル−2−(キヌクリジニオー1ーイ
ル)メチル−6α−(1−ヒドロキシエチル)−1−カ
ルバ−2−ペネム−4−カルボキシレート(5c・第■
表、化合物5)を得る(94mg、収率48%)。
夾亙■1
1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
a)(I04g、2.18ミリモル)から合成した粗製
の1β−メチル−2−ヨードメチル−6α−(1−)−
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ベネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(3
C)のジクロロメタン17+nl溶液に水冷下、ピペリ
ジン(660a+1.3当量)を加え、1時間かきまぜ
る0反応液を前記同様に処理(酢酸エチルで抽出)し、
シリカゲルクロマト(トルエン:酢酸エチル=1:1)
で精製すれば1β−メチル−2−(ピペリジン−1−イ
ル)メチル−6α−(l−トリエチルシリルオキシエチ
ル)−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(4d)の粉末を得る(960
mg。
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
a)(I04g、2.18ミリモル)から合成した粗製
の1β−メチル−2−ヨードメチル−6α−(1−)−
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ベネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(3
C)のジクロロメタン17+nl溶液に水冷下、ピペリ
ジン(660a+1.3当量)を加え、1時間かきまぜ
る0反応液を前記同様に処理(酢酸エチルで抽出)し、
シリカゲルクロマト(トルエン:酢酸エチル=1:1)
で精製すれば1β−メチル−2−(ピペリジン−1−イ
ル)メチル−6α−(l−トリエチルシリルオキシエチ
ル)−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(4d)の粉末を得る(960
mg。
収率:81%)。
NMR: δ(CDCIs) ppm: 0.63(q
、 J−6,6)1z、 6H)。
、 J−6,6)1z、 6H)。
0.98(t、 J=7.4Hz、 9H)、 1.1
8(d、 J=7.4Hz、 3H)。
8(d、 J=7.4Hz、 3H)。
1.30(d、 J=6.2Hz、 3H)、 1.3
〜1.8(m、 6H)、 2.2〜2.5(m、 4
H)、 3、O8& 3.76(ABq、 J:14.
6Hz、 2H)。
〜1.8(m、 6H)、 2.2〜2.5(m、 4
H)、 3、O8& 3.76(ABq、 J:14.
6Hz、 2H)。
3.22(dd、 J=3.0Hz、 J二6.2
Hz、 IH)、 3.2〜3.4(m。
Hz、 IH)、 3.2〜3.4(m。
4B)、 3.84(s、 3B)、 4.1〜
4.2(rn、 LH)、 4.2〜4.4(m。
4.2(rn、 LH)、 4.2〜4.4(m。
11)、 5.20 & 5.28(ABq、 J=1
2.8)1z、 28)、 6.92 &7.43(A
=B!Q、 J=8.8Hz、 4H)。
2.8)1z、 28)、 6.92 &7.43(A
=B!Q、 J=8.8Hz、 4H)。
1β−メチル−2−(ピペリジン−1−イル)メチル−
6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カ
ルバー2−ベネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジ
ルエステル(4d)(815mg、1.5ミリモル)ヲ
ジクロロメタン(20ml)−二トロメタン(2ml)
−アニソール(4ml)混液中(−40°C)、塩化ア
ルミニウム(Ig、15当量)と炭酸水素ナトリウム(
287mg、4.5当量)で脱保護した後、反応液を実
施例8と同様に処理すれば1β−メチル−2−(ピペリ
ジン−1−イル)メチル−6α−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−カルバ−2−ベネム−4−カルボン酸ナトリ
ウム塩(5d・第1表、化合物5)の白色粉末を得る(
171mg、収率34%)。
6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1−カ
ルバー2−ベネム−4−カルボン酸p−メトキシベンジ
ルエステル(4d)(815mg、1.5ミリモル)ヲ
ジクロロメタン(20ml)−二トロメタン(2ml)
−アニソール(4ml)混液中(−40°C)、塩化ア
ルミニウム(Ig、15当量)と炭酸水素ナトリウム(
287mg、4.5当量)で脱保護した後、反応液を実
施例8と同様に処理すれば1β−メチル−2−(ピペリ
ジン−1−イル)メチル−6α−(1−ヒドロキシエチ
ル)−1−カルバ−2−ベネム−4−カルボン酸ナトリ
ウム塩(5d・第1表、化合物5)の白色粉末を得る(
171mg、収率34%)。
K豊萱1
実施例5〜8の反応と同条件下、2−ハロメチル−1−
カルバー2−ペネム化合物(3a〜3c)を対応する求
核性化合物と反応許せれば第1〜■表記載の化合物を合
成できる。
カルバー2−ペネム化合物(3a〜3c)を対応する求
核性化合物と反応許せれば第1〜■表記載の化合物を合
成できる。
裏蓋型ユニ
1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−6α−(1〜ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ベネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
m)(113mg、 0.23ミリモル)から製造した
1β−メチル−2−(ジフェノキシホスホリルオキシメ
チル)−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)
−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキ
シベンジルエステル(2a)のジクロロメタン溶液に一
30℃で塩素イオン発生剤として塩化トリメチルシリル
(0,033m1.1゜1当量以上)を加え1時間攪拌
する0反応液を冷炭酸水素ナトリウム水に注ぐ、有機層
を分取し、食塩水で洗浄後減圧留去すれば1β−メチル
−2−クロロメチル−6α−(1−トリエチルシリルオ
キシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(3a)の油状残渣(
IRll 820cm−′) 47rngC収率約40
%)を得る。
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバ−2−ベネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1
m)(113mg、 0.23ミリモル)から製造した
1β−メチル−2−(ジフェノキシホスホリルオキシメ
チル)−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)
−1−カルバー2−ペネム−4−カルボン酸p−メトキ
シベンジルエステル(2a)のジクロロメタン溶液に一
30℃で塩素イオン発生剤として塩化トリメチルシリル
(0,033m1.1゜1当量以上)を加え1時間攪拌
する0反応液を冷炭酸水素ナトリウム水に注ぐ、有機層
を分取し、食塩水で洗浄後減圧留去すれば1β−メチル
−2−クロロメチル−6α−(1−トリエチルシリルオ
キシエチル)−1−カルバ−2−ペネム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(3a)の油状残渣(
IRll 820cm−′) 47rngC収率約40
%)を得る。
この1β−メチル−2−クロロメチル−6α−(1−ト
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(3
a)の反応液に一20℃でピリジンチオール(40ff
l私 1.5当量)、アセトニトリル(1ml)とトリ
エチルアミン(48ml、1.5当量)を加え1時間攪
拌すれば1β−メチル−2−(4−ピリジルチオメチル
)−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル ボン酸p−メトキシベンジルエステル(5e)94mg
(収率72%)を得る。
リエチルシリルオキシエチル)−1−カルバー2−ペネ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(3
a)の反応液に一20℃でピリジンチオール(40ff
l私 1.5当量)、アセトニトリル(1ml)とトリ
エチルアミン(48ml、1.5当量)を加え1時間攪
拌すれば1β−メチル−2−(4−ピリジルチオメチル
)−6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル ボン酸p−メトキシベンジルエステル(5e)94mg
(収率72%)を得る。
NMR: S (CDC1,> ppm: 0.52〜
0.68(m、 6H)、 0.85−1.00(m、
9H)、 1.15(d、 J=8.7Hz、 3H
)、 1.23(d。
0.68(m、 6H)、 0.85−1.00(m、
9H)、 1.15(d、 J=8.7Hz、 3H
)、 1.23(d。
J=6Hz、 3H)、 3.18(dd、 、C6,
OHz、 J:2.2Hz、 LH)。
OHz、 J:2.2Hz、 LH)。
3.09〜3.30(m、 IH)、 3.49.4.
91(ABq、 J=14.4Hz。
91(ABq、 J=14.4Hz。
2H)、 3.78(s、 3B>、 4.09(dd
、 J=13Hz、 J:2.2Hz。
、 J=13Hz、 J:2.2Hz。
IH)、 4.1〜4.3(m、 IH)、 5.21
(s、 2H)、 6.85.7.30(AsBtq、
J=9Hz、 4H)、 7.06.8.30(AJ、
q、 J=6Hz。
(s、 2H)、 6.85.7.30(AsBtq、
J=9Hz、 4H)、 7.06.8.30(AJ、
q、 J=6Hz。
4H)。
[実験例コ
ア(文献法トルエンスルホニル化)
1β−メチル−2−ヒドロキシメチルカルバペネム化合
物(1)の2位メチロール基を官能化するため特開昭6
1−151191号実施例4(この実施例の生成物■と
後続実施例で製造した誘導体の物理定数は記載がない)
によるトルエンスルホニル化法を実験例1のように追試
したが、生成物はβ−ラクタム環が開裂した劇化合物(
3)であった。
物(1)の2位メチロール基を官能化するため特開昭6
1−151191号実施例4(この実施例の生成物■と
後続実施例で製造した誘導体の物理定数は記載がない)
によるトルエンスルホニル化法を実験例1のように追試
したが、生成物はβ−ラクタム環が開裂した劇化合物(
3)であった。
6α−(1−ヒドロキシエチル)−1β−メチル−2−
ヒドロキシメチル−1−カルバ−2−ベネム−3−カル
ボン酸アリルエステル(1) 48 mgを塩化メチレ
ン4 、7 mlに溶解、水冷下にトリエチルアミン0
゜03m1(I25当量)と1)−トルエンスルホン酸
無水物86mg(I14当量)を加え、同温で1時間か
きまぜた0反応液をジクロロメタン20m1でうすめ、
pH7燐酸緩衝液10m1と飽和食塩水5mlで順次洗
い、乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲル・クロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エチル=2 : 1 )
により精製して2−(2−アリルオキシカルボニル−3
,3−メチレン−4−メチル−1−ピロリン−5−イル
)−3−メチル−3−ヒドロキシ酪酸ラクトン(3)
40 mgを得た。収率:89%。
ヒドロキシメチル−1−カルバ−2−ベネム−3−カル
ボン酸アリルエステル(1) 48 mgを塩化メチレ
ン4 、7 mlに溶解、水冷下にトリエチルアミン0
゜03m1(I25当量)と1)−トルエンスルホン酸
無水物86mg(I14当量)を加え、同温で1時間か
きまぜた0反応液をジクロロメタン20m1でうすめ、
pH7燐酸緩衝液10m1と飽和食塩水5mlで順次洗
い、乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲル・クロマ
トグラフィー(トルエン:酢酸エチル=2 : 1 )
により精製して2−(2−アリルオキシカルボニル−3
,3−メチレン−4−メチル−1−ピロリン−5−イル
)−3−メチル−3−ヒドロキシ酪酸ラクトン(3)
40 mgを得た。収率:89%。
NMR(CDCIs) l; ppm : 1.17(
3H,d、 J−7,3Hz>。
3H,d、 J−7,3Hz>。
1.76(3H,d、 J=6.5Hz>、 3.0〜
3.2(1B、 m)、 3.97(LH,dd、 J
=6.1Hz、 6.3Hz、 >、 4.54(IH
,dd、 J=4.0Hz、 J=8.0Hz)、 4
.8(LH,m)、 4.8〜4.9(2H,m)。
3.2(1B、 m)、 3.97(LH,dd、 J
=6.1Hz、 6.3Hz、 >、 4.54(IH
,dd、 J=4.0Hz、 J=8.0Hz)、 4
.8(LH,m)、 4.8〜4.9(2H,m)。
5.3−5.5 & 5.9−6.1(3B、 m)、
5.42(IH,d、 J=2.0Hz)、 6.0
2(IH,d、 J=2.0Hz)−IR(CHCl、
) crf’ : 2950br、 1813.17
25゜火J1例」、(文献性修飾) 実験例1は6位の遊離ヒドロキシエチル基のため副反応
が起きたとの仮説を検証するため、常法通りシリル基で
保護した化合物(1)に同一反応を試みたが、目的物■
は得られなかった。
5.42(IH,d、 J=2.0Hz)、 6.0
2(IH,d、 J=2.0Hz)−IR(CHCl、
) crf’ : 2950br、 1813.17
25゜火J1例」、(文献性修飾) 実験例1は6位の遊離ヒドロキシエチル基のため副反応
が起きたとの仮説を検証するため、常法通りシリル基で
保護した化合物(1)に同一反応を試みたが、目的物■
は得られなかった。
1)6α−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1
β−メチル−2−ヒドロキシメチル−1−カルバ−2−
ベネム−3−カルボンNp−メトキシベンジルエステル
(1) 50 mgをジクロロメタン3mlにとかし、
−40℃に冷却し、p−トルエンスルホン酸無水物44
mg(I1当量)とトリエチルアミン0.021m1(
I2当量)を加え、同温で30分と水冷下2時間かきま
ぜた。原料のスポットが消失した反応液をジクロロメタ
ン10m1で希釈、pH7燐酸緩衝液10m1と飽和食
塩水5mlで順次洗い、乾燥後、減圧濃縮した。残渣の
N M R(CDC1n )には原料と目的物に相当す
るピークはなく、IR(CHCl、 )にもベータラク
タムに起因する吸収は全く認められず、目的物である6
α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1β−メ
チル−2−(p−トルエンスルホニルオキシメチル)−
1−カルバー2−ベネム−3−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステルの存在は肯定できなかった。
β−メチル−2−ヒドロキシメチル−1−カルバ−2−
ベネム−3−カルボンNp−メトキシベンジルエステル
(1) 50 mgをジクロロメタン3mlにとかし、
−40℃に冷却し、p−トルエンスルホン酸無水物44
mg(I1当量)とトリエチルアミン0.021m1(
I2当量)を加え、同温で30分と水冷下2時間かきま
ぜた。原料のスポットが消失した反応液をジクロロメタ
ン10m1で希釈、pH7燐酸緩衝液10m1と飽和食
塩水5mlで順次洗い、乾燥後、減圧濃縮した。残渣の
N M R(CDC1n )には原料と目的物に相当す
るピークはなく、IR(CHCl、 )にもベータラク
タムに起因する吸収は全く認められず、目的物である6
α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1β−メ
チル−2−(p−トルエンスルホニルオキシメチル)−
1−カルバー2−ベネム−3−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステルの存在は肯定できなかった。
2)上記反応をトリエチルアミンの代わりにピリジン(
0,012m1.1.2当量)を用いても同様の結果を
得た。
0,012m1.1.2当量)を用いても同様の結果を
得た。
3)6α−(1−トリエチルシリルオキシエチル)−1
β−メチル−2−ヒドロキシメチル−1−カルバー2−
ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
(1) 143 mgをジクロロメタン6mlにとかり
、−35℃に冷却し、 p−トルエンスルホン酸無水物
98mg(1当量)とトリエチルアミン0゜034m1
(I05当量)を加え、同温で1時間と水冷下2時間か
きまぜた。原料(1)のスポットが消失した反応液のT
LC(シリカゲル、トルエン:酢酸エチル=2 : 1
)には原料より高極性の化合物に相当するスポットの
み認められ、目的物である6α−(1−トリエチルシリ
ルオキシエチル)−1β−メチル−2−(p−トルエン
スルホニルオキシメチル)−1−カルバー2−ペネム−
3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルに該当す
るスポットは認められなかった。
β−メチル−2−ヒドロキシメチル−1−カルバー2−
ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
(1) 143 mgをジクロロメタン6mlにとかり
、−35℃に冷却し、 p−トルエンスルホン酸無水物
98mg(1当量)とトリエチルアミン0゜034m1
(I05当量)を加え、同温で1時間と水冷下2時間か
きまぜた。原料(1)のスポットが消失した反応液のT
LC(シリカゲル、トルエン:酢酸エチル=2 : 1
)には原料より高極性の化合物に相当するスポットの
み認められ、目的物である6α−(1−トリエチルシリ
ルオキシエチル)−1β−メチル−2−(p−トルエン
スルホニルオキシメチル)−1−カルバー2−ペネム−
3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステルに該当す
るスポットは認められなかった。
火秩廻ユニ1(ハロゲン置換の試み)
そこで、2位メチロール基を官能化のために、実験例3
〜6により、水酸基のハロゲン置換反応を試みたが不成
功に終わった。
〜6により、水酸基のハロゲン置換反応を試みたが不成
功に終わった。
K監忽ユ
6α−(1−トリメチルシリルオキシエチル)=1β−
メチルー2−ヒドロキシメチル−1−カルバー2−ペネ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(L
)130mgをテトラヒドロフラン2mlにとかし、−
30℃でピリジン0.052m1(2当量)と塩化チオ
ニル0.028m1(I2当量)とを加えて1時間かき
まぜた。反応液を酢酸エチル10m1でうすめ、飽和炭
酸水素ナトリウム水5mlと飽和食塩水5mlで洗い、
乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカケル・クロマトグ
ラフィー(トルエン:酢酸エチル=4 : 1 )によ
り精製して6α−(1−トリメチルシリルオキシエチル
)−1β−メチル−2,2−メチレン−3−クロロ−1
−カルバペナムー3−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル(3位記位については3:2混合物)■92m
gを得た。
メチルー2−ヒドロキシメチル−1−カルバー2−ペネ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(L
)130mgをテトラヒドロフラン2mlにとかし、−
30℃でピリジン0.052m1(2当量)と塩化チオ
ニル0.028m1(I2当量)とを加えて1時間かき
まぜた。反応液を酢酸エチル10m1でうすめ、飽和炭
酸水素ナトリウム水5mlと飽和食塩水5mlで洗い、
乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカケル・クロマトグ
ラフィー(トルエン:酢酸エチル=4 : 1 )によ
り精製して6α−(1−トリメチルシリルオキシエチル
)−1β−メチル−2,2−メチレン−3−クロロ−1
−カルバペナムー3−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル(3位記位については3:2混合物)■92m
gを得た。
収率:68%。
NMR(CDC1,>δppm : 0.02(98,
s)、 1.20(3H。
s)、 1.20(3H。
d、 J47.2Hz)、 1.35(3H,d、 J
=7.0Hz>、 2.80−3.30(2H,m>、
3.80(3H,s)、 4.05〜4.40(2H
,m>、 5.20(2H,s)、 5.40(IH,
d、 J:2.5Hz)、 5.82(IH,d、 J
:2.5Hz)、 6.78& 7.40(4H,AJ
、q、 J=6.8Hz>。
=7.0Hz>、 2.80−3.30(2H,m>、
3.80(3H,s)、 4.05〜4.40(2H
,m>、 5.20(2H,s)、 5.40(IH,
d、 J:2.5Hz)、 5.82(IH,d、 J
:2.5Hz)、 6.78& 7.40(4H,AJ
、q、 J=6.8Hz>。
IR(CHCIs) am−’ : 1765.17
20.1605゜罠菫亘1 6α−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1β−
メチル−2−ヒドロキシメチル−1−カルバ−2−ペネ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(L
i20 mgをアセトニトリル2mlにとかし、室温で
トリフェニルホスフィン80mg(2当1) と四塩化
炭素0.15IIIl(10当量)を加えて2時間かき
まぜた0反応液のNMRで実験例3の生成物と同一の6
α−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1β−メ
チル−2,2−メチレン−3−クロロ−1−カルバペナ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(り
(3位記位については3:2混合物、収率ニア0%)が
生成していることを確認した。
20.1605゜罠菫亘1 6α−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1β−
メチル−2−ヒドロキシメチル−1−カルバ−2−ペネ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(L
i20 mgをアセトニトリル2mlにとかし、室温で
トリフェニルホスフィン80mg(2当1) と四塩化
炭素0.15IIIl(10当量)を加えて2時間かき
まぜた0反応液のNMRで実験例3の生成物と同一の6
α−(1−トリメチルシリルオキシエチル)−1β−メ
チル−2,2−メチレン−3−クロロ−1−カルバペナ
ム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(り
(3位記位については3:2混合物、収率ニア0%)が
生成していることを確認した。
火11艷盈
6α−(1−ヒドロキシエチル)−1β−メチル−2−
ヒドロキシメチル−1−カルバパー2−ペネム−3−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1)120m
gをテトラヒドロフラン2mlにとかし、−30℃でピ
リジン0.053m1(2当量)と塩化チオニル0.0
29m1(I2当量)を加えて1時間かきまぜた0反応
液を酢酸エチル10m1でうすめ、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水5mlと飽和食塩水5mlで洗い、乾燥後、減圧
濃縮した。残渣をシリカゲル・クロマトグラフィー(ト
ルエン:酢酸エチル=2 : 1 )により精製して2
−(p−メトキシベンジルオキシカルボニル−3,3−
メチレン−4−メチル−ピロリン−5−イル)−3−メ
チル−3−ヒドロキシ酪酸ラクトン■の白色結晶67m
gを得た。収率:59%。
ヒドロキシメチル−1−カルバパー2−ペネム−3−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル(1)120m
gをテトラヒドロフラン2mlにとかし、−30℃でピ
リジン0.053m1(2当量)と塩化チオニル0.0
29m1(I2当量)を加えて1時間かきまぜた0反応
液を酢酸エチル10m1でうすめ、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水5mlと飽和食塩水5mlで洗い、乾燥後、減圧
濃縮した。残渣をシリカゲル・クロマトグラフィー(ト
ルエン:酢酸エチル=2 : 1 )により精製して2
−(p−メトキシベンジルオキシカルボニル−3,3−
メチレン−4−メチル−ピロリン−5−イル)−3−メ
チル−3−ヒドロキシ酪酸ラクトン■の白色結晶67m
gを得た。収率:59%。
NMR(CDC13>δppm + 1.14(3H,
d、 J=7.4Hz)。
d、 J=7.4Hz)。
1.74(3H,d、 に6.4Hz)、 3.05(
IH,m)、 3.81(3H。
IH,m)、 3.81(3H。
s)、 3.94(IH,dd、 J=6.2Hz、
J=3.0Hz>、 4.52(IH。
J=3.0Hz>、 4.52(IH。
dd、J=9.6Hz、 J=3、OHz>、 4.8
3(LH,m)、 5.28(2H。
3(LH,m)、 5.28(2H。
s)、 5.38 & 5.95(2H,dd、 J=
2.2Hz)、 6.89 &7.37(4H1AtB
tq、に6.8Hz)−IR(CHCl、) am−’
: 1820.1720.1630火監■1 6α−(1−ジメチル−t−ブチルシリルオキシエチル
)−1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−1−力ルバ
ー2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステル(1)195n+gをテトラヒドロフラン3m1
にとかし、−30℃でピリジン0 、071 ml(2
当量)と臭化チオニル0.041m1(I2当量)を加
えて1時間かきまぜた6反応液を酢酸エチル10m1で
うすめ、飽和炭酸水素ナトリウム水5mlと飽和食塩水
5mlで洗い、乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ル・クロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=4
: 1 )により精製して6α−(1−ジメチル−t−
ブチルシリルオキシエチル)−1β−メチル−2,2−
メチレン−3−ブロモ−1−カルバベナム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル■(3位記位につい
ては3:1混合物)138mgを得た。収率:62%。
2.2Hz)、 6.89 &7.37(4H1AtB
tq、に6.8Hz)−IR(CHCl、) am−’
: 1820.1720.1630火監■1 6α−(1−ジメチル−t−ブチルシリルオキシエチル
)−1β−メチル−2−ヒドロキシメチル−1−力ルバ
ー2−ペネム−3−カルボン酸p−メトキシベンジルエ
ステル(1)195n+gをテトラヒドロフラン3m1
にとかし、−30℃でピリジン0 、071 ml(2
当量)と臭化チオニル0.041m1(I2当量)を加
えて1時間かきまぜた6反応液を酢酸エチル10m1で
うすめ、飽和炭酸水素ナトリウム水5mlと飽和食塩水
5mlで洗い、乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ル・クロマトグラフィー(トルエン:酢酸エチル=4
: 1 )により精製して6α−(1−ジメチル−t−
ブチルシリルオキシエチル)−1β−メチル−2,2−
メチレン−3−ブロモ−1−カルバベナム−3−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル■(3位記位につい
ては3:1混合物)138mgを得た。収率:62%。
NMR(CDC1n)δpprn : 0.07(6H
,s)、 0.89(9H。
,s)、 0.89(9H。
s>、 1.21(3H,d、J=7.2Hz)、 1
.36(3H,d、 J=7.0Hz>、 2.80〜
3.30(2H,m)、 3.80(3H,s)、 4
.05”4.45(2H,m)、 5.20(2H,s
)、 5.41 & 5.85<2H。
.36(3H,d、 J=7.0Hz>、 2.80〜
3.30(2H,m)、 3.80(3H,s)、 4
.05”4.45(2H,m)、 5.20(2H,s
)、 5.41 & 5.85<2H。
dd、 J:2.5Hz)、6.88 g−7,41
(4H,A−B11. J=6.8Hz) IR(CHCIs) cm−’ : 1765. 17
15. ’1600(以下余白)
(4H,A−B11. J=6.8Hz) IR(CHCIs) cm−’ : 1765. 17
15. ’1600(以下余白)
Claims (4)
- (1)2−ヒドロキシメチルカルバペネム化合物( I
)に燐酸エステル化剤を作用させることを特徴とする2
−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物(II)の
製法。 - (2)2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物
(II)にハロゲン化剤を作用させることを特徴とする2
−ハロメチルカルバペネム化合物(III)の製法。 - (3)2−ホスホリルオキシメチルカルバペネム化合物
(II)。 - (4)2−ハロメチルカルバペネム化合物(III)。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )▲数式、化
学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^1は水素原子または置換または非置換アル
キル基、 R^2は水素原子あるいは置換または非置換アルキル基
、 R^3、R^4はハロゲン原子あるいは置換または非置
換アルコキシまたはアリールオキシ基、 R^5は水素原子またはカルボキシ保護基、Halはハ
ロゲン原子をそれぞれ示す)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2293019A JPH04164091A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ハロメチルカルバペネム化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2293019A JPH04164091A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ハロメチルカルバペネム化合物の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04164091A true JPH04164091A (ja) | 1992-06-09 |
Family
ID=17789432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2293019A Pending JPH04164091A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | ハロメチルカルバペネム化合物の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04164091A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005123066A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-29 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity and processes for their preparation |
US9149461B2 (en) | 2010-06-18 | 2015-10-06 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity |
-
1990
- 1990-10-29 JP JP2293019A patent/JPH04164091A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005123066A1 (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-29 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity and processes for their preparation |
JP2008502734A (ja) * | 2004-06-10 | 2008-01-31 | フオブ・シンセシス・インコーポレーテツド | グラム陽性カルバペネム抗菌物質及びその調製方法 |
JP2008502733A (ja) * | 2004-06-10 | 2008-01-31 | フオブ・シンセシス・インコーポレーテツド | グラム陰性活性を有するカルバペネム抗菌物質及びその調製方法 |
US7683049B2 (en) | 2004-06-10 | 2010-03-23 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity and processes for their preparation |
US8232268B2 (en) | 2004-06-10 | 2012-07-31 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity and processes for their preparation |
US8557979B2 (en) | 2004-06-10 | 2013-10-15 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity and processes for their preparation |
US9149461B2 (en) | 2010-06-18 | 2015-10-06 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity |
US9937151B2 (en) | 2010-06-18 | 2018-04-10 | Fob Synthesis, Inc. | Carbapenem antibacterials with gram-negative activity |
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