JPH04160093A - Shutter device for film forming device - Google Patents

Shutter device for film forming device

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JPH04160093A
JPH04160093A JP28256090A JP28256090A JPH04160093A JP H04160093 A JPH04160093 A JP H04160093A JP 28256090 A JP28256090 A JP 28256090A JP 28256090 A JP28256090 A JP 28256090A JP H04160093 A JPH04160093 A JP H04160093A
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JP
Japan
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shutter
plate
shutter plate
film forming
flange
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JP28256090A
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Japanese (ja)
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JPH0772118B2 (en
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Takatoshi Yamamoto
高稔 山本
Hidenori Sunada
砂田 英範
Shigeji Ohashi
大橋 茂治
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Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To avert the damage of the function of a driving mechanism of a shutter plate which shuts off a material splashing direction by providing a guide plate to the shutter plate and adopting the constitution to guide the material sticking to the shutter plate to a flange surface which supports a shutter mechanism. CONSTITUTION:The shutter plate 5 which shuts off the material splashing direction is provided in the position facing the aperture face of a container 2 housing the material for forming films therein and further a shutter shaft 7 for freely openably and closably driving the shutter plate 5 is provided to constitute the shutter mechanism 4. Further, the guide plate 12 is provided on this shutter plate 5 to guide the material sticking to the shutter plate 5 to the surface of the flange 10 supporting the shutter mechanism 4. This shutter device is adequately used for a molecular beam epitaxial device, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、たとえば分子線エピタキシャル装置(MB
E装置)などの膜形成装置に使用するシャッター装置に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) This invention is applicable to, for example, a molecular beam epitaxial device
This invention relates to a shutter device used in a film forming apparatus such as E apparatus).

(従来の技術) 周知のようにこの種膜形成装置は、ガリウムなどの膜形
成用のマテリアルを、るつぼのような容器に収納してお
き、このマテリアルを加熱することによって分子線を放
射させ、これによって基板の表面に膜を形成するように
構成されている。
(Prior Art) As is well known, this type of film forming apparatus stores a film forming material such as gallium in a container like a crucible, heats this material to emit molecular beams, The structure is such that a film is thereby formed on the surface of the substrate.

第5図はその従来構成を示し、1は容器、2はこの容器
に収納されているマテリアル、3は真空チャンバーであ
る。容器1を加熱することによって、マテリアル2は蒸
発され、基板に向かって飛散し蒸着される。
FIG. 5 shows its conventional configuration, in which 1 is a container, 2 is a material stored in this container, and 3 is a vacuum chamber. By heating the container 1, the material 2 is evaporated and scattered and deposited onto the substrate.

4はシャッター装置で、容器1の開口面に向かい合うシ
ャッター板5と、シャッター板5にジヨイント6を介し
て連結されであるシャッター軸7と、シャッター軸7を
容器1の開口面を開閉するように駆動する駆動機構8と
によって構成されである。
A shutter device 4 includes a shutter plate 5 facing the opening surface of the container 1, a shutter shaft 7 connected to the shutter plate 5 via a joint 6, and a shutter shaft 7 configured to open and close the opening surface of the container 1. It is composed of a drive mechanism 8 for driving.

図の駆動機構8は、シャッター軸7に連結されてあって
、これを駆動するベローズ9によって構成されている。
The drive mechanism 8 shown in the figure is constituted by a bellows 9 that is connected to the shutter shaft 7 and drives it.

10はベローズ9を真空チャンバー3に取り付けるため
のフランジ、11はベローズ9を駆動するための駆動子
である。
10 is a flange for attaching the bellows 9 to the vacuum chamber 3, and 11 is a driver for driving the bellows 9.

ベローズ9を駆動することによって、シャッター軸7は
矢印方向に駆動され、これによってシャッター板5が、
マテリアル2の飛散通路Pを開閉するようになる。
By driving the bellows 9, the shutter shaft 7 is driven in the direction of the arrow, thereby causing the shutter plate 5 to
The scattering path P of the material 2 is opened and closed.

(発明が解決しようとする課題) ところでこのような膜形成装置において、容器1を加熱
した状態でシャッター板5を閉じていると、シャッター
板5の容器1の開口面に向かい合っている面に、蒸発し
たマテリアル2が付着する。
(Problem to be Solved by the Invention) By the way, in such a film forming apparatus, when the shutter plate 5 is closed while the container 1 is heated, the surface of the shutter plate 5 facing the opening surface of the container 1 is The evaporated material 2 adheres.

このようにして付着したマテリアル2は、更に流下する
ことによって駆動機構8に悪影響を与える。具体的には
、付着したマテリアル2がシャッター軸7を伝わってベ
ローズ9に付着したような場合は、これが固化するとベ
ローズ9の動きが悪くなる。
The material 2 deposited in this manner adversely affects the drive mechanism 8 by further flowing down. Specifically, if the adhered material 2 is transmitted along the shutter shaft 7 and adheres to the bellows 9, the movement of the bellows 9 will deteriorate when this solidifies.

またシャッター軸7をベアリングなどで支持している構
成では、そのベアリングに付着したマテリアル2の固化
によって、シャッター軸7の動きが悪くなる。いずれの
場合でも、シャッター板5の開閉動作が阻害され、所要
の膜形成作業が損われるようになる。
Further, in a configuration in which the shutter shaft 7 is supported by a bearing or the like, the movement of the shutter shaft 7 becomes difficult due to solidification of the material 2 attached to the bearing. In either case, the opening/closing operation of the shutter plate 5 is hindered, and the required film forming operation is impaired.

この発明は、シャッター板に付着したマテリアルにより
、シャッター板の開閉動作が損われないようにすること
を目的とする。
The object of the present invention is to prevent the opening and closing operations of the shutter plate from being impaired by material adhering to the shutter plate.

(課題を解決するための手段) この発明は、シャッター機構を構成しているシャッター
板に、これに付着したマテリアルがシャッター軸に向か
うことなく、シャッター機構を支持するフランジの表面
にガイドするガイド板を設けたことを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) This invention provides a guide plate that guides the material attached to the shutter plate constituting the shutter mechanism to the surface of the flange that supports the shutter mechanism without directing the material attached to the shutter plate toward the shutter axis. It is characterized by having the following.

またこの発明は、ガイド板を、シャッター軸に設けたこ
とを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that a guide plate is provided on the shutter shaft.

さらにこの発明は、フランジまでガイドされて溜ったマ
テリアルを、フランジから抜くポートを設け、このポー
トに真空封入が可能な排出孔を設けたことを特徴とする
Further, the present invention is characterized in that a port is provided for removing the material that has been guided to the flange and accumulated therefrom, and that this port is provided with a discharge hole that can be vacuum-filled.

(作用) シャッター板またはそのシャッター軸にガイド板を設け
たので、シャッター板に付着したマテリアルが流下して
も、これがシャッター軸より駆動機構に流れ込むような
ことは阻止される。これにより駆動機構の動作はなんら
阻害されないようになる。
(Function) Since the guide plate is provided on the shutter plate or its shutter shaft, even if material attached to the shutter plate flows down, it is prevented from flowing into the drive mechanism from the shutter shaft. This ensures that the operation of the drive mechanism is not hindered in any way.

駆動機構を外れてフランジまで流下したマテリアルは、
ここに設けたポートを介して排出孔から適宜外部に排出
される。これによって溜ったマテリアルを取り除くのに
、シャッター機構なり、駆動機構を取り外す必要はなく
なる。
Material that has left the drive mechanism and flowed down to the flange is
It is appropriately discharged to the outside from the discharge hole through the port provided here. This eliminates the need to remove the shutter mechanism or drive mechanism to remove accumulated material.

(実施例) この発明の実施例を図によって説明する。なお第5図と
同じ符号を付した部分は、同一または対応する部分を示
す、この発明にしたがい第1図、第2図に示すように、
シャッター板5の、容器1の開口面に向かい合う表面に
、ガイド板12を設ける。この例におけるガイド板12
は三角屋根状に形成されである。
(Example) An example of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that parts with the same reference numerals as in FIG. 5 indicate the same or corresponding parts. According to the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2,
A guide plate 12 is provided on the surface of the shutter plate 5 facing the opening surface of the container 1. Guide plate 12 in this example
It is shaped like a triangular roof.

またフランジ10のシャッター軸7が貫通する個所に、
マテリアル溜13を形成する。そしてこのマテリアル溜
13の中に、シャッター軸7を囲むように筒14が設置
されである。
In addition, at the point where the shutter shaft 7 of the flange 10 passes through,
A material reservoir 13 is formed. A cylinder 14 is installed in the material reservoir 13 so as to surround the shutter shaft 7.

シャッター板5に付着したマテリアルは、その表面に沿
って流下するが、ガイド板12のためにシャッター軸7
に向かうことなく、ガイド板12に沿って流下する。
The material attached to the shutter plate 5 flows down along its surface, but due to the guide plate 12, the material adheres to the shutter shaft 7.
It flows down along the guide plate 12 without heading towards the.

これによってシャッター軸7に沿ってマテリアルが駆動
機構8に流れていくのが阻止されるようになる。ガイド
板12に沿って流下したマテリアルは、マテリアル溜1
3に蓄えられる。
This prevents material from flowing along the shutter axis 7 into the drive mechanism 8. The material flowing down along the guide plate 12 is transferred to the material reservoir 1.
It is stored in 3.

第3図に示す実施例は、ガイド板12をシャッター軸7
に取り付けた例である。この例ではガイド板は傘状とさ
れてあり、その中心をシャッター軸7が貫通するように
しである。
In the embodiment shown in FIG. 3, the guide plate 12 is connected to the shutter shaft 7.
This is an example where it is installed. In this example, the guide plate is shaped like an umbrella, and the shutter shaft 7 passes through the center of the guide plate.

この構成では、シャッター板5に付着したマテリアルは
、シャッター軸7に沿って流下するが、その途中でガイ
ド板12によって阻止され、以後はガイド板に沿って流
下する。これによって駆動機構8に流れ込むことなく、
マテリアル溜13に蓄えられる。
In this configuration, the material attached to the shutter plate 5 flows down along the shutter shaft 7, but is blocked by the guide plate 12 on the way, and thereafter flows down along the guide plate. This prevents it from flowing into the drive mechanism 8.
The material is stored in the material reservoir 13.

マテリアル溜13に蓄えられれたマテリアルは、筒14
がシャッター軸7を囲んでいるので、フランジ10のシ
ャッター軸貫通孔よりベローズ9内に流れ込むのが阻止
される。
The material stored in the material reservoir 13 is transferred to the cylinder 14
surrounds the shutter shaft 7, so that it is prevented from flowing into the bellows 9 through the shutter shaft through hole of the flange 10.

マテリアル溜13にたまったマテリアルを除去するため
の構成を第4図に示す。この構成では、マテリアル溜1
3にボート15を取り付け、その先端のフランジ17に
真空封入が可能な、開閉自在のフランジ16を設けてお
く。
A configuration for removing material accumulated in the material reservoir 13 is shown in FIG. In this configuration, material reservoir 1
A boat 15 is attached to the boat 3, and a flange 17 at the tip thereof is provided with a flange 16 that can be opened and closed and is capable of vacuum sealing.

マテリアル溜13にたまったマテリアルを除去するとき
は、蓋16を開放し、ここからボート15を介してマテ
リアルを抜き出せばよい。これによれば駆動機構8、シ
ャッター機構4などを真空チャンバー3から取り外すこ
となく、マテリアルを除去することができるようになる
。除去したあと蓋16を閉じれば、真空チャンバー3の
真空は。
When removing the material accumulated in the material reservoir 13, the lid 16 may be opened and the material may be extracted from there via the boat 15. According to this, the material can be removed without removing the drive mechanism 8, shutter mechanism 4, etc. from the vacuum chamber 3. If the lid 16 is closed after removal, the vacuum in the vacuum chamber 3 will be reduced.

ここから洩れることはない。It won't leak from here.

なおこのマテリアルの除去の際、マテリアルが冷却して
固化してしまっている場合は、マテリアル溜13を外部
から加熱してマテリアルを液化してから、抜きだせばよ
い。
Note that when removing this material, if the material has cooled and solidified, it is sufficient to heat the material reservoir 13 from the outside to liquefy the material before extracting it.

なお以上の各実施例はいずれも昇降式のシャッター機構
についての説明であったが、この発明はこのような構成
のシャッター機構に限られるものではなく、他の構成、
たとえば旋回式、揚げ葺成の構成でも適用されることは
いうまでもない。
Although each of the above embodiments has been explained regarding an elevating type shutter mechanism, the present invention is not limited to a shutter mechanism having such a configuration, and may be applied to other configurations,
For example, it goes without saying that it can also be applied to a rotating structure or a raised roof structure.

(発明の効果) 以上詳述したようにこの発明によれば、シャッター板に
付着したマテリアルによって、シャッター板の駆動機構
の機能の損傷が回避でき、かつ駆動機構を外れて溜った
マテリアルを簡単に除去することができる効果を奏する
(Effects of the Invention) As detailed above, according to the present invention, it is possible to avoid damage to the function of the drive mechanism of the shutter plate due to material adhering to the shutter plate, and to easily remove the material that has come off the drive mechanism and accumulated. It has the effect of being able to remove it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の実施例を示す断面図、第2図は同じ
く部分斜面図、第3図はこの発明の他の実施例を示す断
面図、第4図はマテリアル溜内のマテリアルの除去機構
を示す断面図、第5図は従来例を示す断面図である。
Fig. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a partial perspective view, Fig. 3 is a sectional view showing another embodiment of the invention, and Fig. 4 is a removal of material in the material reservoir. A sectional view showing the mechanism, and FIG. 5 is a sectional view showing a conventional example.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)内部に膜形成用のマテリアルを収納した容器の開
口面と向かい合う位置にあって、前記マテリアル飛散方
向を遮断するシャッター板と、前記シャッター板を開閉
自在に駆動するシャッター軸とを備えたシャッター機構
、および前記シャッター軸を駆動する駆動機構を具備し
てなる膜形成用シャッター装置において、 前記シャッター板に、これに付着したマテリアルを前記
シャッター機構を支持するフランジの表面にガイドする
ガイド板を設けてなる 膜形成装置用シャッター装置。
(1) A shutter plate is provided at a position facing the opening surface of a container in which a film-forming material is stored, and blocks the direction of scattering of the material, and a shutter shaft that drives the shutter plate to freely open and close the shutter plate. In a film forming shutter device comprising a shutter mechanism and a drive mechanism for driving the shutter shaft, the shutter plate includes a guide plate that guides material attached to the shutter plate to a surface of a flange that supports the shutter mechanism. A shutter device for a film forming apparatus.
(2)内部に膜形成用のマテリアルを収納した容器の開
口面と向かい合う位置にあって、前記マテリアル飛散方
向を遮断するシャッター板と、前記シャッター板を開閉
自在に駆動するシャッター軸とを備えたシャッター機構
、および前記シャッター軸を駆動する駆動機構を具備し
てなる膜形成用シャッター装置において、 前記シャッター軸に、前記シャッター板に付着したマテ
リアルを前記シャッター機構を支持するフランジの表面
にガイドするガイド板を設けてなる 膜形成装置用シャッター装置。
(2) A shutter plate that is located opposite the opening surface of a container containing a film-forming material therein and blocks the direction of scattering of the material, and a shutter shaft that drives the shutter plate to freely open and close the shutter plate. In a film forming shutter device comprising a shutter mechanism and a drive mechanism for driving the shutter shaft, the shutter shaft includes a guide for guiding material attached to the shutter plate to a surface of a flange supporting the shutter mechanism. A shutter device for a film forming apparatus that is provided with a plate.
(3)フランジまでガイドされて溜ったマテリアルを、
前記フランジから抜くポートを設け、前記ポートに真空
封入が可能な排出孔を設けてなる請求項1または2記載
の膜形成装置用シャッター装置。
(3) Remove the material that has accumulated after being guided to the flange.
3. The shutter device for a film forming apparatus according to claim 1, further comprising a port for pulling out from the flange, and a discharge hole that can be sealed in a vacuum in the port.
JP28256090A 1990-10-19 1990-10-19 Shutter device for film forming equipment Expired - Fee Related JPH0772118B2 (en)

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