JPH04154956A - ZnSe基材表面の処理方法 - Google Patents

ZnSe基材表面の処理方法

Info

Publication number
JPH04154956A
JPH04154956A JP27660490A JP27660490A JPH04154956A JP H04154956 A JPH04154956 A JP H04154956A JP 27660490 A JP27660490 A JP 27660490A JP 27660490 A JP27660490 A JP 27660490A JP H04154956 A JPH04154956 A JP H04154956A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
znse
zns
substrate
chemical vapor
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP27660490A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07116607B2 (ja
Inventor
Paul V Purohit
ポール ブイ.ピュロヒット
L Kirsh Geoffrey
ジォフリー エル.キルシュ
C Macdonald James
ジェイムズ シー.マクドナルド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CVD Inc
Original Assignee
CVD Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CVD Inc filed Critical CVD Inc
Priority to JP27660490A priority Critical patent/JPH07116607B2/ja
Publication of JPH04154956A publication Critical patent/JPH04154956A/ja
Publication of JPH07116607B2 publication Critical patent/JPH07116607B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、一般的に言って.ZnSe/ZnS積層品又
は「サンドイッチ」を化学気相成長技術により調製する
方法と、そのように作製された積層品とに関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕赤外線
の透過する窓は、現在、多くの航空踏査又は航行装置の
入口開口部で使用されている。そのような窓のために用
いられる材料は、(a)窓がやってくる信号を有意に減
少させるべきでなくあるいは信号を雑音の多いものにす
べきでないこと、そして(b)窓材料は高速飛行中に遭
遇する塵埃や雨に耐えるのに十分強いものであるべきで
あることを含めて、いくつかの基準を満たさなくてはな
らない。赤外領域において大いに透過性の材料であるセ
レン化亜鉛(ZnSe)は、基準(a)を非常によく満
たし、それゆえにそのような窓の用途のための理想的な
候補と考えられる。ところが.ZnSeは、高速飛行中
の雨や塵埃の浸食に事実上耐えない「軟質」材料(ヌー
プ硬さ数約120、曲げ強さ約8000psi (56
3kg/cnf)である。やはり赤外線の透過する材料
である硫化亜鉛(ZnS)には、セレン化亜鉛の優れた
光学的性質はないけれどは、この材料はよりはるかに強
く (ヌープ硬さ数約240、曲げ強さ約15,000
pSl(1055kg/cI11)、そして少なくとも
マツハ数的1までの高速飛行の条件に耐えることができ
る。
ZnSe上に付着させた厚さ約l +nmのZnSの層
は、ZnSeの光学的性質を有意に低下させることなく
純粋なZnSの雨水浸食抵抗と同等の雨水浸食抵抗を有
する窓を製造するのに十分である、ということは知られ
ている。しかしながら、そのようなZnSe/ZnS 
 rサンドイッチ」を製造するのにつきまとう問題があ
る。主要な問題の一つは.ZnSe層とZnS層との間
の強固な結合を作ることである。このようなサンドイン
チを製作しようとする以前の試みの結果は、ZnS層が
研磨処理及び加工処理の間に剥げ落ちる製品であった。
このように.ZnSe基材とZnS層との間の付着結合
が強固であるZnSe/ Z n Sサンドイッチを製
造することができる方法が必要とされている。
そのような方法の一つの試みは.ZnSe基材を化学的
にエツチングしてからZnS層を適用することであった
。結果として得られたサンドイッチの透過特性は有意の
影響を受けなかったとは言え、ZnSe層とZnS層と
の間の結合の強さは改良されなかった。
1981年12月1日発行のアルディンガー(Aldi
nger)らの米国特許第4303635号明細書は、
化学気相成(5)  ′ 長(CVD)技術により製造される光学等級の硫化亜鉛
物体を開示する。それらは、高いガス圧力下に高温で後
処理にかけられる。CVD技術が一般的に開示されては
いるが、硫化亜鉛物体はZnSe基村上では形成されず
、それゆえに結合強さの問題は扱われていない。
1984年5月8日発行のピーターズ(Peters)
の米国特許第4447469号明細書は、気相反応物(
例えばジメチル亜鉛)と中性の、電荷のない硫黄原子と
を反応させて基材上に例えばZnSを堆積させるための
低温法を開示する。
1988年9月13日発行のテ二−ティソン(7’ut
ison)の米国特許第4770479号明細書及び1
988年9月20日発行のテユーティソンの米国特許第
4772080号明細書は.ZnSe又はZnSの光学
観測窓のCVD法による製造を一般的に開示する。
特開昭55−130804号公報は、水素とセレン蒸気
とを反応させてセレン化水素を生成させ、次いでこれを
CVD法により亜鉛蒸気と反応させることにより調製さ
れる.ZnSe物品を製造するためのZnSeを開示す
る。
特開昭55−130805号公報は、亜鉛蒸気とセレン
蒸気とを混合してZnSeの堆積を引き起こすことによ
るZnSeの製造を開示する。
特開昭59−146915号公報は、金属亜鉛が基材へ
向かわされる一方で硫黄及び/又はセレン化合物のガス
が供供されて、そのためにZnS及び/又はZnSeが
基材へ付着させられる方法を開示する。
特開昭57−118004号公報は、セレン化水素が不
活性ガスで希釈されて高温炉内の反応管へ供給される方
法を開示する。基材上にZnSeを成長させるために、
不活性のキャリヤーガスが亜鉛蒸気が得られるように溶
融亜鉛上へ導かれる。
特開昭60−159562号公報は、加熱サイクルにか
けられた場合に基材に対する優れた付着付を有するZn
S−ZnSeの赤外線透過材料を製造するための方法を
開示する。ZnSeに対するZnSの付着性を向上させ
るのに有効である混成結晶層が、ZnSとZnSeとの
界面に形成される。この方法は、ZnSe基板をCVD
合成炉へ入れ、そして亜鉛蒸気を82Sガス及びH2S
eガスと一緒に導入することを必要とする。
H2Seノ流量は100%l(、Seから0%)IaS
e(lQQ%H2S)まで変えられ、この後にはH2S
のみが存在する。
〔課題を解決するための手段及び作用効果〕本発明によ
れば.ZnSe上へのZnSの化学気相成長によりZn
Se基材上にZnS層を形成する方法であって、ZnS
の化学気相成長よりも前に.ZnSe基材を金属亜鉛蒸
気の不存在下でH2Sと、このH2Sと当該ZnSe基
材の表面との反応を引き起こすのに十分なだけの温度に
おいて且つそれに十分なだけの時間接触させることを特
徴とする改良方法が提供される。
本発明によってやはり提供されるのは、下記の工程(A
) 〜(C)を含む、ZnSe上へのZnSの化学気相
成長によりZnSe基材上にZnS層を形成する方法で
ある。その工程とは、すなわち、(A)化学気相成長室
において、金属亜鉛蒸気の不存在下にZnSe基材を.
ZnSeとH2Sとの反応を引き起こすのに十分なだけ
の温度まで加熱する工程、 (B)金属亜鉛蒸気の不存在下に、1nSeとH2Sと
をH2SがZnSeの表面と反応するに至るまで接触さ
せる工程、 (C)金属亜鉛蒸気をH2Sの存在下に当該化学気相成
長室へ導入し、そして化学気相成長によりZnSe上へ
ZnSの層を堆積させる工程、である。
本発明によれば.ZnSe上へZnSを堆積させるより
も前に.ZnSeを金属亜鉛蒸気の不存在下でH2Sと
、このH2SをZnSeと反応させるのに十分なだけの
温度において且つそれに十分なだけの時間接触させるこ
とを含む、ZnSの化学気相成長層のZnSe基材への
付着性を向上させる方法も提供される。
本発明によれば更に、上述の方法により製造された製品
が提供される。
本発明によれば、化学気相成長により表面上にZnS層
を堆積させたZnSe基材を含んでなる赤外線光学エレ
メントであって、当該ZnSe基材の表面がZnSの堆
積よりも前にH2Sと反応させられて、それにより当該
基材の表面が粗くされている赤外線光学エレメントが提
供される。
本発明によれば、化学気相成長により表面上にZnS層
を堆積させたZnSe基材を含んでなる赤外線光学エレ
メントであって、当該ZnSe基材の表面がZnS層の
堆積よりも前にH2Sと反応させられて、それにより当
該基材の表面が粗くされていることを特徴とする、改良
された赤外線光学エレメントも提供される。
次に、本発明の詳細な説明す、る。
ZnS層又はコーティングがその上にあるZnSe基材
を含んでなる物品(時として「積層品」又は「サンドイ
ッチ」と称される)は、化学気相成長技術により製造す
ることができる。一般に、この技術は、公知の化学気相
成長法でZnSe基材を作製し、所望される場合にはこ
のZnSe基材を成形及び研摩し、次いで化学気相成長
によってこのZnSe基材の表面上へZnSの層を堆積
させることを伴う。
結果として得られた「サンドイッチ」は次いで所望の形
状にされ、そして研摩される。
本発明は.ZnSeとZnSとの間の付着を向上させて
、その結果としてこれらの層間の結合がより強くなり且
つ最終製品の製作中に積層剥離の起こることがより少な
くなる、上記のZnSe/ZnS  rサンドイッチ」
の製造方法を提供する。ZnSe層及びZnS層間の付
着力の増大は、曲げ強さについて試験を行った場合に「
サンドイッチ」が結合層に沿って折れる(層間の付着が
弱い場合にそうなるであろうように)と言うよりもむし
ろそれを横切って折れるという事実によって証明される
。本発明の主要な利点のうちの一つは、この増大した付
着力が公知の方法を用いるよりもむらなく達成され、か
くして使用可能な「サンドイッチ」の収率が上昇すると
いうことである。
本発明のもう一つの利点は.ZnSe基材上のZnS層
の均一な成長が公知の方法を用いるよりもむらなく達成
されるということである。
本発明の方法は.ZnSe基材(これは大抵の場合には
予備成形される)をH2Sと、H2SをZnSe基材の
表面と反応させるのに十分な温度で且つそうするのに十
分な時間接触させることを本質的に必要とする。
何らかの特定の理論により本発明を限定するわけではな
いながらも、H2SとZnSeとの反応はZnSe基材
の表面から酸素及び他の汚染物質を取除き、そしてZn
Seのうちの一部をZnSに転化させる、と信じられる
本発明の方法で使用される温度は重要ではなく、温度は
H2SとZnSeとを反応させるのに十分なだけ高く、
すなわち約200℃より高く、且つZnSeが悪影響を
被らないだけ十分に低い、ということが必要なだけであ
る。
1(2Sを金属亜鉛蒸気の不存在下においてZnSeと
反応させるということは、本発明にとって不可欠である
。これは、二つのやり方で達成することができる。第一
の方法は、金属亜鉛蒸気をそれがZnSe又はH2Sと
接触できないように物理的に閉じ込めることである。こ
れは、ZnSe及びH3Sが金属亜鉛の蒸発温度よりも
高い温度で反応するのを可能にする。第二の、そして好
ましい方法は、金属亜鉛の蒸発温度よりも低い温度で、
すなわち約り19℃〜約685℃でZnSeとH2Sと
を反応させることである。これは.ZnSeと金属亜鉛
(しなしながらこれは蒸気ではない)の両方を同じ化学
気相成長室に入れ、そしてZnSeとH2Sとを金属亜
鉛の存在下で(しかしながらその実質的な量の蒸気は存
在しない)反応させることによって、「サンドイッチ」
を都合よく製造するのを可能にする。H2SがZnSe
と十分に反応したならば、単に成長室の温度を上げて金
属亜鉛を蒸発させるだけで、ZnSの化学気相成長を開
始させることができる。
H2Sは、それをZnSeと反応させるのに十分なだけ
の時間ZnSeと接触させなくてはならない。当業者に
とっては明らかであるように、この反応時間は、化学気
相成長室で用いられる条件(例えば温度、圧力、H2S
流量)によってかなり変えることができる。一般には、
約2時間の最小反応時間が必要とされよう。当業者は.
ZnSe基材とH2Sとの反応は視覚的に認めることが
できるZnSe基材表面C13) のエツチング又は粗面化を伴うので、特定の組の条件下
で必要な反応時間をたやすく決めることができる。この
ように.ZnSeをその表面のエツチング又は粗面化を
検出するのに十分なだけ長< H2Sと接触させ゛た場
合には、これが反応が起こったという指標を与える。も
ちろんながらH2SはZnSeと、これらの二つが不利
な結果に至ることな(反応するための最小限の時間より
も長い間接触させても差支えはないながらも、そのよう
なより長い接触時間は少しの特別な利益も提供しない。
本発明に従ってZnSe/ZnS  rサンドイッチ」
を工業的に生産する際には、最小反応時間の決定は生産
要素にならない。典型的な工業用の処理においては、H
2Sは、化学気相成長室の温度を約419℃(金属亜鉛
の融点)から金属亜鉛の堆積温度(約685℃)まで上
昇させる間にZnSe基材と接触させられる。この時間
は使用される特定の装置及び手順によって異なるとは言
うものの、典型的な工業用の処理においては、それはH
2S及びZnSeを反応させるのに十分なだけの時間よ
りも長い。
本発明は、以下に掲げる実施例により例示される。
〔実施例〕
ZnSe基材(これは、通常の化学気相成長法で前もっ
て作製され、所望の形状に成形され、そして研摩されて
いる)を、金属亜鉛と一緒に通常の気相成長室に入れた
。この成長室を排気して真空にし、そして約300℃に
加熱した。成長室の温度を約600℃まで上げる間に、
成長室へのアルゴンの流入を開始した。成長室内に亜鉛
蒸気は存在しなかった。H2S (アルゴンと一緒)の
成長室への流入を開始し、そして約12時間続けた。こ
の間成長室内に亜鉛蒸気は存在しなかった。H2Sの流
れを続けながら成長室温度を約690℃に上昇させ、そ
して金属亜鉛蒸気(アルゴンと一緒)の成長室への流入
を開始した。次いで通常のやり方でもって、ZnSをZ
nSe基材上へ堆積させた。
結果として得られたZnSe/ZnS  rサンドイッ
チ」は.ZnSe層とZnS層との間の結合が強固であ
って、これらの層の剥離を生じることなしに加工及び研
磨が行われた。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.ZnSe上へのZnSの化学気相成長によりZnS
    e基材上にZnS層を形成する方法であって、ZnSの
    化学気相成長よりも前に、ZnSe基材を金属亜鉛蒸気
    の不存在下でH_2Sと、このH_2Sと当該ZnSe
    基材の表面との反応を引き起こすのに十分なだけの温度
    において且つそれに十分なだけの時間接触させることを
    特徴とする上記の方法。
  2. 2.前記ZnSe基材の反応に続いてZnSの化学気相
    成長が行われる、請求項1記載の方法。
  3. 3.下記の工程(A)〜(C)を含む、ZnSe上への
    ZnSの化学気相成長によりZnSe基材上にZnS層
    を形成する方法。 (A)化学気相成長室において、金属亜鉛蒸気の不存在
    下にZnSe基材を、ZnSeとH_2Sとの反応を引
    き起こすのに十分なだけの温度まで加熱する工程 (B)金属亜鉛蒸気の不存在下に、上記ZnSe基材と
    H_2SとをH_2SがZnSeの表面と反応するに至
    るまで接触させる工程 (C)金属亜鉛蒸気をH_2Sの存在下において上記成
    長室へ導入し、そして化学気相成長により当該ZnSe
    上へZnSの層を堆積させる工程
  4. 4.ZnSe上へZnSを堆積させるよりも前に、Zn
    Seを金属亜鉛蒸気の不存在下でH_2Sと、このH_
    2SをZnSeと反応させるのに十分なだけの温度にお
    いて且つそれに十分なだけの時間接触させることを含む
    、ZnSの化学気相成長層のZnSe基材への付着性を
    向上させる方法。
  5. 5.請求項1又は2記載の方法により製造された製品。
  6. 6.請求項3記載の方法により製造された製品。
  7. 7.請求項4記載の方法により製造された製品。
  8. 8.化学気相成長により表面上にZnS層を堆積させた
    ZnSe基材を含んでなる赤外線光学エレメントであっ
    て、当該ZnSe基材の表面がZnSの堆積よりも前に
    金属亜鉛蒸気の不存在下でH_2Sと反応させられて、
    それにより当該基材の表面が粗くされている、上記の赤
    外線光学エレメント。
  9. 9.化学気相成長により表面上へZn層を堆積させたZ
    nSe基材を含んでなる赤外線光学エレメントであって
    、当該ZnSe基材の表面がZnS層の堆積よりも前に
    H_2Sと反応させられて、それにより当該基材の表面
    が粗くされていることを特徴とする赤外線光学エレメン
    ト。
JP27660490A 1990-10-17 1990-10-17 ZnSe基材表面の処理方法 Expired - Fee Related JPH07116607B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27660490A JPH07116607B2 (ja) 1990-10-17 1990-10-17 ZnSe基材表面の処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27660490A JPH07116607B2 (ja) 1990-10-17 1990-10-17 ZnSe基材表面の処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04154956A true JPH04154956A (ja) 1992-05-27
JPH07116607B2 JPH07116607B2 (ja) 1995-12-13

Family

ID=17571760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27660490A Expired - Fee Related JPH07116607B2 (ja) 1990-10-17 1990-10-17 ZnSe基材表面の処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07116607B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115491654A (zh) * 2022-08-29 2022-12-20 江苏布拉维光学科技有限公司 一种制备硒化锌硫化锌叠层光学材料的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115491654A (zh) * 2022-08-29 2022-12-20 江苏布拉维光学科技有限公司 一种制备硒化锌硫化锌叠层光学材料的方法
CN115491654B (zh) * 2022-08-29 2024-01-16 江苏布拉维光学科技有限公司 一种制备硒化锌硫化锌叠层光学材料的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07116607B2 (ja) 1995-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4978577A (en) Method for preparing laminates of ZnSe and ZnS
EP0046059B1 (en) Method of plasma enhanced chemical vapour deposition of films
US5236740A (en) Methods for coating adherent diamond films on cemented tungsten carbide substrates
US4582559A (en) Method of making thin free standing single crystal films
JPS62216352A (ja) 半導体装置の製造方法
US5346719A (en) Tungsten metallization of CVD diamond
EP2853618B1 (en) Increasing zinc sulfide hardness
EP0287208A2 (en) Process for manufacturing a corrosion-resistant vacuum-metallized article by etching the metal layer and applying a clear resinous coating
US4629662A (en) Bonding metal to ceramic like materials
US4775203A (en) Optical scattering free metal oxide films and methods of making the same
US4745007A (en) Method of forming silicon carbide films on tantalum containing substrates
US5690737A (en) Process for forming epitaxial BaF2 on GaAs
JPH04154956A (ja) ZnSe基材表面の処理方法
US5935641A (en) Method of forming a piezoelectric layer with improved texture
EP0646660B1 (en) Production of carriers for surface plasmon resonance
EP0647727B1 (en) Production of carriers for surface plasmon resonance
EP0438398B1 (en) Optically transparent electrically conductive semiconductor windows and methods of manufacture
IL95986A (en) Method for preparing laminates of ZnSe and ZnS
US4075385A (en) Anti-reflective coating for high energy optical components
US5846610A (en) Production of carriers for surface plasmon resonance
EP0087151A3 (de) Verfahren zum Herstellen von Schichten aus hochschmelzenden Metallen bzw. Metallverbindungen durch Abscheidung aus der Dampfphase
JPS60224778A (ja) セラミツクス被覆硬質部品
US5421976A (en) Oxidation resistant diamond composite and method of forming the same
JPH0393695A (ja) 多結晶ダイヤモンド及びその製造法
JPH08290968A (ja) 複合材

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees