JPH04154311A - 電界効果トランジスタ装置 - Google Patents

電界効果トランジスタ装置

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Publication number
JPH04154311A
JPH04154311A JP28036790A JP28036790A JPH04154311A JP H04154311 A JPH04154311 A JP H04154311A JP 28036790 A JP28036790 A JP 28036790A JP 28036790 A JP28036790 A JP 28036790A JP H04154311 A JPH04154311 A JP H04154311A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
gate
field effect
bonding wire
bias voltage
Prior art date
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Pending
Application number
JP28036790A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshikazu Manno
万野 寿和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP28036790A priority Critical patent/JPH04154311A/ja
Publication of JPH04154311A publication Critical patent/JPH04154311A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements

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  • Amplifiers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は電界効果トランジスタ装置に関し、特にVHF
帯等の高周波帯で大電力増幅を目的として使用される電
界効果トランジスタ装置に関するものである。
従来技術 従来のこの種の電界効果トランジスタの構造を第5.6
図に示しており、第5図は平面図、第6図は第5図のe
−f線に沿う断面図である。
半導体容器接地面13上に半導体容器絶縁体12が取付
けられており、この絶縁体12上に高周波信号入力端子
1、出力端子11及び接地端子10がマウントされてい
る。
出力端子11上には、例えば、2個の半導体チップ3が
マウントされており、この半導体チップ3が電力増幅用
の電界効果トランジスタとなっている。このトランジス
タ3のゲートと信号入力端子1との間は複数のボンディ
ングワイヤ8により接続されている。
第7図はこの様な高周波高出力の電界効果トランジスタ
装置の等偏口略図である。帰還容量Cgd。
入力抵抗R1、ソースインダクタンスLs、  ソース
抵抗Rsは負の値に比べて地小さな値である。
入力側すなわち、ゲート側のインピーダンスは、Zin
−Rg + j  ((ω2Lg Cgs −1)/ω
Cgsl  ・・・・・・ (1)で表わされる。
300MHz程度までのVH3帯で使用される電界効果
トランジスタの場合、Lg−1〜2nH,Cgs−50
〜130pF程度であるので、(1)式の虚数部は必ず
負となる。このことは入力インピーダンスが容量性であ
ることを示している。
従って、高周波信号入力線路と高周波電界効果トランジ
スタとの間のインピーダンス整合をとるためには、誘導
性の整合回路(例えば、低域通過フィルタ)を用いる必
要があるが、高周波信号入力端子とアースとの間に低域
通過フィルタによる整合回路を設ければ、ゲートバイア
スがこの整合回路により短絡されてしまい、トランジス
タの動作が不可能になるという問題がある。
発明の目的 そこで、本発明はこの様な従来のものの欠点を解決すべ
くなされたものであって、その目的とするところは、容
量性の入力インピーダンスを誘導性の整合回路の付加に
より補正して、高周波信号入力線路とのインピーダンス
整合を可能とした高周波高出力電界効果トランジスタ装
置を提供することにある。
発明の構成 本発明による電界効果トランジスタ装置は、ゲートバイ
アス電圧供給端子と、高周波入力端子と、電界効果トラ
ンジスタチップと、前記ゲートバイアス電圧供給端子と
前記チップのゲートとの間に設けられ高周波信号を遮断
するインダクタンス素子と、前記ゲートと高周波入力端
子との間に設けられ直流成分を遮断するキャパシタンス
素子と、前記高周波入力端子とアースとの間にに設けら
れたインピーダンス整合手段とを含むことを特徴とする
実施例 次に、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明す
る。
第1図は本発明の実施例の平面図、第2図は第1図のa
−b線に沿う断面図であり、第5.6図と同等部分は同
一符号により示している。
本発明では、入力端子1と出力端子11の他に、更にゲ
ートバイアス電圧供給端子2及び中継端子5を設けてい
る。この中継端子5の上にキャパシタンス素子であるM
OS容量素子4をマウントして取付ける。入力信号は入
力端子1.ボンディングワイヤ9.中継端子5.MOS
容量素子4.ボンディングワイヤ8を介して半導体チッ
プ3のゲートへ印加される。
ゲートバイアス電圧はゲートバイアス電圧供給端子2.
ボンディングワイヤ7、MOS容量4の上部電極、ボン
ディングワイヤ8を介して半導体チップ3のゲートへ供
給される。
そして、接地端子10と中継端子5との間にはボンディ
ングワイヤ6が設けられており、このワイヤ6が等価的
に低域通過フィルタとしても動作し、整合回路となるも
のである。
第1.2図の装置の等価回路が第8図(A)に示されて
おり、第1.2図と同等部分は同一符号により示す。こ
の等価回路から判るように、ワイヤ7は高周波信号を遮
断するインダクタンス素子として作用し、MOS容量素
子4はゲートバイアスを遮断する直流阻止用キャパシタ
ンス素子として作用する。
尚、入力端子1.ゲートバイアス端子2.中継端子5.
接地端子10.出力端子11は半導体容量絶縁体12上
にメツキ技術及びホトリゾグラフィ技術等を用いて同時
形成される。接地端子10は半導体容器接地面13に接
続されている。
ボンディングワイヤ8.9は高周波信号を可能な限り低
損失で半導体チップ3へ伝達する必要があるので、使用
されるワイヤは太く、短く、本数は多くすることが要求
される。ボンディングワイヤ7は高周波信号をケートバ
イアス端子2かう漏らさないようにある程度大きなイン
ダクタスが必要である。
MOS容量4は^us1.^uSb等を用いて中継端子
5上にマウントされている。半導体チップ3は上°記と
同じ材料を用いて出力端子11上にマウントされている
本実施例での半導体チップ3はチップの基板側がドレイ
ンであるが、基板側がソースあるいはバルクである場合
は、接地端子10の上にチップ3はマウントされる。ま
た、複数のチップを使用しているが、単数のチップに複
数の入力端子がある場合でも同じである。
第8図(B)には、第8図(A)の等偏口路のアドミッ
タンスチャートを示しており、インダクタンス素子6に
よる内部整合回路の付加により容量性の入力インピーダ
ンス(8点で示す)がレジスタンスのインピーダンス成
分(b点で示す)となり、補正されていることを示す。
第3.4図は本発明の他の実施例を示す図であり、第3
図はその平面図、第4図は第3図のC−d線に沿う断面
図である。第3.4図においても第1.2図と同等部分
は同一符号により示している。
本実施例では、第1.2図の実施例に対して接地端子1
0の位置を変更することで、中継端子5とワイヤ9を省
略している。すなわち、入力端子1上にMO5容量素子
4をマウントし、入力端子1の両側縁に沿って接地端子
10を夫々配置したものである。
こうすることにより、入力インダクタンスLgが低減で
きるので、高周波特性の改善が可能となり、またローコ
ストともなるのである。
発明の効果 叙上の如く、本発明によれば、ゲートバイアス電圧供給
端子と信号入力端子とを分割して独立に配置した構造と
なっているので、入力側に内部整合回路を付加すること
が可能となり、半導体装置内部での単位トランジスタ領
域の並列合成の際の合成損失を低減することができ、か
つ外部での整合回路の構成が容易となるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の平面図、第2図は第1図のa
−b線に沿う断面図、第3図は本発明の他の実施例の平
面図、第4図は第3図のc−d線に沿う断面図、第5図
は従来の高周波電界効果トランジスタ装置の平面図、第
6図は第5図のef線に沿う断面図、第7図は高周波電
界効果トランジスタの等価回路図、第8図(A)は本発
明の実施例の等価回路図、第8図(B)は(A)の回路
のアドミッタンスの補正状態を示すアドミッタンスチャ
ートである。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・信号入力端子 2・・・・・・ゲートバイアス電圧供給端子 3・・・・・半導体チップ 4・・・・・・MO3容量素子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ゲートバイアス電圧供給端子と、高周波入力端子
    と、電界効果トランジスタチップと、前記ゲートバイア
    ス電圧供給端子と前記チップのゲートとの間に設けられ
    高周波信号を遮断するインダクタンス素子と、前記ゲー
    トと高周波入力端子との間に設けられ直流成分を遮断す
    るキャパシタンス素子と、前記高周波入力端子とアース
    との間に設けられたインピーダンス整合手段とを含むこ
    とを特徴とする電界効果トランジスタ装置。
JP28036790A 1990-10-18 1990-10-18 電界効果トランジスタ装置 Pending JPH04154311A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28036790A JPH04154311A (ja) 1990-10-18 1990-10-18 電界効果トランジスタ装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP28036790A JPH04154311A (ja) 1990-10-18 1990-10-18 電界効果トランジスタ装置

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Publication Number Publication Date
JPH04154311A true JPH04154311A (ja) 1992-05-27

Family

ID=17624028

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28036790A Pending JPH04154311A (ja) 1990-10-18 1990-10-18 電界効果トランジスタ装置

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JP (1) JPH04154311A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8217496B2 (en) 2010-05-14 2012-07-10 Mitsubishi Electric Corporation Internal matching transistor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8217496B2 (en) 2010-05-14 2012-07-10 Mitsubishi Electric Corporation Internal matching transistor

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