JPH04137673A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH04137673A
JPH04137673A JP2257473A JP25747390A JPH04137673A JP H04137673 A JPH04137673 A JP H04137673A JP 2257473 A JP2257473 A JP 2257473A JP 25747390 A JP25747390 A JP 25747390A JP H04137673 A JPH04137673 A JP H04137673A
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JP
Japan
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package
chip
chips
light receiving
semiconductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP2257473A
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English (en)
Inventor
Seigo Suzuki
鈴木 清吾
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、消費電力が少なく高速動作可能な半導体装置
の配線構造に関するものである。
(従来の技術) LSI、ICなどの半導体装置の集積度は年々飛躍的に
増大している。半導体装置はもともと初期の電子計算機
に用いられた電子管に比較して素子当りの消費電力Pw
は著しく小さいが、高集積化が進むにしたがって半導体
装置の寸法は縮少し、素子の空間的密度が増してゆくの
で、体積当りの消費電力Pwはむしろ増加の傾向にある
。たとえば、半導体装置の微細化に合せて高速性能を維
持するためにクロック周波数fcを上昇させると、消費
電力Pwはfcに比例するので、pwは増大し、半導体
装置の放熱が大きな問題となる。
従来、放熱問題を解決するために並列処理の考えが導入
されている。これは、チップ当りの集積度を放熱技術に
見合ったレベル、たとえば、20〜1001t/チツプ
以下に制限し、このチップを数10〜数100個並列化
し、処理速度等を向上させる方法である。しかし、この
方法には■並列処理ソフトウェアおよび■並列のプロセ
ッサなどの並列要素間の通信に対する問題があり、■に
ついては、今後向上する余地は残されているにしても、
■については、要素間の通信速度がボルトネックとなる
(発明が解決しようとする課題) 以上述べたように、半導体装置の微細化が進みこれにと
もなってチップ内集積度が向上しており、さらに、高速
性向上の要素や素子自体の性能向上もあって内部の動作
周波数(たとえば、クロック周波数fc)は、上昇する
方向にある。その結果、半導体装置の消費電力は著しく
増大するようになる。また、集積度が向上した結果回路
自体が複雑化するという問題があった。
本発明は、上記事情に基づいてなされたものであり、高
集積化に対応し、放熱特性の優れた半導体装置を提供す
ることを目的としている。
半導体装置の消費電力増大に対応しなければならないと
いう基本的制約から生じた並列処理を前提としたシステ
ムにおいて、放熱と前記PE間のようなチップ間通信等
の諸問題を解決した半導体装置を提供することを目的と
している。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明は、複数の半導体チップからなる半導体装置に関
するものであり、前記各半導体チップのパッケージに発
光および受光素子を組み込み、二′れら素子を対向させ
ることによって前記半導体チップ間の回路接続を行うこ
とを特徴としている。
(作用) 光伝送を導入することにより半導体装置の消費電力が少
なくなり、かつ、高速動作が可能になる。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
実施例1 第1図(a)、(b)、(C)は、受発光素子を取付け
た半導体チップのパッケージを示し、同図(d)は、前
記チップの一例を示す。第2図は、パッケージに取付け
た受発光素子を用いてチップ間の光伝送を行う半導体装
置の斜視図を示している。
第1図(a)は、中央にLSIチップ1が配置されたパ
ッケージ2を示している。パッケージ2はチップ1の位
置がわかるように部分的な透視図になっている。パッケ
ージ2はセラミックスからなるが、他の材料、たとえば
、プラスチックスなどでもよい。パッケージ2には、複
数の受発光素子が埋設されており、たとえば、主表面に
受光部が裏面に発光部が露出している。勿論、各部は表
裏逆でも実質的な違いはない。また、受光部と発光部が
交互に露出するように配置させることも可能である。要
するに、使い方によって配置を変えれば良いのである。
受発光素子とチップ内の回路とは、従来通りの電気的5
機械的接触で結線されている。パッケージ2の大きさは
、−辺が約2〜5amである。第1図(b)は、受発光
素子がパッケージ2の4側面に形成されている。受光素
子か発光素子もしくは対になった受光−発光素子が光学
素子として使われている。第1図(C)は、パッケージ
2の裏面のみに一連の光学素子を埋設固定する。
光学素子は、同図(b)と同じように、受光素子、発光
素子もしくは対になった発光−受光素子を適宜使用する
。第1図(d)は、本発明に用いられる半導体チップ1
の構成している。この例では、シリコン(Sl)半導体
とガリウムヒ素(GaAs)とを混在させたチップを用
いている。チップにSi、 Ge。
GaAs、 InPなどの単一の半導体を用いることも
可能であることは勿論である。
第2図は、実際に、チップ、光学素子等を用いて形成し
た半導体装置の一構成を示している。Aは、CPUとメ
モリからなるもの、もしくはCPUとCPUから構成さ
れる並列プロセッサであり、SlもしくはGaAs等の
材料を用いる。Cは、極めて高速な直並列変換を含む高
性能動作が要求されるので、GaAsデバイスもしくは
SiならECL回路が有効である。Bでは、500本で
伝送され、200MHzのクロック信号を用いる。Dに
おけるシリアル入出力のレートは、1.5−50bit
/seeと超高速が要求される。たとえば、レートが2
 Gbit/secで50本の伝送線の場合、100G
bit/seeとなる。Eは、本発明の特徴である、発
光素子、受光素子からなる光学素子であり、CとはDに
よって結合されている。この例では、AとCを別のチッ
プにしたが、ECL等の回路工夫によりシリコン上のデ
バイスがたとえば数PSオーダーの高速になるか、ガリ
ウム・ヒ素上の許容素子集積度が、たとえば、数10万
トランジスタ以上になるならば、AとCは1チツプ化で
きるし、第1図(d)のような、材料が混在したチップ
を適用することもできる。
第3図は、パッケージ化された、たとえば、どちらもC
PUとして使われる。二つのチップを光学素子で結合し
た半導体装置を示している。これは、パッケージ2の光
学素子3の受光部と発光部とが向い合うように二つのチ
ップを垂直に対向させてなるものである。
ここで用いられるチップは、第1図(a)に示されるも
ので、パッケージ2の両生表面に光学素子が形成されて
いる。パッケージの上下面を光軸が直交する形で光伝送
が行われる。このとき、相対する受・発光素子は、光軸
が精確に一致すること、光信号線以外の制御線、電源線
、その他の機械的物体等が光信号帯を横切り光伝送の障
害にならないようにすること等に留意する必要がある。
光軸を一致させるには、線路上の物理的ガイド、正確な
位置決めをするスペーサ等が必要であり、光信号線以外
のものは、パッケージ側面に引出すなどの工夫をしなけ
ればならない。
実施例2 第4図(a)は、数個〜数百個のパッケージ化されたチ
ップを実施例1のように立体的に対向させ、これを立体
筒(チューブ)に納めたものである。パッケージ間隔は
、必ずしも一定する必要はなく、1〜5cn+程度が適
当である。チップは、周辺の金属製ガイド枠4とガイド
枠4に形成したストッパー(図示せず)等を用いて精確
に位置決めされ、図の2方向に間隔をもって積み重ねら
れる。
チップのパッケージ群2が充実しているガイド枠4は、
冷却筒となるAn、 Cuなどからなる外被9によって
側面を覆われる。ガイド枠4の両端には、受発光素子列
を埋込んだ面が露出するように、パッケージを配置し、
外側のパッケージと外被9とで冷却筒は気密に封止され
る。外側のパッケージの一つには入出力用コネクタ12
が取付けられている。外被9で覆われた冷却筒には、冷
却用流体、たとえば、水を冷却筒内へ流入させる流体流
入孔5および流体排出孔6が設けられている。冷却流体
は、流入孔5、排出孔6に連結されるパイプを備えた冷
却器7および回流ポンプ8によって、筒内を循還する。
液体へのゴミ、気泡の流入等による光軸の散乱には気を
付ける必要があるが、−殻内な清浄度を有する工業用純
水、グリース程度で十分対処できる。沸とう現象による
気泡の発生には以上の理由から十分気を付ける必要があ
る。この冷却筒による効果は著しく、とくに、チップ間
を光学系の伝送手段を用いているので、動作温度の上昇
は少く、かつ、冷却流体による接続線接触部等の腐蝕も
問題にはならない。
実施例3 第4図(c)は、同図(b)に示す冷却手段を変えた例
である。同図(b)では、流体は、冷却筒に沿って、す
なわち、立設しているチップのパッケージ2に直角に当
るために流れが阻害され冷却効果が劣化する。そこでこ
の実施例では、隣接するパッケージ間に流入孔5および
排出孔6を形成する。このようにすれば、流体の循還は
、パッケージ間のみで行われるので流体は円滑に流れる
ので冷却効果は著しく向上する。
実施例4 第5図(a)〜(c)は、第1図(b)に示す光学素子
をパッケージの側面に形成したチップの適用例である。
電源線VccやGNDが形成された配線基板10の所定
の位置に一つのチップを平置きする。
この第一のチップの一側面に形成した受発光素子3に対
応させ、光軸を正確に合せて第二のチップを平置きする
。このように受発光素子3は、チップのパッケージ2の
すべての側面に形成しであるので、一つのチップが配置
されると、それに対応して四方六方にチップ群を配置す
ることができる。
第5図(b)は、上記第5図(a)の断面図を示してい
る。第5図(C)は、基板10上のパッケージ2をVc
c、GND等に用いられる2枚の金属板でサンドインチ
状にはさむと、この金属板は放熱材として作用し、その
効果が向上する。パッケージの底面や上面に大きな金属
ヒートシンクを埋込むと放熱効果がさらに向上する。
実施例5 チップを配線基板10に平置きする方法として、第1図
(c)に示すチップを利用する事も可能である。このチ
ップは、パッケージの底面にのみ受発光素子を埋め込む
。この場合、パッケージ間の光伝送は、自由空間ではな
く、−旦配線基板10に入光させ、基板表面のAl1箔
などで形成した光導波管11などを用いて基板表面を通
して他方のチップのパッケージへ入光して光伝送が行わ
れる(第6図(b))。このとき第6図(a)のように
光伝送が行われるパッケージ間に第三のチップのパッケ
ージがあっても、これをスキップして伝送が容易に行わ
れる。さらに、第6図(c)に示すように、AQ、 C
uのように放熱特性の良いカバー13を設けて放熱効果
を上げることもできる。光を一旦基板へ入れるため受発
光面は基板に垂直に形成される。そして導波管へ光が伝
わる。
〔発明の効果〕
本発明は、以上のように、半導体装置内をチップのパッ
ケージを利用して光伝送を行うので、容易にブロック化
が出来て、消費電力を少くできるとともに放熱特性を向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(c)は、本発明の半導体チップのパッ
ケージ斜視図、同図(d)は、半導体チップの断面図、
第2図は、本発明の半導体装置の構成説明図、第3図は
、本発明の2チップ半導体装置の斜視図、第4図(a)
は、本発明のガイド枠内を説明する斜視図、第4図(b
)、(c)は1本発明の冷却筒を利用した半導体装置の
斜視図、第5図(a)は、チップを平置きした半導体装
置の斜視図、同図(b)、 (C)は、断面図、第6図
(a)は、光導波管を用いた半導体装置の斜視図、同図
(b)、(C)は、その部分断面図である。 1・・・半導体チップ、    2・・・パッケージ、
3・・・受発光素子(光学素子)、 4・・・ガイド枠、     5・・・流入孔、6・・
・排出孔、      7・・・冷却器、8・・・回流
ポンプ、     9・・・外被。 10・・・配線基板、     11・・・光導波管、
12・・・入出力コネクタ、  13・・放熱カバー(
a) (b) (C) 第 図 第 図(d) 第 図 第 図 (b) (C) 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数の半導体チップからなる半導体装置において、前記
    各半導体チップのパッケージに受光および発光素子を組
    み込み、これら素子を対向させることによって前記半導
    体チップ間の回路接続を行うことを特徴とする半導体装
    置。
JP2257473A 1990-09-28 1990-09-28 半導体装置 Pending JPH04137673A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2257473A JPH04137673A (ja) 1990-09-28 1990-09-28 半導体装置
US08/838,322 US5834841A (en) 1990-09-28 1997-04-08 Semiconductor device enabling temperature control in the chip thereof
US08/892,203 US5973401A (en) 1990-09-28 1997-07-14 Semiconductor device enabling temperature control in the chip thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2257473A JPH04137673A (ja) 1990-09-28 1990-09-28 半導体装置

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JPH04137673A true JPH04137673A (ja) 1992-05-12

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JP (1) JPH04137673A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09259142A (ja) * 1996-03-26 1997-10-03 Mitsubishi Electric Corp ローマ字/かな表記からの地名検索装置
JP2006523428A (ja) * 2003-04-02 2006-10-12 サン・マイクロシステムズ・インコーポレイテッド 対面した半導体チップ間の光通信
WO2009113141A1 (ja) * 2008-03-11 2009-09-17 パナソニック株式会社 集積回路パッケージ
WO2011132310A1 (ja) * 2010-04-23 2011-10-27 株式会社日立製作所 情報処理装置、及び、半導体記憶装置

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WO2011132310A1 (ja) * 2010-04-23 2011-10-27 株式会社日立製作所 情報処理装置、及び、半導体記憶装置

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