JPH04133478A - Double hetero-junction type semiconductor light emitting element - Google Patents

Double hetero-junction type semiconductor light emitting element

Info

Publication number
JPH04133478A
JPH04133478A JP2256578A JP25657890A JPH04133478A JP H04133478 A JPH04133478 A JP H04133478A JP 2256578 A JP2256578 A JP 2256578A JP 25657890 A JP25657890 A JP 25657890A JP H04133478 A JPH04133478 A JP H04133478A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor crystal
semiconductor
layer
crystal layer
light emitting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2256578A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2997689B2 (en
Inventor
Akinori Katsui
勝井 明憲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP25657890A priority Critical patent/JP2997689B2/en
Publication of JPH04133478A publication Critical patent/JPH04133478A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2997689B2 publication Critical patent/JP2997689B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/30Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
    • H01S5/32Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
    • H01S5/327Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIBVI compounds, e.g. ZnCdSe-laser

Abstract

PURPOSE:To enable a semiconductor light emitting element to emit visible rays of green to blue light short in wavelength by a method wherein a semiconductor crystal substrate is formed of ZnTe, a first, a second, and a third semiconductor crystal layer are formed of MgxZn1-xTe, and a figure of X in the composition of the second semiconductor crystal layer is specified. CONSTITUTION:In a double hetero-junction type semiconductor light emitting element, a semiconductor crystal substrate 1 is formed of ZnTe. A semiconductor laminated body 5 composed of a first, a second, and a third semiconductor crystal layer, 2, 3, and 4, is formed of MgxZn1-xTe (0<x<1). At this point, X in the composition MgxZn1-xTe of the second semiconductor crystal layer 3 serving as an active layer is set smaller than those of the first and the third semiconductor layer, 2 and 4, which serve as clad layers.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本発明は、可視短波長を有する発光が得られるダブルヘ
テロ接合型半導体発光素子に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a double heterojunction semiconductor light emitting device that can emit light having a visible short wavelength.

【従来の技術】[Conventional technology]

従来、第1の導電型を有する半導体結晶基板上に、第1
の導電型を有する第1のクラッド層としての第1の半導
体結晶層と、第1の導電型を与える不純物または第1の
導電型とは逆の第2の導電型を与える不純物のいずれも
意図的に導入させていないか導入させているとしても十
分低い濃度でしか導入させていず且つ上記第1の半導体
結晶層に比し狭いエネルギバンドギャップを有する活性
層としての第2の半導体結晶層と、第2の導電型を有し
且つ上記第2の半導体結晶層に比し広いエネルギバンド
ギャップを有する第2のクラッド層としての第3の半導
体結晶層とがそれらの順に積層されている構成を有する
半導体積層体が形成され、そして、半導体結晶基板の半
導体積層体側とは反対側の面上に第1の電極層がオーミ
ックに付され、また、半導体積層体側とは反対側の面上
に第2の電極層がオーミックに付されているダブルヘテ
ロ接合型半導体発光素子が提案されている。 このような構成を有する従来のダブルヘテロ接合型半導
体発光素子によれば、第1及び第2の電極層間に、所要
の電源を所要の極性で接続すれば、半導体積層体の活性
層としての第2の半導体結晶層に電流が注入され、それ
によって、活性層としての第2の半導体結晶層で、その
エネルギバンドギャップに応じた波長を有する発光が得
られ、その光が、活性層としての第2の半導体結晶層内
を第1及び第2のクラッド層としての第1及び第3の半
導体結晶層によって閉じ込められて伝播し、活性層とし
ての第2の半導体結晶層の端面から外部に放射される。 また、上述した構成を有する従来のダブルヘテロ接合型
半導体発光素子によれば、上述した光の放射が得られる
とき、上述したように活性層としての第2の半導体結晶
層で発光した光が、第1及び第2のクラッド層としての
第1及び第3の半導体結晶層によって閉じ込められると
ともに、活性層としての第2の半導体結晶層に注入され
る電流にもとずく、活性層としての第2の半導体結晶層
におけるキャリアも第1及び第2のクラッド層としての
第1及び第3の半導体結晶層によって閉じ込められるた
め、上述した光の放射を高い効率で得ることができる。
Conventionally, a first semiconductor crystal substrate having a first conductivity type is formed on a semiconductor crystal substrate having a first conductivity type.
A first semiconductor crystal layer as a first cladding layer having a conductivity type of a second semiconductor crystal layer serving as an active layer that is not introduced at a high concentration or is introduced only at a sufficiently low concentration and has a narrower energy band gap than the first semiconductor crystal layer; , and a third semiconductor crystal layer serving as a second cladding layer having a second conductivity type and having a wider energy band gap than the second semiconductor crystal layer are laminated in this order. A first electrode layer is ohmically applied on the surface of the semiconductor crystal substrate opposite to the semiconductor layered body, and a first electrode layer is ohmically applied on the surface of the semiconductor crystal substrate opposite to the semiconductor layered body. A double heterojunction semiconductor light emitting device in which two electrode layers are ohmic has been proposed. According to the conventional double-heterojunction semiconductor light emitting device having such a configuration, if a required power source is connected with the required polarity between the first and second electrode layers, the second electrode layer can be used as the active layer of the semiconductor stack. A current is injected into the second semiconductor crystal layer, whereby the second semiconductor crystal layer as an active layer emits light having a wavelength corresponding to its energy band gap, and the light is transmitted to the second semiconductor crystal layer as an active layer. The light propagates within the second semiconductor crystal layer while being confined by the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers, and is emitted to the outside from the end face of the second semiconductor crystal layer as the active layer. Ru. Further, according to the conventional double heterojunction semiconductor light emitting device having the above-described configuration, when the above-mentioned light emission is obtained, the light emitted from the second semiconductor crystal layer as the active layer as described above is Based on the current that is confined by the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers and injected into the second semiconductor crystal layer as the active layer, the second semiconductor crystal layer as the active layer Since carriers in the semiconductor crystal layer are also confined by the first and third semiconductor crystal layers serving as the first and second cladding layers, the above-mentioned light emission can be obtained with high efficiency.

【発明が解決しようとする課題】[Problem to be solved by the invention]

上述した構成を有する従来のダブルヘテロ接合型半導体
発光素子においては、上述したように発光を得ることが
できるが、その発光が緑色光乃至青色光でなる可視短波
長を有する光で得られるダブルヘテロ接合型半導体発光
素子は、活性層としての第2の半導体結晶層を構成する
半導体材料として、Zn5e、GaNなどの可視短波長
を有する発光が可能なエネルギバンドギャップを有する
半導体材料が知られていることによって、活性層として
の第2の半導体結晶層をそのような半導体材料で構成し
たとしても、その場合に、第1及び第3の半導体結晶層
が第1の半導体結晶層とともに半導体結晶基板と格子整
合していること、第1のクラッド層としての第1の半導
体結晶層及び第2のクラッド層としての第3の半導体結
晶層が比較的低い比抵抗を呈していることとを同時に十
分満足させる半導体結晶基板、及び第1及び第3の半導
体結晶層を構成する半導体材料が見出されていなかった
ことから、はとんど実現されていなかった。 よって、本発明は、緑色光乃至青色光でなる可視短波長
を有する発光が得られる、新規なダブルヘテロ接合型半
導体発光素子を提案せんとするものである。
In the conventional double-heterojunction type semiconductor light-emitting device having the above-mentioned configuration, it is possible to obtain light emission as described above. In a junction type semiconductor light emitting device, a semiconductor material having an energy band gap capable of emitting light having a visible short wavelength, such as Zn5e or GaN, is known as a semiconductor material constituting a second semiconductor crystal layer as an active layer. Therefore, even if the second semiconductor crystal layer as an active layer is made of such a semiconductor material, in that case, the first and third semiconductor crystal layers, together with the first semiconductor crystal layer, may be combined with the semiconductor crystal substrate. It satisfies the following: lattice matching, and the first semiconductor crystal layer serving as the first cladding layer and the third semiconductor crystal layer serving as the second cladding layer exhibiting a relatively low resistivity. Since a semiconductor crystal substrate capable of forming a semiconductor crystal and a semiconductor material constituting the first and third semiconductor crystal layers have not been found, this method has hardly been realized. Therefore, it is an object of the present invention to propose a novel double heterojunction type semiconductor light emitting device that can emit green to blue light having a visible short wavelength.

【WR題を解決するための手段】[Means to solve the WR problem]

本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子は、従
来提案されているダブルヘテロ接合型半導体発光素子の
場合と同様に、■第1の導電型を有する半導体結晶基板
上に、第1の導電型を有する第1のクラッド層としての
第1の半導体結晶層と、第1の導電型を与える不純物ま
たは第1の導電型とは逆の第2の導電型を与える不純物
のいずれも意図的に導入させていないか導入させている
としても十分低い濃度でしか導入させていず且つ上記第
1の半導体結晶層に比し狭いエネルギバンドギャップを
有する活性層としての第2の半導体結晶層と、第2の導
電型を有し且つ上記第2の半導体結晶層に比し拡いエネ
ルギバンドギャップを有する第2のクラッド層としての
第3の半導体結晶層とがそれらの順に積層された構成を
有する半導体積層体が形成され、そして、■上記半導体
結晶基板の上記半導体積層体側とは反対側の面上に第1
の電極層がオーミックに付され、また、■上記半導体積
層体の上記半導体結晶基板側とは反対側の面上に第2の
電極層がオーミックに付されている構成を有する。 しかしながら、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体
発光素子は、このような構成を有するダブルヘテロ接合
型半導体発光素子において、■上記半導体結晶基板がZ
nTeでなり、また、■上記第1、第2及び第3の半導
体結晶層が、ともにtvlZnTe(ただし、0〈x〈
x   1−x 1)でなり、■ただし、上記第2の半導体結晶層のMg
 ZnTeに−おけるXが、上記第×1−× 1及び第3の半導体結晶層のMcxZnTxl−× eにおけるXに比し小さな値を有する。
The double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention is similar to the conventionally proposed double heterojunction type semiconductor light emitting device. A first semiconductor crystal layer as a first cladding layer having an impurity that provides a first conductivity type or an impurity that provides a second conductivity type opposite to the first conductivity type is intentionally introduced. a second semiconductor crystal layer serving as an active layer, which is not introduced or is introduced only at a sufficiently low concentration and has a narrower energy band gap than the first semiconductor crystal layer; a third semiconductor crystal layer as a second cladding layer having a conductivity type and a wider energy band gap than the second semiconductor crystal layer, and a semiconductor stacked body having a structure in which these layers are stacked in this order is formed, and (1) a first layer is formed on the surface of the semiconductor crystal substrate opposite to the semiconductor stacked body side.
The second electrode layer is ohmically applied, and (2) a second electrode layer is ohmically applied on the surface of the semiconductor laminate opposite to the semiconductor crystal substrate. However, in the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention having such a configuration, (1) the semiconductor crystal substrate is Z
(1) The first, second and third semiconductor crystal layers are all made of tvlZnTe (where 0〈x〈
x 1-x 1), () However, Mg of the second semiconductor crystal layer
X in ZnTe has a smaller value than X in McxZnTxl-e of the x1-x1 and third semiconductor crystal layers.

【作用・効果】[Action/effect]

本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子は、見
掛上、半導体結晶基板、及び第1、第2及び第3の半導
体結晶層を構成している半導体材料の何たるかを問わな
い限り、前述した従来のダブルヘテロ接合型半導体発光
素子の場合と同様の構成を有する。 このため、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光
素子の場合も、前述した従来のダブルヘテロ接合型半導
体発光素子の場合と同様に、第1及び第2の電極層間に
、所要の電源を所要の極性で接続すれば、半導体積層体
の活性層としての第2の半導体結晶層に電流が注入され
、それによって活性層としての第2の半導体結晶層でそ
のエネルギバンドギャップに応じた波長を有する発光が
得られ、その光が、活性層としての第2の半導体結晶層
内を第1及び第2のクラッド層としての第1及び第3の
半導体結晶層によって閉じ込められて伝播し、活性層と
しての第2の半導体結晶層の端面から外部に放射される
。 また、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子
によれば、前述した従来のダブルヘテロ接合型半導体発
光素子の場合と同様に、上述した光の放射が得られると
き、上述したように活性層としての第2の半導体結晶層
で発光した光が、第1及び第2のクラッド層としての第
1及び第3の半導体結晶層によって閉じ込められるとと
もに、活性層としての第2の半導体結晶層に注入される
電流にもとずく、活性層としての第2の半導体結晶層に
おけるキャリアも、第1及び第2のクラッド層としての
第1及び第3の半導体結晶層によって閉じ込められるた
め、上述した光の放射を高い効率で得ることができる。 しかしながら、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体
発光素子の場合、活性層としての第2の半導体結晶層、
及び第1及び第2のクラッド層としての第1及び第3の
半導体結晶層が、ともにMgX Zn1−x TeT”
なり、そして、MqZnTeは、そのX(7)値に対し
、XのX   1−x 値がOである場合の約2.3eVの値からXの値が大に
なるのに応じて直線的に大きな値(例えばX=0.6の
場合、約3.OeVの値)にむるエネルギバンドギャッ
プを有することから、活性層としての第2の半導体結晶
層が、緑色光乃至青色光でなる可視短波長を発光し得る
エネルギバンドギャップを有している。 また、活性層としての第2の半導体結晶層のMQZnT
eにおけるXが、第1及び第x   1−x 2のクラッド層としての第1及び第3の半導体結晶層の
Mg ZnTeにおけるXに比し×1−× 小さい値を有することから、第1及び第2のクランド層
としての第1及び第3の半導体結晶層が、活性層として
の第2の半導体結晶層に比し広いエネルギバンドギャッ
プを有している。 さらに、半導体結晶基板のZnTeが、第1、第2及び
第3の半導体結晶層のMg Zn1−x× Teにおける×がOである場合の半導体材料であること
から、第1、第2及び第3の半導体結晶層と半導体結晶
基板とが、互に格子整合するに十分な互にほぼ等しい格
子定数を有する。 また、第1のクラッド層としての第1の半導体結晶層が
、Mg ZnTeでなることに×1−× よって、第1の導電型を与える不純物を比較的高濃度に
導入させることができ、よって、第1のクラッド層とし
ての第1の半導体結晶層を、比較的低い比抵抗を有する
ものとすることができる。 さらに、第2のクラッド層としての第3の半導体結晶層
が、第1のクラッド層としての第1の半導体結晶層の場
合に準じて、vq  Zn1−xTeでなることによっ
て、第1の導電型を与える不純物を比較的高濃度に導入
させることができ、よって、第2のクラッド層としての
第3の半導体結晶層を、比較的低い比抵抗を有するもの
とすることができる。 以上のことから、本発明によるダブルヘテロ接合型半導
体発光素子によれば、第1及び第2のクラッド層として
の第1及び第3の半導体結晶層が、活性層としての第1
の半導体結晶層とともに、半導体結晶基板と格子整合し
ていること、第1のクラッド層としての第1の半導体結
晶層及び第2のクラッド層としての第3の半導体結晶層
がともに比較的低い比抵抗を呈していることとを同時に
十分満足して、緑色光乃至青色光でなる可視短波長を有
する発光を得ることができる。
The double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention can be applied to the above-mentioned semiconductor light emitting device as long as it does not matter what kind of semiconductor material the semiconductor crystal substrate and the first, second and third semiconductor crystal layers are made of. It has a configuration similar to that of a conventional double heterojunction semiconductor light emitting device. Therefore, in the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention, as in the case of the conventional double heterojunction semiconductor light emitting device described above, the required power supply is applied between the first and second electrode layers. If the polarity is connected, a current is injected into the second semiconductor crystal layer serving as the active layer of the semiconductor stack, which causes the second semiconductor crystal layer serving as the active layer to emit light with a wavelength corresponding to its energy band gap. is obtained, and the light propagates within the second semiconductor crystal layer as the active layer while being confined by the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers. The light is emitted to the outside from the end face of the second semiconductor crystal layer. Further, according to the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention, when the above-mentioned light emission is obtained, as in the case of the conventional double heterojunction type semiconductor light emitting device described above, as described above, the active layer is Light emitted from the second semiconductor crystal layer is confined by the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers, and is injected into the second semiconductor crystal layer as the active layer. The carriers in the second semiconductor crystal layer as the active layer due to the current are also confined by the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers, so that the above-mentioned light emission is prevented. can be obtained with high efficiency. However, in the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention, the second semiconductor crystal layer as the active layer,
The first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers are both MgX Zn1-x TeT"
Then, MqZnTe linearly changes as the value of X increases from about 2.3 eV when the X 1-x value of X is O for its X(7) value. Since it has an energy band gap close to a large value (for example, a value of about 3.0eV when It has an energy band gap that allows it to emit light at a certain wavelength. Moreover, MQZnT of the second semiconductor crystal layer as an active layer
Since X in e has a value x1-x smaller than that in MgZnTe of the first and third semiconductor crystal layers as the first and x1-x2 cladding layers, the first and The first and third semiconductor crystal layers serving as the second ground layer have a wider energy band gap than the second semiconductor crystal layer serving as the active layer. Furthermore, since ZnTe of the semiconductor crystal substrate is a semiconductor material when x in Mg Zn1-xx Te of the first, second and third semiconductor crystal layers is O, The semiconductor crystal layer of No. 3 and the semiconductor crystal substrate have substantially equal lattice constants sufficient to lattice match each other. In addition, since the first semiconductor crystal layer as the first cladding layer is made of MgZnTe, it is possible to introduce impurities giving the first conductivity type at a relatively high concentration. , the first semiconductor crystal layer serving as the first cladding layer can have a relatively low resistivity. Furthermore, the third semiconductor crystal layer as the second cladding layer is made of vq Zn1-xTe, similar to the case of the first semiconductor crystal layer as the first cladding layer, so that it has the first conductivity type. It is possible to introduce an impurity at a relatively high concentration to give the same, and therefore, the third semiconductor crystal layer serving as the second cladding layer can have a relatively low resistivity. From the above, according to the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention, the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers are the same as the first and third semiconductor crystal layers as the active layer.
The first semiconductor crystal layer as the first cladding layer and the third semiconductor crystal layer as the second cladding layer both have a relatively low ratio. It is possible to obtain light emission having a visible short wavelength consisting of green light or blue light while sufficiently satisfying the requirements of resistance.

【実施例1】 次に、第1図を伴って、本発明によるダブルヘテロ接合
型半導体発光素子の第1の実施例を述べよう。 第1図に示す本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発
光素子は、前述した従来のダブルヘテロ接合型半導体発
光素子の場合と同様に、第1の導電型としての例えばp
型を有する半導体結晶基板1上に、第1の導電型として
のp型を有する第1のクラッド層としての第1の半導体
結晶層2と、第1の導電型としてのp型を与える不純物
または第2の導電型としてのn型を与える不純物のいず
れも意図的に導入させていないか導入させているとして
も十分低い濃度でしか導入させていない活性層としての
第2の半導体結晶層3と、第2の導電型としてのn型を
有する第2のクラッド層としての第2の半導体結晶層4
とがそれらの順に積層されている構成を有する半導体積
層体5が形成されている。 また、前述した従来のダブルヘテロ接合型半導体発光素
子の場合と同様に、半導体結晶基板1の半導体積層体5
側とは反対側の面上に第1の電極層6がオーミックに付
され、また、半導体積層体5の半導体結晶基板1側とは
反対側の面上に第2の電極層7がオーミックに付されて
いる。 しかしながら、第1図に示す本発明によるダブルヘテロ
接合型半導体発光素子は、半導体結晶基板1がZnTe
でなる。 また、半導体積層体5を構成してい′る第1、第2及び
第3の半導体結晶層2.3及び4が、ともにMQX Z
n1−x Terなる。 ただし、この場合、第1及び第2のクラッド層としての
第1及び第3の半導体結晶H2及び4のMQZnTeに
おけるXが、ともにX   1−X 例えば0.5でなり、そして、活性層としての第2の半
導体結晶層3のMqZnTeにx     1−x おけるXが、第1及び第2のクラッド層としての第1及
び第2の半導体結晶層2及び4ののMg ZnTeにお
けるXの値0.5に比し×1−× 小さな例えば0.25の値を有し、従って、第1及び第
2のクラッド層としての第1及び第3の半導体結晶層2
及び4が、Mo   ZnO,50,5 Teでなり、また、活性層としての第2の半導体結晶層
3が、M Q    Z n    T e F す0
.25   0.75 る。 また、第1のクラッド層としてのp型を有する第1の半
導体結晶層2は、それにL+、N、PSAsまたはsb
が導入されていることによってp型を有し、また、第2
のクラッド層としてのn型を有する第3の半導体結晶層
4は、それにAI、Ga、IまたはC1が導入されてぃ
ることによって、n型を有している。なお、活性層とし
て第2の半導体結晶層3がn型またはn型を有する場合
、そのn型またはn型は上述した不純物を導入すること
によって得られる。 なお、上述した半導体結晶層2.3及び4は、分子線エ
ピタキシャル成長法、有機金属気相成長法などのそれ自
体は公知の方法によって形成し得る。 以上が、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素
子の第1の実施例の構成である。 このような本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光
素子は、見掛上、半導体結晶基板1、及び第1、第2及
び第3の半導体結晶層2.3及び4を構成している半導
体材料の何たるかを問わない限り、前述した従来のダブ
ルヘテロ接合型半導体発光素子の場合と同様の構成を有
する。 このため、第1図に示す本発明によるダブルヘテロ接合
型半導体発光素子の場合も、前述した従来のダブルヘテ
ロ接合型半導体発光素子の場合と同様に、第1及び第2
の電極層6及び7間に、所要の電源を所要の極性(本例
の場合、第2の電極層7側を正とする)で接続すれば、
半導体積層体5の活性層としての第2の半導体結晶層3
に電流が注入され、それによって活性層としての第2の
半導体結晶層3でそのエネルギバンドギャップに応じた
波長を有する発光が得られ、その光が、活性層としての
第2の半導体結晶層3内を第1及び第2のクラッド層と
しての第1及び第3の半導体結晶層2及び4によって閉
じ込められて伝播し、活性層としての第2の半導体結晶
層3の端面から外部に放射される。 また、第1図に示す本発明によるダブルヘテロ接合型半
導体発光素子によれば、前述した従来のダブルヘテロ接
合型半導体発光素子の場合と同様に、上述した光の放射
が得られるとき、上述したように活性層としての第2の
半導体結晶層3で発光した光が、第1及び第2のクラッ
ド層としての第1及び第3の半導体結晶層2及び4によ
って閉じ込められるとともに、活性層としての第2の半
導体結晶層3に注入される電流にもとすく、活性層とし
ての第2の半導体結晶層3におけるキャリアも、第1及
び第2のクラット層としての第1及び第3の半導体結晶
層2及び4によって閉じ込められるため、上述した光の
放射を高い効率で得ることができる。 しかしながら、第1図に示す本発明によるダブルヘテロ
接合型半導体発光素子の場合、活性層としての第2の半
導体結晶層3、及び第1及び第2のクラッド層としての
第1及び第3の半導体結晶層2及び4が、ともにM o
  Z n 1−xTeでなり、そして、MQ  Zn
   Tei、t、x   1−x そのXの値に対し、Xの値がOである場合の約2.3e
Vの値からXの値が大になるのに応じて直線的に大きな
値(例えばx=0.6の場合、約3.OeVの値)にな
るエネルギバンドギャップを有するが、活性層としての
第2の半導体結晶層3がMQ    Zn    Te
でなり、0.25   0.75 そのMgO,25Zn O,75Teが約2.53e■
のエネルギバンドギャップを有することから、活性層と
しての第2の半導体結晶層3が、青色光でなる可視短波
長を発光し得るエネルギバンドギャップを有している。 また、活性層としての第2の半導体結晶層3のMqZn
TeにおけるXの値(0,2×1−x 5)が、第1及び第2のクラッド層としての第1及び第
3の半導体結晶層2及び4のMg Zn、−xTeにお
けるXの値(0,5>に比し小さい値を有していて、第
1及び第2のクラッド層としての第1及び第3の半導体
結晶層2及び4がともにMQ   Zn   Teでな
ることか0.5  0.5 ら、第1及び第2のクラッド層としての第1及び第3の
半導体結晶層2及び4が、活性層としての第2の半導体
結晶層3に比し広いエネルギバンドギャップを有してい
る。 さらに、半導体結晶基板1のZnTeが、第1、第2及
び第3の半導体結晶層2.3及び4のMg ZnTeに
おけるXが0である場x   1−x 合の半導体材料であることから、第1、第2及び第3の
半導体結晶層2.3及び4と半導体結晶基板1とが、互
に格子整合するに十分な互にほぼ等しい格子定数を有す
る。 また、第1のクラッド層としての第1の半導体結晶層2
が、Mg ZnTeでなることx   1−x によって、第1の導電型としてのn型を与える上述した
不純物を比較的高濃度に導入させることができ、よって
、第1のクラッド層としての第1の半導体結晶層2を、
比較的低い比抵抗を有するものとすることができる。 さらに、第2のクラッド層としての第3の半導体結晶W
4が、第1のクラッド層としての第1の半導体結晶層2
の場合に準じて、M(JxZn 1−x T eでなる
ことによって、第1の導電型としてのp型を与える不純
物を比較的^濃度に導入させることができ、よって、第
2のクラッド層としての第3の半導体結晶層4を、比較
的低い比抵抗を有するものとすることができる。 以上のことから、第1図に示す本発明によるダブルヘテ
ロ接合型半導体発光素子によれば、第1及び第2のクラ
ッド層としての第1及び第3の半導体結晶層が、活性層
としての第1の半導体結晶層3とともに半導体結晶基板
1と格子整合していること、第1のクラッド層としての
第1の半導体結晶層2及び第2のクラッド層としての第
3の半導体結晶層4が比較的低い比抵抗を呈しているこ
ととを同時に十分満足して、青色光でなる可視短波長を
有する発光を得ることができる。 【実施例2] 次に、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子
の第2の実施例を述べよう。 本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子は、見
掛上、半導体結晶基板1、及び第1、第2及び第3の半
導体結晶層2.3及び4を構成している半導体材料の何
たるかの詳細を問わない限り、第1図を伴って上述した
本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の場合
と同様の構成を有する。従って、図示詳細説明はしない
。 しかしながら、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体
発光素子の第2の実施例は、第1及び第2のクラッド層
としての第1及び第3の半導体結晶層2及び4のM g
  Zn 1−x T eのXが、0.5であり、また
、活性層としての半導体結晶層のMg Zn   Te
のXが、0.2x     1−x 5であることによって、第1及び第2のクラッド層とし
ての第1及び第3の半導体結晶層2及び4がMa   
Zn   Terなり、マタ、活o、s   o、s 性層としての第3の半導体結晶層3がM(10,2Zn
   Teでなる第1図で上述した本尺5   0.7
5 明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の第1の実
施例の場合に代え、第1及び第2のクランド層としての
第1及び第3の半導体結晶層2及び4のMg Zn  
TeのXが、0.4x   1−x であり、従って、第1及び第2のクラッド層としての第
1及び第3の半導体結晶層2及び4が、M O□、4Z
 n  0.6T eでなり、また、活性層としての第
3の半導体結晶層3のvq  Zn1−xTeのXが0
.1であり、従って、活性層としての第3の半導体結晶
層3が、Mg  ZnO110 9Teでなることを除いて、第1図で上述した本発明に
よるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の第1の実施例
の場合と同様の構成を有する。 以上が、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素
子の第2の実施例の構成である。 このような本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光
素子によれば、それが、上述した事項を除いて、第1図
で上述した本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光
素子と同様の構成を有するので、第1図で上述した本発
明によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の°場合と
同様に、光の放射を高い効率で得ることができる。 しかしながら、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体
発光素子の第1の実施例の場合、活性層としての第1の
半導体結晶層、及び第1及び第2のクラッド層としての
第1及び第3の半導体結晶層が第1図で上述した本発明
によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の場合と同様
にMgx Zn1−x Teでなるが、活性層とじての
第2の半導体結晶層3がMg・ Zn   Tol  
09 eでなり、そのMQ   Zn   Teが約2゜0.
1  09 3eVのエネルギバンドギャップを有することから、活
性層としての第2の半導体結晶層3が緑色光でなる可視
短波長を発光し得るエネルギバンドギャップを有してい
る。 また、第1及び第2のクラッド層としての第1及び第3
の半導体結晶層2及び4がともにMOo、4Zn   
Teでなることから、第1及び0.6 第2のクラッド層としての第1及び第3の半導体結晶層
2及び4が、活性層としての第2の半導体結晶層3に比
し広いエネルギバンドギャップを有している。 さらに、半導体結晶基板1が、第1図で上述した本発明
によるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の場合と同様
に、ZnTeでなることがら、第1、第2及び第3の半
導体結晶層2.3及び4と半導体結晶基板1とが、第1
図で上述した本発明によるダブルヘテロ接合型¥導体発
光素子の場合と同様に、互に格子整合するに十分な互に
ほぼ等しい格子定数を有する。 また、第1及び第2のクラッド層としての第1及び第3
の半導体結晶層2及び4が、第1図で上述した本発明に
よるダブルヘテロ接合型半導体発光素子の場合と同様に
MGX Z nl−x Teでなることから、n型及び
p型を与える不純物を、第1図で上述した本発明による
ダブルヘテロ接合型半導体発光素子の場合と同様に比較
的高濃度にそれぞれ導入させることができ、よって、第
1及び第2のクラッド層としての第1及び第3の半導体
結晶層を、第1図で上述した本発明によるダブルヘテロ
接合型半導体発光素子の場合と同様に、比較的低い比抵
抗を有するものとすることができる。 以上のことから、本発明によるダブルヘテロ接合型半導
体発光素子の第2の実施例によれば、第1及び第2のク
ラッド層としての第1及び第3の半導体結晶層が、活性
層としての第1の半導体結晶層3とともに半導体結晶基
板1と格子整合していること、第1のクラッド層として
の第1の半導体結晶層2及び第2のクラッド層としての
第3の半導体結晶層4が比較的低い比抵抗を呈している
こととを第1図で上述した本発明によるダブルヘテロ接
合型半導体発光素子の場合と同様に、同時に十分満足し
、しかしながら緑色光でなる可視短波長を有する発光を
得ることができる。 なお、上述においては、本発明によるダブルヘテロ接合
型半導体発光素子の2つの実施例を小したに留まり、第
1のクラッド層としての第1の半導体結晶層2と半導体
結晶基板1との間に第1の導電型としてのp型を有する
バッファ層としてのZnTe乃至MgxZn1−xTe
系でなる半導体結晶層が介挿されていたり、第2のクラ
ッド層としての第3の半導体結晶層3と電極層7との間
にn+型を有する電極付用層としてのZnTe乃至Mg
xZn1−xTe系でなる半導体結晶層が介挿されてい
たりする構成とすることもでき、また、上述した実施例
において、p型をn型、n型をp型と読み替えた構成と
することもでき、その他、本発明の精神を脱することな
しに、種々の変型、変更をなし得るであろう。
Embodiment 1 Next, a first embodiment of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention will be described with reference to FIG. The double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention shown in FIG. 1 has a first conductivity type, e.g.
A first semiconductor crystal layer 2 as a first cladding layer having p-type as a first conductivity type, and an impurity or A second semiconductor crystal layer 3 as an active layer in which none of the impurities that give n-type conductivity as the second conductivity type are intentionally introduced, or even if they are introduced, they are introduced only at a sufficiently low concentration; , a second semiconductor crystal layer 4 as a second cladding layer having n-type as the second conductivity type.
A semiconductor laminate 5 is formed in which these are stacked in that order. Further, as in the case of the conventional double heterojunction type semiconductor light emitting device described above, the semiconductor stack 5 of the semiconductor crystal substrate 1 is
A first electrode layer 6 is ohmically applied on the surface opposite to the semiconductor crystal substrate 1 side, and a second electrode layer 7 is ohmically applied on the surface of the semiconductor laminate 5 opposite to the semiconductor crystal substrate 1 side. It is attached. However, in the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention shown in FIG. 1, the semiconductor crystal substrate 1 is made of ZnTe.
It becomes. Furthermore, the first, second and third semiconductor crystal layers 2.3 and 4 constituting the semiconductor stack 5 are all made of MQX Z.
n1-x Ter. However, in this case, X in the MQZnTe of the first and third semiconductor crystals H2 and 4 as the first and second cladding layers are both X 1-X, for example 0.5, and as the active layer The value of X in MgZnTe of the first and second semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers is 0. Therefore, the first and third semiconductor crystal layers 2 as the first and second cladding layers have a value of ×1−× smaller than 5, for example, 0.25.
and 4 are made of Mo ZnO, 50,5 Te, and the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer is made of M Q Z n T e F s0
.. 25 0.75 ru. Further, the first semiconductor crystal layer 2 having p-type as the first cladding layer is L+, N, PSAs or sb
has p-type due to the introduction of
The third semiconductor crystal layer 4 having an n-type as a cladding layer has an n-type by introducing AI, Ga, I, or C1 into it. Note that when the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer is n-type or has n-type, the n-type or n-type can be obtained by introducing the above-mentioned impurity. Note that the semiconductor crystal layers 2.3 and 4 described above can be formed by a method known per se, such as molecular beam epitaxial growth or metal organic vapor phase epitaxy. The above is the configuration of the first embodiment of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention. Such a double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention apparently consists of the semiconductor materials constituting the semiconductor crystal substrate 1 and the first, second and third semiconductor crystal layers 2.3 and 4. Regardless of what it is, it has the same configuration as the conventional double heterojunction semiconductor light emitting device described above. Therefore, in the case of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention shown in FIG. 1, the first and second
If a required power source is connected between the electrode layers 6 and 7 with the required polarity (in this example, the second electrode layer 7 side is positive),
Second semiconductor crystal layer 3 as active layer of semiconductor stack 5
A current is injected into the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer, thereby emitting light having a wavelength corresponding to the energy band gap of the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer. The light propagates within the interior while being confined by the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers, and is emitted to the outside from the end face of the second semiconductor crystal layer 3 as the active layer. . Furthermore, according to the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention shown in FIG. The light emitted from the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer is confined by the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers, and Because of the current injected into the second semiconductor crystal layer 3, the carriers in the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer are also transferred to the first and third semiconductor crystals as the first and second crat layers. Due to the confinement by layers 2 and 4, the above-mentioned light emission can be obtained with high efficiency. However, in the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention shown in FIG. Both crystal layers 2 and 4 are Mo
Zn 1-xTe, and MQ Zn
Tei, t, x 1-x For that value of X, approximately 2.3e when the value of X is O
It has an energy bandgap that increases linearly as the value of The second semiconductor crystal layer 3 is MQ Zn Te
0.25 0.75 The MgO, 25Zn O, 75Te is about 2.53e■
Therefore, the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer has an energy band gap that allows it to emit visible short wavelength light consisting of blue light. Moreover, MqZn of the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer
The value of X at Te (0,2×1−x 5) is the value of X at MgZn,−xTe of the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers ( 0,5>, and the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers are both made of MQ Zn Te.0.5 0 .5, the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers have a wider energy band gap than the second semiconductor crystal layer 3 as the active layer. Further, ZnTe of the semiconductor crystal substrate 1 is a semiconductor material in the case where x in the MgZnTe of the first, second and third semiconductor crystal layers 2.3 and 4 is 0. Therefore, the first, second and third semiconductor crystal layers 2.3 and 4 and the semiconductor crystal substrate 1 have substantially equal lattice constants that are sufficient to lattice match each other. First semiconductor crystal layer 2 as a layer
However, since x 1-x is made of MgZnTe, the above-mentioned impurity that gives n-type conductivity can be introduced at a relatively high concentration. The semiconductor crystal layer 2 of
It can have a relatively low specific resistance. Furthermore, a third semiconductor crystal W as a second cladding layer
4 is a first semiconductor crystal layer 2 as a first cladding layer;
According to the case of As shown in FIG. The first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers are lattice-matched to the semiconductor crystal substrate 1 together with the first semiconductor crystal layer 3 as the active layer, and as the first cladding layer. The first semiconductor crystal layer 2 and the third semiconductor crystal layer 4 as the second cladding layer exhibit a relatively low resistivity, and at the same time, the visible short wavelength of blue light can be emitted. Example 2 Next, a second example of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention will be described. The double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention has an apparent Unless the details of the semiconductor materials constituting the semiconductor crystal substrate 1 and the first, second and third semiconductor crystal layers 2, 3 and 4 are not asked, the same as described above with reference to FIG. The second embodiment of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention has the same configuration as the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention.Therefore, the detailed description thereof will not be provided.However, the second embodiment of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention M g of the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the second cladding layer
X in Zn 1-x Te is 0.5, and Mg Zn Te in the semiconductor crystal layer as the active layer
Since X is 0.2x 1-x 5, the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers are made of Ma.
The third semiconductor crystal layer 3 as the active layer is M(10,2Zn
Main scale 5 mentioned above in Figure 1 consisting of Te 0.7
5. In place of the first embodiment of the double heterojunction semiconductor light emitting device by Akira Akira, MgZn of the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second ground layers.
X of Te is 0.4x 1-x , therefore, the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and second cladding layers are M O□, 4Z
n 0.6T e, and X of vq Zn1-xTe of the third semiconductor crystal layer 3 as the active layer is 0.
.. 1, and therefore the first implementation of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the invention as described above in FIG. It has the same configuration as the example case. The above is the configuration of the second embodiment of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention. According to such a double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention, it has the same configuration as the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention described above in FIG. 1, except for the above-mentioned matters. Similarly to the case of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention described above with reference to FIG. 1, light emission can be obtained with high efficiency. However, in the case of the first embodiment of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention, the first semiconductor crystal layer as the active layer and the first and third semiconductor layers as the first and second cladding layers. The crystal layer is made of Mgx Zn1-x Te as in the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention described above in FIG. 1, but the second semiconductor crystal layer 3 as the active layer is made of Mg.Zn Tol.
09e, and its MQ Zn Te is approximately 2°0.
Since it has an energy band gap of 1 09 3 eV, it has an energy band gap that allows the second semiconductor crystal layer 3 as an active layer to emit visible short wavelength light consisting of green light. In addition, first and third cladding layers are used as the first and second cladding layers.
The semiconductor crystal layers 2 and 4 are both MOo and 4Zn.
Since it is made of Te, the first and third semiconductor crystal layers 2 and 4 as the first and 0.6 second cladding layers have a wider energy band than the second semiconductor crystal layer 3 as the active layer. There is a gap. Further, since the semiconductor crystal substrate 1 is made of ZnTe as in the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention described above in FIG. 1, the first, second and third semiconductor crystal layers 2. 3 and 4 and the semiconductor crystal substrate 1 are connected to the first
As in the case of the double heterojunction type conductor light emitting device according to the present invention described above with reference to the figures, they have substantially equal lattice constants sufficient to mutually lattice match. In addition, first and third cladding layers are used as the first and second cladding layers.
Since the semiconductor crystal layers 2 and 4 are made of MGX Z nl-x Te as in the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention described above in FIG. , can be introduced at a relatively high concentration as in the case of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention described above in FIG. Similarly to the case of the double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention described above with reference to FIG. 1, the semiconductor crystal layer No. 3 can have a relatively low resistivity. From the above, according to the second embodiment of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention, the first and third semiconductor crystal layers as the first and second cladding layers serve as the active layer. The first semiconductor crystal layer 3 and the semiconductor crystal substrate 1 are lattice matched, and the first semiconductor crystal layer 2 as the first cladding layer and the third semiconductor crystal layer 4 as the second cladding layer are lattice matched with the semiconductor crystal substrate 1. As with the case of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention as described above with reference to FIG. can be obtained. In addition, in the above description, the two embodiments of the double heterojunction type semiconductor light emitting device according to the present invention are merely miniaturized, and there is no space between the first semiconductor crystal layer 2 as the first cladding layer and the semiconductor crystal substrate 1. ZnTe to MgxZn1-xTe as a buffer layer having p type as the first conductivity type
ZnTe or Mg is interposed between the third semiconductor crystal layer 3 as the second cladding layer and the electrode layer 7 as an n+ type electrode layer.
It is also possible to have a structure in which a semiconductor crystal layer made of xZn1-xTe is inserted, and in the above-mentioned embodiments, p-type can be replaced with n-type, and n-type can be replaced with p-type. However, various other modifications and changes may be made without departing from the spirit of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明によるダブルヘテロ接合型半導体発光
素子の第1の実施例を示す路線的断面図である。 1・・・・・・・・・・・・・・・半導体結晶基板2・
・・・・・・・・・・・・・・第1のクラッド層として
の第1の半導体結晶層 3・・・・・・・・・・・・・・・活性層としての第2
の半導体結晶層 4・・・・・・・・・・・・・・・第2のクラッド層と
しての第2の半導体結晶層 5・・・・・・・・・・・・・・・半導体積層体6.7
・・・・・・・・・電極層 出願人  日本電信電話株式会社
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a double heterojunction semiconductor light emitting device according to the present invention. 1... Semiconductor crystal substrate 2.
......First semiconductor crystal layer 3 as first cladding layer ...... Second as active layer
Semiconductor crystal layer 4......Second semiconductor crystal layer 5 as second cladding layer...Semiconductor Laminate 6.7
...... Electrode layer applicant Nippon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の導電型を有する半導体結晶基板上に、第1の導電
型を有する第1のクラッド層としての第1の半導体結晶
層と、第1の導電型を与える不純物または第1の導電型
とは逆の第2の導電型を与える不純物のいずれも意図的
に導入させていないか導入させているとしても十分低い
濃度でしか導入させていず且つ上記第1の半導体結晶層
に比し狭いエネルギバンドギャップを有する活性層とし
ての第2の半導体結晶層と、第2の導電型を有し且つ上
記第2の半導体結晶層に比し拡いエネルギバンドギャッ
プを有する第2のクラッド層としての第3の半導体結晶
層とがそれらの順に積層されている構成を有する半導体
積層体が形成され、 上記半導体結晶基板の上記半導体積層体側とは反対側の
面上に第1の電極層がオーミックに付され、 上記半導体積層体の上記半導体結晶基板側とは反対側の
面上に第2の電極層がオーミックに付されている構成を
有するダブルヘテロ接合型半導体発光素子において、 上記半導体結晶基板がZnTeでなり、 上記第1、第2及び第3の半導体結晶層が、ともにMg
_xZn_1_−_xTe(ただし、0<x<1)でな
り、ただし、上記第2の半導体結晶層のMg_xZn_
1_−_xTeにおけるxが、上記第1及び第3の半導
体結晶層のMg_xZn_1_−_xTeにおけるxに
比し小さな値を有することを特徴とするダブルヘテロ接
合型半導体発光素子。
1. A first semiconductor crystal layer as a first cladding layer having a first conductivity type, and an impurity or a first semiconductor crystal layer having a first conductivity type on a semiconductor crystal substrate having a first conductivity type. Any impurity that gives a second conductivity type opposite to the first conductivity type is not intentionally introduced, or even if it is introduced, it is introduced only at a sufficiently low concentration, and the first semiconductor crystal layer a second semiconductor crystal layer as an active layer having an energy band gap narrower than that of the second semiconductor crystal layer, and a second semiconductor crystal layer having a second conductivity type and having a wider energy band gap than the second semiconductor crystal layer A semiconductor stack is formed in which a third semiconductor crystal layer as a cladding layer is stacked in that order, and a first electrode is formed on a surface of the semiconductor crystal substrate opposite to the semiconductor stack. A double heterojunction semiconductor light emitting device having a structure in which a layer is ohmically applied, and a second electrode layer is ohmically applied on a surface of the semiconductor laminate opposite to the semiconductor crystal substrate side, the above-mentioned The semiconductor crystal substrate is made of ZnTe, and the first, second and third semiconductor crystal layers are all made of Mg.
_xZn_1_-_xTe (0<x<1), provided that Mg_xZn_ of the second semiconductor crystal layer
A double heterojunction semiconductor light emitting device, wherein x in 1_-_xTe has a smaller value than x in Mg_xZn_1_-_xTe of the first and third semiconductor crystal layers.
JP25657890A 1990-09-26 1990-09-26 Double heterojunction semiconductor light emitting device Expired - Fee Related JP2997689B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25657890A JP2997689B2 (en) 1990-09-26 1990-09-26 Double heterojunction semiconductor light emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25657890A JP2997689B2 (en) 1990-09-26 1990-09-26 Double heterojunction semiconductor light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04133478A true JPH04133478A (en) 1992-05-07
JP2997689B2 JP2997689B2 (en) 2000-01-11

Family

ID=17294582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25657890A Expired - Fee Related JP2997689B2 (en) 1990-09-26 1990-09-26 Double heterojunction semiconductor light emitting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2997689B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2997689B2 (en) 2000-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW296489B (en)
JP2000244072A (en) Nitride semiconductor element
WO2006126516A1 (en) Nitride semiconductor light emitting element
JPH0268968A (en) Compound semiconductor light-emitting device
JP3814151B2 (en) Light emitting element
US20110042721A1 (en) Photovoltaic devices
US8362458B2 (en) Nitirde semiconductor light emitting diode
JPH04213878A (en) Semiconductor light-emitting element
US5714014A (en) Semiconductor heterojunction material
JPS60178684A (en) Semiconductor laser
JP2007042771A (en) P-type wide gap semiconductor
JPH04133478A (en) Double hetero-junction type semiconductor light emitting element
JP3633018B2 (en) Semiconductor light emitting device
JPH0371679A (en) Semiconductor light emitting element
KR20140003124A (en) Semiconductor light generating device
JP2000332302A (en) Semiconductor light emitting element
JP2003258303A (en) Photoelectric conversion function element
JP4286983B2 (en) AlGaInP light emitting diode
JPH01169985A (en) Semiconductor laser
CN213304155U (en) Composite Micro-LED chip structure capable of reducing side wall defects
JP2004335792A (en) Oxide semiconductor light emitting device
JPH0487382A (en) Light-emitting element of compound semiconductor
JPH04133479A (en) Double hetero-junction type semiconductor light emitting element
JPS5958878A (en) Semiconductor light emitting device
JP2001036131A (en) AlGaInP LIGHT EMITTING DIODE

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees