JPH04132028A - 情報処理装置及び情報処理方法 - Google Patents
情報処理装置及び情報処理方法Info
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- JPH04132028A JPH04132028A JP25011190A JP25011190A JPH04132028A JP H04132028 A JPH04132028 A JP H04132028A JP 25011190 A JP25011190 A JP 25011190A JP 25011190 A JP25011190 A JP 25011190A JP H04132028 A JPH04132028 A JP H04132028A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 title description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 71
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 50
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 239000011232 storage material Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000010365 information processing Effects 0.000 claims description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 229910002835 Pt–Ir Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000003446 memory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は走査型トンネル顕微鏡(以下STMと呼ぶ)の
原理を応用した情報処理装置及び方法に関する。
原理を応用した情報処理装置及び方法に関する。
尚、本発明で言う情報処理とは、情報の記録、再生、消
去を含めた処理を指す。
去を含めた処理を指す。
[従来の技術]
近年メモリ材料の用途は、コンピュータ及びその関連機
器、ビデオディスク、ディジタルオーディオディスク等
のエレクトロニクス産業の中核をなすものであり、その
材料開発も極めて活発に進んでいる。メモリ材料に要求
される性能は用途により異なる。が、一般的に高密度で
記録容量が大きいことが要求されている。
器、ビデオディスク、ディジタルオーディオディスク等
のエレクトロニクス産業の中核をなすものであり、その
材料開発も極めて活発に進んでいる。メモリ材料に要求
される性能は用途により異なる。が、一般的に高密度で
記録容量が大きいことが要求されている。
最近までは磁性体や半導体を素材とした磁気メモリや半
導体メモリが主であったが、近年のレーザー技術の進展
に伴ない、光メモリが開発され、記録媒体表面の凹凸、
反射率等の差異を利用して、μmオーダーの高密度な記
録再生が可能となっている。この光メモリの記録媒体と
しては、金属又は金属酸化物の薄膜、有機色素薄膜等が
用いられ、レーザー光の熱を利用して、蒸発、溶融等に
より、穴をあけたり反射率を変化させて情報を記録して
おり、かかる方法においては使用するレーザー光のスポ
ット径が記録密度を規定している。
導体メモリが主であったが、近年のレーザー技術の進展
に伴ない、光メモリが開発され、記録媒体表面の凹凸、
反射率等の差異を利用して、μmオーダーの高密度な記
録再生が可能となっている。この光メモリの記録媒体と
しては、金属又は金属酸化物の薄膜、有機色素薄膜等が
用いられ、レーザー光の熱を利用して、蒸発、溶融等に
より、穴をあけたり反射率を変化させて情報を記録して
おり、かかる方法においては使用するレーザー光のスポ
ット径が記録密度を規定している。
一方、最近、導電性物質の電子構造を直接観察できるS
TMが開発されている[G。
TMが開発されている[G。
B1nn1g et al、、He1vetica
Pysica Acta、55,726(198
2)]。このSTMは、単結晶、非晶質を問わず実空間
像が高い分解能で測定出来るようになり、しかも媒体に
電流による損傷を与えずに低電力で観測出来る利点をも
有し、更に大気中でも動作し、種々の材料に対して用い
ることが出来るため、広範囲な応用が期待されている。
Pysica Acta、55,726(198
2)]。このSTMは、単結晶、非晶質を問わず実空間
像が高い分解能で測定出来るようになり、しかも媒体に
電流による損傷を与えずに低電力で観測出来る利点をも
有し、更に大気中でも動作し、種々の材料に対して用い
ることが出来るため、広範囲な応用が期待されている。
上記STMは、金属の探針(プローブ電極)と導電性物
質の間に電圧を加えてlnm程度の距離まで近づけると
トンネル電流が流れることを利用している。この電流は
両者の距離変化に非常に敏感であり、トンネル電流を一
定に保つように探針を走査させることにより、実空間の
表面構造を描くことができると同時に、表面原子の全電
子雲に関する種々の情報をも読み取ることができる。こ
の際、面内方向の分解能はQ、lnm程度である。従っ
て、STMの原理を応用すれば、十分にnmオーダーで
の高密度記録再生が可能である。
質の間に電圧を加えてlnm程度の距離まで近づけると
トンネル電流が流れることを利用している。この電流は
両者の距離変化に非常に敏感であり、トンネル電流を一
定に保つように探針を走査させることにより、実空間の
表面構造を描くことができると同時に、表面原子の全電
子雲に関する種々の情報をも読み取ることができる。こ
の際、面内方向の分解能はQ、lnm程度である。従っ
て、STMの原理を応用すれば、十分にnmオーダーで
の高密度記録再生が可能である。
そこで、nmオーダーという、μmオーダーの光メモリ
ーより更に高密度の記録再生を可能とすべく、従来、上
記STMの原理を応用した記録再生について、電子ビー
ム、イオンビームあるいはX線、光等の電磁波により、
記録媒体の表面状態を変化させて記録し、STMで再生
する方法や、記録媒体として電圧電流のスイッチング特
性においてメモリ効果を有する材料、例えばカルコゲン
化物類の薄膜層やπ電子系有機化合物の薄膜層を用いて
、記録再生をSTMを用いて行なう方法が提案されてい
る。
ーより更に高密度の記録再生を可能とすべく、従来、上
記STMの原理を応用した記録再生について、電子ビー
ム、イオンビームあるいはX線、光等の電磁波により、
記録媒体の表面状態を変化させて記録し、STMで再生
する方法や、記録媒体として電圧電流のスイッチング特
性においてメモリ効果を有する材料、例えばカルコゲン
化物類の薄膜層やπ電子系有機化合物の薄膜層を用いて
、記録再生をSTMを用いて行なう方法が提案されてい
る。
又、STMのプローブ電極に、フィールドエミッション
が生じる電圧をかけ、Rh−Zr合金の試料表面に局所
的に溶融させて、コーン状の突起を作るという試みもな
されている[U。
が生じる電圧をかけ、Rh−Zr合金の試料表面に局所
的に溶融させて、コーン状の突起を作るという試みもな
されている[U。
5tafer et a 1 、 、 A p
p IPhys、Lett、5ユ(4)27 Ju
ly1987]。
p IPhys、Lett、5ユ(4)27 Ju
ly1987]。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、従来の光メモリでは、レーザー光を光学
系により収束させて記録再生を行なうため、光の波長以
下にビーム径を絞ることは難しく、なるべく波長の短い
光を使う等の改良がなされつつあるが、記録単位はμm
オーダーが限界で、これ以上の高密度化ができない問題
がある。
系により収束させて記録再生を行なうため、光の波長以
下にビーム径を絞ることは難しく、なるべく波長の短い
光を使う等の改良がなされつつあるが、記録単位はμm
オーダーが限界で、これ以上の高密度化ができない問題
がある。
一方、STMの原理を応用した情報の記録再生は、前述
のような試みはなされてはいるが、実用的な情報処理装
置の開発には至っていないのが現状である。
のような試みはなされてはいるが、実用的な情報処理装
置の開発には至っていないのが現状である。
又、記録媒体は、導電性を有し、局所的加熱により溶融
又は蒸発して変形する材質からなるが、材質によっては
導電性が非常に低いものがあり、又薄膜であるので、そ
の記録媒体の面内方向の抵抗値が高(なり、情報の記録
時のプローブ電極に流す電流値が記録領域の場所で変動
したり、記録媒体自身の抵抗で発熱したりして、最適な
記録条件からはずれる場合が出てくる問題がある。
又は蒸発して変形する材質からなるが、材質によっては
導電性が非常に低いものがあり、又薄膜であるので、そ
の記録媒体の面内方向の抵抗値が高(なり、情報の記録
時のプローブ電極に流す電流値が記録領域の場所で変動
したり、記録媒体自身の抵抗で発熱したりして、最適な
記録条件からはずれる場合が出てくる問題がある。
更に、局所的加熱により溶融又は蒸発させて媒体を変形
させるので、記録箇所のビット領域がかなり大きくなり
、高密度な記録が実現できない。
させるので、記録箇所のビット領域がかなり大きくなり
、高密度な記録が実現できない。
[課題を解決するための手段及び作用コ前記課題を解決
するために本発明では、少なくとも1つのプローブ電極
とこれに対向配置した水素貯蔵材料を含む記録媒体と、
前記プローブ電極と前記記録媒体との間に電圧を印加す
る手段と、前記プローブ電極と前記記録媒体との距離を
制御する手段とを有することを特徴とする情報処理装置
、 又、記録媒体に水素を供給するための手段を備えたこと
を特徴とする情報処理装置、 又、記録媒体を加熱するための手段を備えたことを特徴
とする情報処理装置とし、 又、プローブ電極に対し、水素貯蔵材料を含む記録媒体
を近接させ、水素雰囲気下でプローブ電極と記録媒体と
の間に電圧を印加することにより、記録媒体の表面を凸
状に変化させて情報の記録を行うことを特徴とする情報
処理方法、又、プローブ電極に対し、水素貯蔵材料を含
む記録媒体を近接させ、水素雰囲気下でプローブ電極と
記録媒体との間に電圧を印加することにより、記録媒体
の表面を凸状に変化させて情報の記録を行い、記録媒体
を加熱することにより情報の消去を行うことを特徴とす
る情報処理方法、又、プローブ電極に対し、水素を貯蔵
した水素貯蔵材料を含む配録媒体を近接させ、プローブ
電極と記録媒体との間に電圧を印加することにより、記
録媒体の表面を凹状に変化させて情報の記録を行うこと
を特徴とする情報処理方法、又、プローブ電極に対し、
水素を貯蔵した水素貯蔵材料を含む記録媒体を近接させ
、プローブ電極と記録媒体との間に電圧を印加すること
により、記録媒体の表面を凹状に変化させて情報の記録
を行い、記録媒体に対して水素を供給することにより情
報の消去を行うことを特徴とする情報処理方法とするも
のである。
するために本発明では、少なくとも1つのプローブ電極
とこれに対向配置した水素貯蔵材料を含む記録媒体と、
前記プローブ電極と前記記録媒体との間に電圧を印加す
る手段と、前記プローブ電極と前記記録媒体との距離を
制御する手段とを有することを特徴とする情報処理装置
、 又、記録媒体に水素を供給するための手段を備えたこと
を特徴とする情報処理装置、 又、記録媒体を加熱するための手段を備えたことを特徴
とする情報処理装置とし、 又、プローブ電極に対し、水素貯蔵材料を含む記録媒体
を近接させ、水素雰囲気下でプローブ電極と記録媒体と
の間に電圧を印加することにより、記録媒体の表面を凸
状に変化させて情報の記録を行うことを特徴とする情報
処理方法、又、プローブ電極に対し、水素貯蔵材料を含
む記録媒体を近接させ、水素雰囲気下でプローブ電極と
記録媒体との間に電圧を印加することにより、記録媒体
の表面を凸状に変化させて情報の記録を行い、記録媒体
を加熱することにより情報の消去を行うことを特徴とす
る情報処理方法、又、プローブ電極に対し、水素を貯蔵
した水素貯蔵材料を含む配録媒体を近接させ、プローブ
電極と記録媒体との間に電圧を印加することにより、記
録媒体の表面を凹状に変化させて情報の記録を行うこと
を特徴とする情報処理方法、又、プローブ電極に対し、
水素を貯蔵した水素貯蔵材料を含む記録媒体を近接させ
、プローブ電極と記録媒体との間に電圧を印加すること
により、記録媒体の表面を凹状に変化させて情報の記録
を行い、記録媒体に対して水素を供給することにより情
報の消去を行うことを特徴とする情報処理方法とするも
のである。
更に詳しく説明すると、本発明の記録媒体として用いる
水素貯蔵材料は、水素と反応して金属水素化物の形で水
素を吸蔵し、加熱あるいは減圧すれば水素を放出するこ
とが知られている。
水素貯蔵材料は、水素と反応して金属水素化物の形で水
素を吸蔵し、加熱あるいは減圧すれば水素を放出するこ
とが知られている。
例えば、Pdでは、格子定数a=3.890人であった
ものが、水素を吸蔵することによってa=4.025人
程度まで増加する。特に水素貯蔵材料を薄膜化すると、
この現象は極めて大きくなる。これは薄膜表面が、非常
に活性であるためと考えられている。
ものが、水素を吸蔵することによってa=4.025人
程度まで増加する。特に水素貯蔵材料を薄膜化すると、
この現象は極めて大きくなる。これは薄膜表面が、非常
に活性であるためと考えられている。
本発明ではあらかじめ水素を貯蔵した水素貯蔵材料から
形成される記録媒体を用いて、局所的に電界を印加する
ことによって、局所的表面の発熱が生じ、水素が脱離し
、結晶格子が縮んで凹部を形成する。
形成される記録媒体を用いて、局所的に電界を印加する
ことによって、局所的表面の発熱が生じ、水素が脱離し
、結晶格子が縮んで凹部を形成する。
更に、一方の電極に少なくとも1つのプローブ電極を用
い、更にプローブ電極にST−を用いて、ごく近傍に近
付ける(約1 nm)ことにより電圧を印加し、水素ガ
スの脱離を起こす領域を制限し、極めて微小な領域に凹
部を形成させることによって、高密度記録を達成するこ
とができる。
い、更にプローブ電極にST−を用いて、ごく近傍に近
付ける(約1 nm)ことにより電圧を印加し、水素ガ
スの脱離を起こす領域を制限し、極めて微小な領域に凹
部を形成させることによって、高密度記録を達成するこ
とができる。
又、本発明では、あらかじめ水素を貯蔵していない水素
貯蔵材料から形成される記録媒体を用いて、水素雰囲気
下でプローブ電極と記録媒体間に電圧を印加することに
より、記録媒体表面をより活性にし、水素の侵入を容易
にさせ、局所的に表面形状が膨張し、凸部を形成するこ
とによって情報を記録する。
貯蔵材料から形成される記録媒体を用いて、水素雰囲気
下でプローブ電極と記録媒体間に電圧を印加することに
より、記録媒体表面をより活性にし、水素の侵入を容易
にさせ、局所的に表面形状が膨張し、凸部を形成するこ
とによって情報を記録する。
記録媒体とプローブ電極の相対的移動は、任意の位置で
の情報の記録、再生、消去を可能にするためのもので、
特に情報の記録時に記録媒体とプローブ電極間の間隔が
一定に保持されるのは、所定の電界によって所定の表面
形状の変化をもたらす働きをなす。また、記録情報の再
生時に記録媒体とプローブ電極間の間隔が、両者間のト
ンネル電流を一定にする間隔に制御されることは、上記
情報の記録時の表面形状変化状態に沿った両者の相対的
縦方向の移動をもたらす働きをなす。
の情報の記録、再生、消去を可能にするためのもので、
特に情報の記録時に記録媒体とプローブ電極間の間隔が
一定に保持されるのは、所定の電界によって所定の表面
形状の変化をもたらす働きをなす。また、記録情報の再
生時に記録媒体とプローブ電極間の間隔が、両者間のト
ンネル電流を一定にする間隔に制御されることは、上記
情報の記録時の表面形状変化状態に沿った両者の相対的
縦方向の移動をもたらす働きをなす。
次に好ましい実施態様を挙げて本発明を更に詳しく説明
する。本発明においては、水素貯蔵材料が形成された薄
膜を支持するための基板は金属。
する。本発明においては、水素貯蔵材料が形成された薄
膜を支持するための基板は金属。
ガラス、セラミックス、プラスチック材料等いづれでも
よい。
よい。
本発明で用いられる水素貯蔵材料は、水素が侵入するこ
とによって体積が膨張し、脱離することによって収縮す
る材料であればよい。例えばPd、やTi、LaNi、
、Ti−Mn系合金を始めとするTi系合金、pJlg
−Ni系合金を始めとするMg系合金があげられる。
とによって体積が膨張し、脱離することによって収縮す
る材料であればよい。例えばPd、やTi、LaNi、
、Ti−Mn系合金を始めとするTi系合金、pJlg
−Ni系合金を始めとするMg系合金があげられる。
又、プローブ電極としては、タングステン、Pt−Ir
、Pt等の先鋭な針状物が使用される。プローブ電極の
先端は記録、再生、消去の分解能を上げるため、出来る
だけ尖らせる必要がある。本発明では1mmφの太さの
白金の先端を90”のコーンになるように機械的に研磨
し、超高真空中で電界をかけて表面原子を蒸発させたも
のを用いている。
、Pt等の先鋭な針状物が使用される。プローブ電極の
先端は記録、再生、消去の分解能を上げるため、出来る
だけ尖らせる必要がある。本発明では1mmφの太さの
白金の先端を90”のコーンになるように機械的に研磨
し、超高真空中で電界をかけて表面原子を蒸発させたも
のを用いている。
実施例1
第1図は本発明の一実施例に係る情報処理装置の説明図
で、1はプローブ電極で、情報の記録再生用に用いられ
、タングステン針の先端を電解研磨したものを使用した
。
で、1はプローブ電極で、情報の記録再生用に用いられ
、タングステン針の先端を電解研磨したものを使用した
。
2は基板3上に形成された記録媒体、4はプローブ電極
1と記録媒体2の間に流れるトンネル電流を検出するプ
ローブ電流増幅器、5は図中の2方向すなわち縦方向に
プローブ電極1の移動制御するZ方向サーボ回路、6は
プローブ電極1をZ方向に駆動する圧電極累子等により
構成されるZ方向微動機構である。
1と記録媒体2の間に流れるトンネル電流を検出するプ
ローブ電流増幅器、5は図中の2方向すなわち縦方向に
プローブ電極1の移動制御するZ方向サーボ回路、6は
プローブ電極1をZ方向に駆動する圧電極累子等により
構成されるZ方向微動機構である。
Z方向サーボ回路5は、プローブ電流増幅器4で検出し
たプローブ電流を一定に保つように2方向微動機構6を
駆動し、プローブ電極1と記録媒体2との距離を制御す
る。
たプローブ電流を一定に保つように2方向微動機構6を
駆動し、プローブ電極1と記録媒体2との距離を制御す
る。
7は図中XY力方向なわち、横方向にプローブ電極1を
移動制御する圧電素子等で構成されるXY方向微動機構
である。又8はXY方向粗動機構で、圧電素子又は電磁
的手段により駆動される。これらXY方向微動及び粗動
機構7.8を図示せぬ制御回路により制御し、記録媒体
2の記録領域の任意の位置にプローブ電極1を移動させ
ることができる。
移動制御する圧電素子等で構成されるXY方向微動機構
である。又8はXY方向粗動機構で、圧電素子又は電磁
的手段により駆動される。これらXY方向微動及び粗動
機構7.8を図示せぬ制御回路により制御し、記録媒体
2の記録領域の任意の位置にプローブ電極1を移動させ
ることができる。
又、これらのプローブ電極1及び記録媒体2間には排気
系が接続されており、水素ガスが導入できるようになっ
ている。このように、情報の記録は、水素雰囲気下で行
うことができる。
系が接続されており、水素ガスが導入できるようになっ
ている。このように、情報の記録は、水素雰囲気下で行
うことができる。
次に、情報の記録再生の方法について説明する。
まず、情報の記録方法について説明する。第1図で記録
媒体2及びプローブ電極1との間を排気し、真空にした
。その後、水素ガスを導入し、大気圧程度になるように
した。
媒体2及びプローブ電極1との間を排気し、真空にした
。その後、水素ガスを導入し、大気圧程度になるように
した。
記録すべき記録信号12と記録媒体2上の記録位置信号
が回示せぬ制御回路から送られてくる。
が回示せぬ制御回路から送られてくる。
そのときプローブ電極lはXY方向微動及び粗動機構7
,8により、指定の記録位置まで記録媒体2との距離が
制御された状態で移動し、記録位置に到達した時記録信
号12に対応するパルス電圧を発生するパルス電圧回路
11により、プローブ電極lに記録用のパルス電圧が与
えられる。このパルス電圧により記録位置に過大な電流
が流れ、局所的に記録媒体2・の表面が活性化されて水
素原子が侵入しやすくなる。その結果、記録媒体2表面
が局所的に膨張して記録がなされる。その際、パルス電
圧を印加すると、プローブ電流が急激に変化するので、
Z方向サーボ回路5はその間出力電圧が一定になるよう
にHOLD回路をONにするように制御している。その
ため、記録時にプローブ電極1と配録媒体2の距離が著
しく変化することはなく、安定な記録が出来る。
,8により、指定の記録位置まで記録媒体2との距離が
制御された状態で移動し、記録位置に到達した時記録信
号12に対応するパルス電圧を発生するパルス電圧回路
11により、プローブ電極lに記録用のパルス電圧が与
えられる。このパルス電圧により記録位置に過大な電流
が流れ、局所的に記録媒体2・の表面が活性化されて水
素原子が侵入しやすくなる。その結果、記録媒体2表面
が局所的に膨張して記録がなされる。その際、パルス電
圧を印加すると、プローブ電流が急激に変化するので、
Z方向サーボ回路5はその間出力電圧が一定になるよう
にHOLD回路をONにするように制御している。その
ため、記録時にプローブ電極1と配録媒体2の距離が著
しく変化することはなく、安定な記録が出来る。
次に情報の再生方法については、情報の記録時と同様に
、図示せぬ制御回路から情報の再生すべき記録位置が支
持され、プローブ電極1は、XY方向微動及び粗動機構
7.8により、指定の位置まで移動し、情報の再生を開
始する。そのとき、プローブ電極1は、2方向サーボ回
路5により、記録媒体2上の記録により生じた凸部をト
ンネル電流が一定になるようになぞるので、2方向サ−
ボ回路色から一2方向微動機構6に与える制御信号は、
記録媒体2の表面の凹凸に対応しており、この制御信号
を再生信号復調回路9で波形整形等の処理をすることに
より再生信号10が得られる。
、図示せぬ制御回路から情報の再生すべき記録位置が支
持され、プローブ電極1は、XY方向微動及び粗動機構
7.8により、指定の位置まで移動し、情報の再生を開
始する。そのとき、プローブ電極1は、2方向サーボ回
路5により、記録媒体2上の記録により生じた凸部をト
ンネル電流が一定になるようになぞるので、2方向サ−
ボ回路色から一2方向微動機構6に与える制御信号は、
記録媒体2の表面の凹凸に対応しており、この制御信号
を再生信号復調回路9で波形整形等の処理をすることに
より再生信号10が得られる。
第2図は、本発明の記録媒体2上に生じる記録形状例を
示す斜視図で、記録時のプローブ電極1に印加するパル
ス電圧の大きさ、印加時間、雰囲気中の水素濃度、水素
の圧力、また記録媒体2の材質等の違いにより記録形状
が異なって(る。すなわち、プローブ電極1の先端では
、記録パルス電圧印加時には、通常のトンネル電流数P
A〜数nAに比較してはるかに多くの電流がフィールド
エミッションにより流れ、記録媒体2の表面を局所的に
洗浄し表面が活性化される。そのため、表面部分は、水
素が侵入し易すくなり、その結果、膨張し、第2図のよ
うに表面部分に凸部が形成される。その形状の制御は、
記録条件を調整することにより最適化することが可能で
ある。この凸部の大きさは、直径数10nm〜数nm程
度とすることが可能で、非常に高密度の記録再生が可能
となる。尚、消去法に関しては図示はしていないが、本
発明の記録媒体2をヒーターによる加熱装置にて、20
0℃程度に加熱することにより、容易に水素を離脱する
ことができる。これにより、全面消去は簡単におこなえ
る。
示す斜視図で、記録時のプローブ電極1に印加するパル
ス電圧の大きさ、印加時間、雰囲気中の水素濃度、水素
の圧力、また記録媒体2の材質等の違いにより記録形状
が異なって(る。すなわち、プローブ電極1の先端では
、記録パルス電圧印加時には、通常のトンネル電流数P
A〜数nAに比較してはるかに多くの電流がフィールド
エミッションにより流れ、記録媒体2の表面を局所的に
洗浄し表面が活性化される。そのため、表面部分は、水
素が侵入し易すくなり、その結果、膨張し、第2図のよ
うに表面部分に凸部が形成される。その形状の制御は、
記録条件を調整することにより最適化することが可能で
ある。この凸部の大きさは、直径数10nm〜数nm程
度とすることが可能で、非常に高密度の記録再生が可能
となる。尚、消去法に関しては図示はしていないが、本
発明の記録媒体2をヒーターによる加熱装置にて、20
0℃程度に加熱することにより、容易に水素を離脱する
ことができる。これにより、全面消去は簡単におこなえ
る。
実施例2
第3図は、裏面側に記録媒体2より導電性の良い下地層
13を設けて、記録媒体2を形成した基板3の断面図で
ある。この2層構造とした場合、情報の記録時の電流の
ほとんど大部分は導電層13を通して行なわれるため、
記録領域全面にわたって安定な記録が出来るようになっ
た。この結果、更にSN比の高い情報の記録が行なわれ
た。
13を設けて、記録媒体2を形成した基板3の断面図で
ある。この2層構造とした場合、情報の記録時の電流の
ほとんど大部分は導電層13を通して行なわれるため、
記録領域全面にわたって安定な記録が出来るようになっ
た。この結果、更にSN比の高い情報の記録が行なわれ
た。
実施例3
第4図に本発明の他の実施例である情報処理装置の構成
を示す。
を示す。
プローブ電極1として白金製のプローブ電極、記録媒体
2としてPd、基板3としてサファイア単結晶基板を用
いた。201はXYステージ、203はプローブ電極1
の支持体、6はプローブ電極lを2方向に駆動する2方
向微動機構、11はパルス電圧回路である。208は、
記録媒体2を水素化させるための水素ガス導入口、20
9は不活性ガスを導入する不活性ガス導入口である。
2としてPd、基板3としてサファイア単結晶基板を用
いた。201はXYステージ、203はプローブ電極1
の支持体、6はプローブ電極lを2方向に駆動する2方
向微動機構、11はパルス電圧回路である。208は、
記録媒体2を水素化させるための水素ガス導入口、20
9は不活性ガスを導入する不活性ガス導入口である。
302は電流の変化をプローブ電極1と記録媒体2の間
隙距離に比例する値に変換するための対数圧縮器、30
3は記録媒体2の表面凹凸成分を抽出するための低域通
過フィルターである。304は基準電圧V FIEFと
低域通過フィルター303との出力との誤差を検出する
誤差増幅器、305はアクチュエーター204を駆動す
るドライバーである。306はXYステージの位置制御
を行う駆動回路、307はデータ成分を分離する高域通
過フィルターである。更に図示はしていないが、本情報
処理装置の記録媒体2は排気装置がつなぎこまれており
、記録媒体2中では水素雰囲気、ないしは不活性ガス雰
囲気のどちらかを選択的に行えるようになっている。
隙距離に比例する値に変換するための対数圧縮器、30
3は記録媒体2の表面凹凸成分を抽出するための低域通
過フィルターである。304は基準電圧V FIEFと
低域通過フィルター303との出力との誤差を検出する
誤差増幅器、305はアクチュエーター204を駆動す
るドライバーである。306はXYステージの位置制御
を行う駆動回路、307はデータ成分を分離する高域通
過フィルターである。更に図示はしていないが、本情報
処理装置の記録媒体2は排気装置がつなぎこまれており
、記録媒体2中では水素雰囲気、ないしは不活性ガス雰
囲気のどちらかを選択的に行えるようになっている。
基板3上にスパッタリング法によりPd薄膜を形成し記
録媒体2を形成した。このPd薄膜の凹凸性は極めてフ
ラットであった。この記録媒体2をXYステージ201
上に固定した。その後、日排気した後、水素ガス導入口
208から水素ガスを導入し、700mTorr程度の
水素雰囲気にした。これにより、Pd薄膜は急速に水素
を内部に取り込み膨らむ。充分Pd薄膜に水素を吸蔵さ
せた後、もう−度排気し、不活性ガス導入口209から
Arガスを導入させ一気圧程度とした。その後、プロー
ブ電極1の位置を固定した。
録媒体2を形成した。このPd薄膜の凹凸性は極めてフ
ラットであった。この記録媒体2をXYステージ201
上に固定した。その後、日排気した後、水素ガス導入口
208から水素ガスを導入し、700mTorr程度の
水素雰囲気にした。これにより、Pd薄膜は急速に水素
を内部に取り込み膨らむ。充分Pd薄膜に水素を吸蔵さ
せた後、もう−度排気し、不活性ガス導入口209から
Arガスを導入させ一気圧程度とした。その後、プロー
ブ電極1の位置を固定した。
模式的には第5図のようになる。
パルス電源11から矩形パルスで約5V印加したところ
、第6図に示すように、局所的表面の発熱により水素が
脱離し凹部を形成した。つまり、パルスを印加すること
によりフラット部と凹部の2値記録ができた。この記録
媒体2を用いた情報の記録、再生、消去の実験について
詳細に記す。
、第6図に示すように、局所的表面の発熱により水素が
脱離し凹部を形成した。つまり、パルスを印加すること
によりフラット部と凹部の2値記録ができた。この記録
媒体2を用いた情報の記録、再生、消去の実験について
詳細に記す。
プローブ電極1と記録媒体2との間にIVの電圧を印加
し、電流をモニターしながらプローブ電極1と記録媒体
2との距離2を調整した。XYステージ201を一定の
間隔(1μm)で移動させながら約5■以上の矩、形パ
ルス電圧を印加して凹部を生じさせた。その後、プロー
ブ電極1と記録媒体2との間に読み取り用の1vのプロ
ーブ電圧を印加して、電流量の変化を読み取る。凹部が
形成された領域ではプローブ電極1と記録媒体2間の距
離がフラット面に対して長くなるので、電流値が著しく
減少する。このようにして直接読み取ることができた。
し、電流をモニターしながらプローブ電極1と記録媒体
2との距離2を調整した。XYステージ201を一定の
間隔(1μm)で移動させながら約5■以上の矩、形パ
ルス電圧を印加して凹部を生じさせた。その後、プロー
ブ電極1と記録媒体2との間に読み取り用の1vのプロ
ーブ電圧を印加して、電流量の変化を読み取る。凹部が
形成された領域ではプローブ電極1と記録媒体2間の距
離がフラット面に対して長くなるので、電流値が著しく
減少する。このようにして直接読み取ることができた。
更に排気し、もう−度水素ガス導入口208から水素ガ
スを入れてやると、第5図のように凹部は復元されて、
全ての記録状態が消去されていることを確認した。
スを入れてやると、第5図のように凹部は復元されて、
全ての記録状態が消去されていることを確認した。
[発明の効果]
■−台の装置で、STMの原理を応用した情報の記録再
生を行うことができ、特にSTMの原理により、数十〜
数nmオーダーの非常に高密度の情報の記録再生が可能
となる。
生を行うことができ、特にSTMの原理により、数十〜
数nmオーダーの非常に高密度の情報の記録再生が可能
となる。
■水素原子の吸入又は脱離により凸部又は凹部を形成す
るので、従来の加熱により溶融、蒸発させて変形させる
ものより、より微細なビット記録が可能となり、高密度
な記録が可能となる。
るので、従来の加熱により溶融、蒸発させて変形させる
ものより、より微細なビット記録が可能となり、高密度
な記録が可能となる。
■記録層が薄くてよいため、生産性に冨み、安価な記録
媒体を提供することができる。
媒体を提供することができる。
■再生に必要なエネルギーは小さいため、消費電力は少
ない。
ない。
第1図は、本発明の情報処理装置の概略図、第2図は、
情報の記録時の様子を示す斜視図、第3図は、実施例2
で使用した基板の断面図、第4図は1本発明の情報処理
装置を図解的に示すブロック構成図、 第5図、第6図は、本発明の一実施例である記録媒体の
断面図である。 1ニブローブ電極 2:記録媒体 3:基板 4ニブローブ電流 5:z方向サーボ回路 6:z方向微動機構 7:XY方向微動機構 8:XY粗動機構 9:再生信号復調回路 10:波形 11:パルス電圧回路 12:波形 13:導電層 14:凸部 201:XYステージ 203ニブローブ電極の支持体 208:水素ガス導入口 209:不活性ガス導入口 302:対数圧縮器 303:低域通過フィルター 304:誤差増幅器 305ニドライバー 306:駆動回路 307:高域通過フィルター
情報の記録時の様子を示す斜視図、第3図は、実施例2
で使用した基板の断面図、第4図は1本発明の情報処理
装置を図解的に示すブロック構成図、 第5図、第6図は、本発明の一実施例である記録媒体の
断面図である。 1ニブローブ電極 2:記録媒体 3:基板 4ニブローブ電流 5:z方向サーボ回路 6:z方向微動機構 7:XY方向微動機構 8:XY粗動機構 9:再生信号復調回路 10:波形 11:パルス電圧回路 12:波形 13:導電層 14:凸部 201:XYステージ 203ニブローブ電極の支持体 208:水素ガス導入口 209:不活性ガス導入口 302:対数圧縮器 303:低域通過フィルター 304:誤差増幅器 305ニドライバー 306:駆動回路 307:高域通過フィルター
Claims (7)
- (1)少なくとも1つのプローブ電極とこれに対向配置
した水素貯蔵材料を含む記録媒体と、前記プローブ電極
と前記記録媒体との間に電圧を印加する手段と、前記プ
ローブ電極と前記記録媒体との距離を制御する手段とを
有することを特徴とする情報処理装置。 - (2)記録媒体に水素を供給するための手段を備えたこ
とを特徴とする請求項(1)に記載の情報処理装置。 - (3)記録媒体を加熱するための手段を備えたことを特
徴とする請求項(1)に記載の情報処理装置。 - (4)プローブ電極に対し、水素貯蔵材料を含む記録媒
体を近接させ、水素雰囲気下でプローブ電極と記録媒体
との間に電圧を印加することにより、記録媒体の表面を
凸状に変化させて情報の記録を行うことを特徴とする情
報処理方法。 - (5)プローブ電極に対し、水素貯蔵材料を含む記録媒
体を近接させ、水素雰囲気下でプローブ電極と記録媒体
との間に電圧を印加することにより、記録媒体の表面を
凸状に変化させて情報の記録を行い、記録媒体を加熱す
ることにより情報の消去を行うことを特徴とする情報処
理方法。 - (6)プローブ電極に対し、水素を貯蔵した水素貯蔵材
料を含む記録媒体を近接させ、プローブ電極と記録媒体
との間に電圧を印加することにより、記録媒体の表面を
凹状に変化させて情報の記録を行うことを特徴とする情
報処理方法。 - (7)プローブ電極に対し、水素を貯蔵した水素貯蔵材
料を含む記録媒体を近接させ、プローブ電極と記録媒体
との間に電圧を印加することにより、記録媒体の表面を
凹状に変化させて情報の記録を行い、記録媒体に対して
水素を供給することにより情報の消去を行うことを特徴
とする情報処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25011190A JPH04132028A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 情報処理装置及び情報処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25011190A JPH04132028A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 情報処理装置及び情報処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04132028A true JPH04132028A (ja) | 1992-05-06 |
Family
ID=17202992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25011190A Pending JPH04132028A (ja) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | 情報処理装置及び情報処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04132028A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8727194B2 (en) | 2007-11-29 | 2014-05-20 | Kureha Corporation | Cutter blade for packing container and packing container |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP25011190A patent/JPH04132028A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8727194B2 (en) | 2007-11-29 | 2014-05-20 | Kureha Corporation | Cutter blade for packing container and packing container |
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