JPH0412581A - ガスレーザ発振装置 - Google Patents

ガスレーザ発振装置

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JPH0412581A
JPH0412581A JP2116156A JP11615690A JPH0412581A JP H0412581 A JPH0412581 A JP H0412581A JP 2116156 A JP2116156 A JP 2116156A JP 11615690 A JP11615690 A JP 11615690A JP H0412581 A JPH0412581 A JP H0412581A
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Shigeki Yamane
茂樹 山根
Shuzo Yoshizumi
吉住 修三
Akio Tanaka
田中 昭男
Tsutomu Sugiyama
勤 杉山
Hitoshi Motomiya
均 本宮
Hidehiko Karasaki
秀彦 唐崎
Masashi Onishi
正史 大西
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高電圧放電によりレーザビームを発生するガ
スレーザ発振装置に関するものであり、特に、加工時間
の短縮を図ることのできるガスレーザ発振装置に関する
従来の技術 従来のガスレーザ発振装置の一例を第6図に示す。第6
図において、1はガラスなどの誘電体からなる放電管で
あり、2,3は放電管1の内部に設けられた電極である
。4は電極2,3に接続された高電圧電源であり、たと
えば約3QkVの電圧を画電極2.3間に印加している
。5は電極2.3間にはさまれた放電管1内の放電空間
である。6は全反射鏡、7は部分反射鏡であり、この全
反射鏡6、部分反射鏡7は放電空間5の両端に固定配置
され、光共振器を形成している。8は部分反射鏡7から
放電管lの軸方向に出力されるレーザビームである。9
はレーザガスを放電管1へ供給するための送気管であり
、レーザガスはこの軸流型ガスレーザ装置の中を矢印1
0方向に循環している。11.12は放電管1内部の放
電空間5において放電等により温度上昇したレーザガス
の温度を下げるための熱交換器である。13はレーザガ
スを循環させるための送風機であり、放電区間5で約l
 Q Qa/see程度のガス流を発生させる。
次に前記従来の細流型ガスレーザ発生装置の動作につい
て説明する。まず一対の電極2,3に高電圧電源4から
高電圧を印加し、放電空間5にグロー状の放電を発生さ
せる。放電空間5を通過するレーザガスは、この放電エ
ネルギを得て励起され、その励起されたレーザガスは全
反射鏡6および部分反射鏡7により形成された光共振器
で共振状態となり、部分反射鏡7からレーザビーム8が
出力される。このレーザビーム8がレーザ加工等の用途
に用いられる。
第7図は、前記ガスレーザ発生装置における高電圧電源
4の構成を示すブロック図である。高電圧電源4は、外
部からのレーザ出力設定信号14に対応する周波数を出
力する基本動作部15と、この基本動作部15からの出
力周波数を高電圧に昇圧する高電圧高周波トランス部1
6と、この高電圧を直流平滑する高電圧整流平滑回路部
17と、外部パルス信号18により、基本動作部15の
出力周波数をオン、オフするパルス動作部19とから構
成されている。
次に前記高圧電源4の動作について説明する。
基本動作部15は、商用電源から交流200Vを入力さ
れてこれを整流平滑した後、外部からのレーザ出力設定
信号14を受け、その信号に対応する周波数を出力する
。基本動作部15から出力された周波数は、高電圧高周
波トランス部16により高電圧に昇圧され、高電圧整流
平滑回路部17を経て、直流出電圧約3QkVとなって
出力される。
CW(連続波)動作時の基本動作部15の出力周波数と
レーザ出力との関係は第8図に示すとおりであり、出力
周波数を制御することによりレーザ出力を可変できるが
、出力周波数を上げすぎるとレーザ出力が飽和してしま
うため、実際には飽和点よりも下の周波数を使用してい
る。
また、外部パルス信号18によりパルス動作部19を動
作させ、基本動作部15の出力をオン。
オフすることにより、等測的に高電圧の直流出力電圧も
オン、オフし、パルス動作が可能である。
発明が解決しようとする課題 このようなガスレーザ発振装置から発振されたレーザ光
により材料を切断加工する場合、まず初めにピアシング
と呼ばれる穴明けを行なってから切断を行なう。しかし
ながら、従来のガスレーザ発振装置では、ピアシング時
間が長く、加工時間の短縮が困難であるという問題があ
った。
本発明は、このような従来の問題点を解決するためにな
されたものであり、加工時間の短縮を可能としたガスレ
ーザ発振装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、前記目的を達成するために、高電圧電源を、
外部からのレーザ出力設定信号に対応する周波数を出力
する基本動作部と、この基本動作部からの出力周波数を
高電圧に昇圧する高電圧高周波トランス部と、高電圧を
直流平滑する高電圧整流平滑回路部と、外部パルス信号
により基本動作部の出力周波数をオン、オフさせるパル
ス動作部と、外部パルス信号により基本動作部の出力周
波数のデユーティ比をN倍とするデユーティ比変換部ま
たは周波数をN倍とする周波数変換部とを備えたもので
ある。
作用 本発明は、前記構成により、高電圧電源によりピアシン
グ動作時間内に最大CW比出力N倍のレーザ出力を発生
させることができ、ピアシング時間の短縮を実現して加
工時間全体の短縮を図ることができる。
実施例 第1図は、本発明の第1の実施例を示すガスレーザ発振
器における高電圧電源のブロック図であり、第7図に示
した従来例と同一の要素には同じ符号が付しである。す
なわち、高電圧電源4は、外部からのレーザ出力設定信
号14に対応する周波数を出力する基本動作部15と、
基本動作部15からの出力周波数を高電圧に昇圧する高
電圧高周波トランス部16と、この高電圧を直流平滑す
る高電圧整流平滑回路部17と、外部パルス信号18に
より基本動作部15の出力周波数をオン、オフするパル
ス動作部19と、外部パルス信号18により基本動作部
15の出力周波数のデユーティ比をN倍とするデユーテ
ィ比変換部20とで構成されている。
次に前記第1の実施例の動作について説明する。基本動
作部15は、商用電源から交流200Vを入力されてこ
れを整流平滑した後、外部からのレーザ出力設定信号1
4を受け、その信号に対応する周波数を出力する。基本
動作部15から出力された周波数は、高電圧高周波トラ
ンス部16により高電圧に昇圧され、高電圧整流平滑回
路部17を経て、直流出電圧約3QkVとなって出力さ
れ、CWによるレーザの発振が行なわれる。また、外部
パルス信号18は、基本動作部15の出力周波数の1/
10以下であり、この外部パルス信号18により基本動
作部15の出力周波数をオン、オフすることにより、等
測的に高電圧の直流出力電圧もオン、オフすることがで
き、パルス動作が可能となる。
レーザ出力とピアシング時間の関係は、第2図に示すよ
うに、レーザ出力が大きいほどピアシング時間が短くな
る。したがって、ピアシング時間を短くするためには、
レーザ出力を大きくすればよいことが分かる。
基本動作部15の出力周波数とレーザ出力の間には、第
8図に示したように飽和点が存在する。
また、第3図に示すように、基本動作部15の出力周波
数固定時のデユーティ比とレーザ出力との関係は、放電
管へのエネルギ注入時間が約3ミリ秒以下であれば、従
来飽和点にあったレーザ出力以上の出力までもが比例関
係にあることが判明した。これは、放電空間を通過する
レーザガスに関係するものであると考えられる。
一般に、エネルギ注入時間がレーザガスが放電管を通過
する時間内であれば、レーザ出力は注入エネルギに比例
して大きくなるが、通過時間以上においてエネルギを適
正値以上注入すれば、却って放電がアーク状に移行し、
レーザ出力が得られなくなることが知られている。そこ
でレーザガスが放電管を通過するのに必要とする前記3
ミリ秒以下の時間内に基本動作部15の出力周波数のデ
ユーティ比をN倍すれば、N倍のレーザ出力が得られる
ことが分かる。ここで、Nの値は、高電圧電源4の基本
動作部15内のスイチング素子の特性と最大CW比出力
時スイチング周波数とにより決まり、通常はN=2が好
ましいが、スイチング素子の相違やCW出力値の取り方
によって、それぞれ最適の値が存在する。
デユーティ比変換部20に外部パルス信号18を与える
と、ピアシング時においてはデユーティ比変換部20で
は、各パルスの立ち上がりを検出し、各パルスごとに初
めの3ミリ秒以下の間だけ、基本動作部15の出力周波
数のデユーティ比をN倍とすることができ、この間のレ
ーザ出力もN倍となり、ピアシング時間を短くすること
ができる。
第4図は本発明の第2の実施例を示しており、前記第1
の実施例と異なる点は、デユーティ比変換部20が周波
数変換部21に代わっていることであり、その他の構成
は前記第1の実施例と同じなので、重複した説明を省略
する。
第5図に示すように、基本動作部15の出力周波数とレ
ーザ出力との関係は、放電管へのエネルギ注入時間が3
ミリ秒以下であれば、従来飽和点にあったレーザ出力以
上の出力までもが比例関係にあることが明らかになった
。このため、前記第1の実施例同様に、レーザガスが放
電管を通過するのに必要とする前記3ミリ秒以下の時間
内に基本動作部15の出力周波数をN倍すれば、N倍の
レーザ出力が得られることになる。このNの値は、高電
圧電源4の基本動作部15内のスイチング素子の特性と
最大CW出力時のスイチング周波数とにより最大値が決
まり、通常はN=2が好ましいが、スイチング素子の相
違やCW出力値の取り方によって、最適の値が存在する
周波数変換部21に外部パルス信号18を与えると、ピ
アシング時においては周波数変換部21では、各パルス
の立ち上がりを検出し、各パルスごとに初めの3ミリ秒
以下の間だけ、基本動作部の出力周波数をN倍とするこ
とができ、この間のレーザ出力もN倍となり、ピアシン
グ時間を短くすることができる。
発明の効果 以上のように、本発明のガスレーザ発振装置の高電圧電
源は、外部からのレーザ出力設定信号に対応する周波数
を出力する基本動作部と、外部パルス信号により基本動
作部の出力周波数をオン。
オフさせるパルス動作部と、外部パルス信号により基本
動作部の出力周波数のデユーティ比をN倍とするデユー
ティ比変換部または出力周波数をN倍とする周波数変換
部を備えているので、ピアシング動作時に最大CW比出
力N倍のレーザ出力を得ることができ、加工時間を短縮
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示すガスレーザ発振装
置における高電圧電源のブロック図、第2図はレーザ出
力とピアシング時間との関係を示すグラフ、第3図は本
発明の第1の実施例における基本動作部の出力周波数固
定時のデユーティ比とレーザ出力との関係を示すグラフ
、第4図は本発明の第2の実施例を示す高電圧電源のブ
ロック図、第5図は本発明の第2の実施例における基本
動作部の出力周波数とレーザ出力との関係を示すグラフ
、第6図は従来のガスレーザ発振装置の一例を示す概略
構成図、第7図は同ガスレーザ発振装置における高電圧
電源のブロック図、第8図は従来の基本動作部の出力周
波数とレーザ出力との関係を示すグラフである。 1・・・放電管、2,3・・・電極、4・・・高電圧電
源、5・・・放電空間、6・・・全反射鏡、7・・・部
分反射鏡、8・・・レーザビーム、9・・・送気管、1
0・・・レーザガスの流れ方向、11.12・・・熱交
換器、13・・・送風機、14・・・出力設定信号、1
5・・・基本動作部、16・・・高電圧高周波トランス
部、17・・・高電圧整流平滑回路部、18・・・外部
パルス信号、19・・・パルス動作部、20・・・デユ
ーティ比変換部、21・・・周波数変換部。 IIPJ1図 代理人の氏名  弁理士 蔵 合 正 博第2図 第3図 デユーティ比(χ) 基本動作部の出力周波数 fkHz) 第4図 第6図 第7図 基本動作部の出力周波数[kHz)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁体からなる放電管内を光軸方向に送風機によ
    りレーザガスを流し、前記放電管の両端に設けられた電
    極間に高電圧電源を接続し、前記放電管内に放電を発生
    させ、この放電をレーザ励起源として前記放電管の軸方
    向にレーザビームを発生するガスレーザ発振装置におい
    て、前記高電圧電源が、外部からのレーザ出力設定信号
    に対応する周波数を出力する基本動作部と、前記基本動
    作部からの出力周波数を高電圧に昇圧する高電圧高周波
    トランス部と、前記高電圧を直流平滑する高電圧整流平
    滑回路部と、外部パルス信号により前記基本動作部の出
    力周波数をオン、オフするパルス動作部と、前記外部パ
    ルス信号により前記基本動作部の出力周波数のデューテ
    ィ比をN倍とするデューティ比変換部とを備えたことを
    特徴とするガスレーザ発振装置。
  2. (2)高電圧電源によるエネルギ注入開始から3ミリ秒
    以内においてデューティ比をN倍とする請求項(1)記
    載のガスレーザ発振装置。
  3. (3)デューティ比変換部の代わりに外部パルス信号に
    より基本動作部の出力周波数をN倍とする周波数変換部
    を備えた請求項(1)記載のガスレーザ発振装置。
  4. (4)高電圧電源によるエネルギ注入開始から3ミリ秒
    以内において出力周波数をN倍とする請求項(3)記載
    のガスレーザ発振装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10321942A1 (de) * 2003-05-15 2004-12-09 Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von pulverförmigen Ethylen-Vinylalkohol-Mischpolymerisaten

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10321942A1 (de) * 2003-05-15 2004-12-09 Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung von pulverförmigen Ethylen-Vinylalkohol-Mischpolymerisaten

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